专利汇可以提供真空连续沉浸机的真空浸渍装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种密封效果好的 真空 连续沉浸机的 真空浸渍 装置,包括真空浸渍缸和两条相互平行的循环链,所述循环链安装于机壳内部,两条循环链对应的链轴之间连接有悬挂轴,该真空浸渍缸位于循环链下方的浸渍工位,且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降,所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖,该缸盖通过 悬挂装置 间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上,所述缸盖的下端安装有待浸渍 工件 ,所述真空浸渍缸的上端 法兰 上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置,所述真空浸渍缸与抽真空装置连接,在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖 定位 支撑 装置。,下面是真空连续沉浸机的真空浸渍装置专利的具体信息内容。
1. 真空连续沉浸机的真空浸渍装置,包括真空浸渍缸和两条相互平行的循环链,所述循环链安装于机壳内部,其特征在于:两条循环链对应的链轴之间连接有悬挂轴,该真空浸渍缸位于循环链下方的浸渍工位,且该真空浸渍缸由升降装置驱动升降,所述真空浸渍装置还包括若干个缸盖,该缸盖通过悬挂装置间隔均匀的悬挂于循环链的各悬挂轴上,所述缸盖的下端安装有待浸渍工件,所述真空浸渍缸的上端法兰上安装有与缸盖下端面密封配合的密封装置,所述真空浸渍缸与抽真空装置连接,在浸渍工位处位于下段循环链的上方安装有限制缸盖上移的缸盖定位支撑装置,所述缸盖定位支撑装置包括固定于机壳上的支撑梁,该支撑梁可与悬挂装置配合定位支撑,所述悬挂装置包括沿悬挂轴轴向设置的若干个挂钩,该挂钩的下端与缸盖固定连接,所述支撑梁上设有分别与各挂钩上端部一一对应配合的定位支撑块。
2. 如权利要求1 所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述缸盖定位支撑装置包括固定于机壳上的支撑梁,对应的,所述缸盖的上端设有与支撑梁顶紧限位的顶块。
3. 如权利要求1 或2所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述升降装置为液压升降平台。
4. 如权利要求3 所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述密封装置包括设置于真空浸渍缸的上端法兰上的密封垫,该密封垫与缸盖的下端面配合密封。
5. 如权利要求4 所述的真空连续沉浸机的真空浸渍装置,其特征在于:所述待浸渍工件通过挂钩或者悬挂吊篮安装于缸盖上。
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