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一种研磨材料制备方法

阅读:435发布:2020-05-12

专利汇可以提供一种研磨材料制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种 研磨 材料制备方法,包括以下步骤:将 氧 化锆、铈盐和锆盐颗粒干式 粉碎 ;采用酸、 碱 或盐来调节所述氧化锆颗粒、铈盐和锆盐组合物的pH值至1-4;添加螯合剂、 表面活性剂 、 防腐剂 、防霉剂或防锈剂;将从研磨装置排出的使用完毕的研磨用组合物暂时回收到容器内,从容器内再次向研磨装置供给。本发明的研磨材料更加适合用于蓝 宝石 、氮化 硅 、 碳 化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的研磨中。本发明方法制备的研磨材料更加适合用于蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的研磨中。,下面是一种研磨材料制备方法专利的具体信息内容。

1.一种研磨材料制备方法,包括化锆颗粒、铈盐和锆盐;其特征在于,包括以下步骤:
将氧化锆、铈盐和锆盐颗粒干式粉碎
采用酸、或盐来调节所述氧化锆颗粒、铈盐和锆盐组合物的pH值至1-4;
添加螯合剂、表面活性剂防腐剂、防霉剂或防锈剂;
将从研磨装置排出的使用完毕的研磨用组合物暂时回收到容器内,从容器内再次向研磨装置供给。
2.根据权利要求1所述的研磨材料制备方法,其特征在于,所述按重量计,所述氧化锆颗粒和所述铈盐的组合比例为7-5:3-5。
3.根据权利要求2所述的研磨材料制备方法,其特征在于,所述氧化锆颗粒具有1 ~
2
10m/g 的比表面积,所述氧化锆颗粒具有0.2μm 以下的平均一次粒径。
4.根据权利要求1所述的研磨材料制备方法,其特征在于,在每1mL 含有1 % 质量的氧化锆颗粒的分散液中,所述氧化锆颗粒之中具有4μm 以上的二次粒径的颗粒的个数为20000000 个以下。
5.根据权利要求2所述的研磨材料制备方法,其特征在于,所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7-5:2-4:1。
6.根据权利要求3所述的研磨材料制备方法,其特征在于,所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7:2:1。

说明书全文

一种研磨材料制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及金属研磨技术领域,更具体地说,涉及一种研磨材料制备方法。

背景技术

[0002] 在研磨蓝宝石、氮化化硅、化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的过程中,一般会使用到研磨材料和研磨用组合物。对于在研磨硬盘用玻璃基板液晶显示面板的玻璃基板、光掩模用合成石英基板等基板的用途中使用的研磨用组合物,为了提高研磨后的基板的品质,强烈要求研磨后的基板的表面粗糙度小以及研磨后的基板上如划痕那样的表面缺陷少。另外,为了缩短研磨操作所耗费的时间,还要求基板的研磨速度(去除速度)高。

发明内容

[0003] 本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种研磨材料制备方法。
[0004] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种研磨材料制备方法,包括氧化锆颗粒、铈盐和锆盐;其中,包括以下步骤:
将氧化锆、铈盐和锆盐颗粒干式粉碎
采用酸、或盐来调节所述氧化锆颗粒、铈盐和锆盐组合物的pH值至1-4;
添加螯合剂、表面活性剂防腐剂、防霉剂或防锈剂;
将从研磨装置排出的使用完毕的研磨用组合物暂时回收到容器内,从容器内再次向研磨装置供给。
[0005] 本发明所述的研磨材料制备方法,其中,所述按重量计,所述氧化锆颗粒和所述铈盐的组合比例为7-5:3-5。
[0006] 本发明所述的研磨材料制备方法,其中,所述氧化锆颗粒具有1 ~ 10m2/g 的比表面积,所述氧化锆颗粒具有0.2μm 以下的平均一次粒径。
[0007] 本发明所述的研磨材料制备方法,其中,在每1mL 含有1 % 质量的氧化锆颗粒的分散液中,所述氧化锆颗粒之中具有4μm 以上的二次粒径的颗粒的个数为20000000 个以下。
[0008] 本发明所述的研磨材料制备方法,其中,所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7-5:2-4:1。
[0009] 本发明所述的研磨材料制备方法,其中,所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7:2:1。
[0010] 本发明的有益效果在于:本发明方法制备的研磨材料更加适合用于蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的研磨中。

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