仿真奶嘴
专利汇可以提供仿真奶嘴专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种吸吮头部形状改良并具有弹 力 质感的仿真 奶嘴 。该仿真奶嘴吸吮头部外表面的外壁的波浪形与吸吮头部垂直的内壁而成型的厚薄不均之差异结构，此差异结构在柔软及高撕拉性能的 硅 胶材料辅助下，具有最佳的弹力及上下、左右的拉伸力，与 母乳 之奶头功能十分接近。它既加强了奶嘴头部的韧性又满足了婴儿对奶嘴从各种不同方向拉伸的需要，令奶嘴紧贴婴儿的 口腔 ，不会吸入空气且有效的解决了婴儿吮吸时胀气问题。它由呈垂直状的内壁以及该内壁所对应壁的厚、薄相间且连续非均匀结构的外壁所成型的吸吮头部、与瓶盖相套扣的环座体、吸吮部与环座体之间一体成型而隆起的底部、环座体与底部结合部的封 水 环上设有的透气 阀 门 组成。，下面是仿真奶嘴专利的具体信息内容。
1.一种仿真奶嘴，其特征在于：它由呈垂直状的内壁以及该内壁所对 应壁的厚、薄相间且连续非均匀结构的外壁所成型的吸吮头部、与瓶盖相 套扣的环座体、吸吮部与环座体之间一体成型而隆起的底部、环座体与底 部结合部的封水环上设有的透气阀门组成。
2.根据权利要求1所述的仿真奶嘴，其特征在于：所述吸吮头部外表 面的外壁是使该吸吮头部厚、薄不均的波浪形。
3.根据权利要求2所述的仿真奶嘴，其特征在于：所述吸吮头部厚、 薄不均结构的数据差异为0.3MM～1.0MM之间。
4.根据权利要求1所述的仿真奶嘴，其特征在于：所述透气阀门由封 水环部位的凹陷空腔及该凹陷空腔内设有的“L”字形切口组成。
5.根据权利要求1所述的仿真奶嘴，其特征在于：所述奶嘴采用柔软、 高撕拉性能的硅胶材料制成。
技术领域
背景技术
发明内容
本发明的目的可以通过以下措施来达到：
这种仿真奶嘴，其特殊之处在于：它由呈垂直状的内壁以及该内壁所 对应壁的厚、薄相间且连续非均匀结构的外壁所成型的吸吮头部、与瓶盖 相套扣的环座体、吸吮部与环座体之间一体成型而隆起的底部、环座体与 底部结合部的封水环上设有的透气阀门组成。
本发明的目的还可以通过以下措施来达到：
所述吸吮头部外表面的外壁是使该吸吮头部厚、薄不均的波浪形。
所述吸吮头部厚、薄不均结构的数据差异为0.3MM～1.0MM之间。
所述透气阀门由封水环部位的凹陷空腔及该凹陷空腔内设有的“L” 字形切口组成。
所述奶嘴采用柔软、高撕拉性能的硅胶材料制成。
本发明相比现有技术，具有如下优点：
1.奶嘴采用无毒、无害、高弹性、柔软、高撕拉性能的优质硅胶材料 制成，弹力质感强；产品符合美国FDA和欧洲EN71卫生标准。
2.奶嘴头部内壁曲线保持平直，外表面成波浪形的曲面形状而使得奶 嘴头部厚薄不均的特殊结构设计，并采用柔软、高撕拉性能的硅胶材料制 成，既加强了奶嘴头部的韧性又满足了婴儿对奶嘴从各种不同方向拉伸的 需要。
3.奶嘴模仿成母亲乳头形状的新颖设计，令奶嘴在婴儿口腔中的形状 和感觉都像婴儿直接吸吮母乳；奶嘴宽阔隆起的底部设计，令奶嘴紧贴婴 儿的口腔，不会吸入空气。
4.奶嘴底部封水环上的“L”字形切口的透气阀门，有效的解决了婴 儿吮吸时的胀气问题。
附图说明
图1是本发明的立体图。
图2是本发明的主视图。
图3是本发明的俯视图。
图4是图3的A-A向剖面视图。
图5是本发明透气阀门的结构示意图。
图6是本发明仿真奶嘴套设在奶瓶上的示意图。
具体实施方式
请参阅附图，该采用柔软、高撕拉性能的硅胶材料制成的仿真奶嘴由 外表面的波浪形外壁11、其对应部位的垂直状内壁12而成型为厚 (1.0MM)、薄(0.3MM)不均结构的吸吮头部1、与瓶盖5相套扣的环座 体2、吸吮头部1与环座体2之间一体成型而隆起的底部3、环座体2与 底部3结合部的封水环4上设有的透气阀门41组成。所述透气阀门41由 封水环4部位的凹陷空腔411及该凹陷空腔411内设有的“L”字形切口 (图中未示)组成。仿真奶嘴1装配到宽口径的奶瓶6上，婴儿咬啮仿真 奶嘴1的吸吮头部1吮吸时，模仿母亲乳头形状设计的奶嘴使婴儿感觉恰 似在吮吸母乳；婴儿撕拉奶嘴时，奶嘴的吸吮头部1由于胶位内壁12的 曲线保持均匀，外壁11由于成波浪形的曲面形状而使得吸吮头部1胶位 厚薄不均的特殊结构设计并采用柔软、高撕拉性能的硅胶材料，可不断拉 伸变形，从而满足了婴儿对奶嘴从各种不同方向拉伸的需求且不会被损 坏。
婴儿吮吸时，仿真奶嘴宽阔隆起的底部3紧贴婴儿的口腔，可有效防 止了婴儿在吮吸时吸入空气。当婴儿吮吸仿真奶嘴时，奶瓶6内的液体饮 料因被吮吸而减少，奶瓶6内的空间相应增大，从而产生负压；空气在大 气压的作用下，通过瓶盖5和仿真奶嘴的间隙7迫使透气阀门41打开， 气体进入奶瓶6内，补充了奶瓶6内的负压，当奶瓶6内的气压与外界大 气压达到平衡后，仿真奶嘴的透气阀门41自动关闭，以达到婴儿吮吸时 不会出现胀气的目的。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求范围所做的 均等变化与修饰，皆应属本发明权利要求的涵盖范围。
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