专利汇可以提供在材料处理系统中监视等离子体的方法和装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供一种改进的设备和方法以监视材料处理系统,其中材料处理系统包括 等离子体 处理工具,多个耦合至等离子体处理工具的射频响应 传感器 以产生和发送等离子体数据,和传感器 接口 组件(SIA)以从多个射频响应传感器接收等离子体数据。,下面是在材料处理系统中监视等离子体的方法和装置专利的具体信息内容。
1.一种材料处理系统,包括:
等离子体处理工具,其中等离子体处理工具包括一个处理室;
多个耦合至等离子体处理工具的射频响应等离子体传感器,射频 响应等离子体传感器被配置成可以为等离子体处理工具产生等离子体 数据并发送等离子体数据;以及
传感器接口组件(SIA),配置成可以从至少一个射频响应等离子 体传感器接收等离子体数据。
2.权利要求1所要求的材料处理系统,其中等离子体数据包括等 离子体密度,等离子体均匀性,等离子体持续时间,等离子体功率, 和等离子体化学中的至少一个。
3.权利要求1所要求的材料处理系统,其中至少一个射频响应等 离子体传感器包括:
过程化学传感器,以产生过程化学数据;以及
耦合到过程化学传感器的射频响应发射器以发送过程化学数据。
4.权利要求3所要求的材料处理系统,其中过程化学数据包括流 率,气体品种,流通时间,排气率,和压力数据中的至少一个。
5.权利要求1所要求的材料处理系统,其中至少一个射频响应等 离子体传感器包括:
等离子体传感器以产生等离子体数据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器,以发送等离子体数据。
6.权利要求5所要求的材料处理系统,其中等离子体传感器包括 朗缪尔探针,扫描朗缪尔探针,紫外探针,红外探针,微波探针、扫 描光发射光谱仪(OES),和干涉仪中的至少一个。
7.权利要求1所要求的材料处理系统,其中至少一个射频响应等 离子体传感器被耦合到处理室部件。
8.权利要求7所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响应 等离子体传感器包括:
等离子体传感器,配置成可以为室部件产生等离子体数据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器,以为室部件发送等离 子体数据。
9.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括一个上部组件,其 中至少一个射频响应等离子体传感器被耦合到上部组件的至少一个部 件。
10.权利要求9所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器包括:
等离子体传感器,用以为上部组件的该至少一个部件产生等离子 体数据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器,以对于上部组件的该 至少一个部件发送等离子体数据。
11.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括基片握持器,其 中至少一个射频响应等离子体传感器被耦合至该基片握持器。
12.权利要求11所要求的材料处理系统,其中该基片握持器包括 卡盘,静电卡盘(ESC),护罩,聚焦环,挡板,和电极中的至少一种。
13.权利要求11所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器包括:
等离子体传感器,用以为基片握持器产生等离子体数据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器,以为基片握持的发送 等离子体数据。
14.权利要求11所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器包括:
等离子体传感器,用以为在基片握持器上的晶片产生等离子体数 据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器,以为该晶片发送等离 子体数据。
15.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括一个环,其中至 少一个射频响应等离子体传感器被耦合至该环。
16.权利要求15所要求的材料处理系统,其中该环包括聚焦环, 屏蔽环,电极环,和绝缘体环中的至少一种。
17.权利要求15所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器包括:
等离子体传感器,用以为该环产生等离子体数据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器,以为该环发送等离子 体数据。
18.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括一平板,其中至 少一个射频响应等离子体传感器被耦合至该平板。
19.权利要求18所要求的材料处理系统,其中该平板包括排气平 板,挡气平板,电极平板,和绝缘体平板中的至少一种。
20.权利要求18所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器包括:
等离子体传感器,用以为平板产生等离子体数据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器以为平板发送等离子体 数据。
21.权利要求5所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器还包括耦合至该等离子体传感器和该射频响应发射 器中至少一个的计时器。
22.权利要求5所要求的材料处理系统,其中射频响应发射器包 括天线,用以发送响应信号,以及耦合至天线的发射器,其中该发射 器被配置成可以用等离子体数据来调制和/或编码响应信号。
23.权利要求5所要求的材料处理系统,其中该射频响应等离子 体传感器还包括功率源,该功率源耦合至等离子体传感器和射频响应 发射器中的至少一个。
24.权利要求23所要求的材料处理系统,其中该功率源包括用来 把从等离子体相关信号所发射的能量转换为直流信号的射频-直流转 换器,用来把非等离子体相关信号转换为直流信号的射频-直流转换 器,直流-直流转换器,和电池中的至少一个。
25.权利要求24所要求的材料处理系统,其中该功率源把直流信 号提供给等离子体传感器。
26.权利要求24所要求的材料处理系统,其中该功率源把直流信 号提供给射频响应发射器。
27.权利要求5所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器还包括控制器,该控制器耦合至等离子体传感器和 射频响应发射器中的至少一个。
28.权利要求27所要求的材料处理系统,其中该控制器包括微处 理器,微控制器,计时器,数字信号处理器(DSP),存储器,接收器, A/D转换器,D/A转换器中的至少一个。
29.权利要求1所要求的材料处理系统,其中至少一个射频响应 等离子体传感器包括:
等离子体传感器以产生等离子体数据;
耦合至等离子体传感器的射频响应发射器以发送等离子体数据; 以及
接收器,它耦合至等离子体传感器和射频响应发射器中的至少一 个。
30.权利要求29所要求的材料处理系统,其中该射频响应发射器 包括天线和背散射调制器。
31.权利要求29所要求的材料处理系统,其中该射频响应发射的 包括天线,用以发送响应信号,以及耦合至天线的发射器,其中发射 器被配置成可以用等离子体数据来调制和/或编码该响应信号。
32.权利要求31所要求的材料处理系统,其中该射频响应发射器 还包括射频-直流转换器,直流-直流转换器,和电池中的至少一个。
33.权利要求29所要求的材料处理系统,其中该射频响应等离子 体传感器还包括至少功率源,功率源用射频-直流转换器,直流-直 流转换器,和电池中的至少一个来产生直流信号。
34.权利要求29所要求的材料处理系统,其中该接收器包括天线 和处理器,该天线被用来接收输入信号,该处理器被配置成可以用该 输入信号来产生操作数据,并用此操作数据来控制该射频响应发射器, 该接收器,和该等离子体传感器中的至少一个。
35.权利要求34所要求的材料处理系统,其中该接收器还包括用 以把从过程相关信号发射的能量转换为直流信号的射频-直流转换 器,用以把非过程相关信号转换为直流信号的射频-直流转换器,直 流-直流转换器,和电池中的至少一个。
36.权利要求29所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器还包括控制器,该控制器耦合到接收器,等离子体 传感器,和射频响应发射器中的至少一个。
37.权利要求36所要求的材料处理系统,其中该控制器包括微处 理器,微控制器,数字信号处理器(DSP),存储器,A/D转换器,和 D/A转换器中的至少一个。
38.权利要求1所要求的材料处理系统,其中至少一个射频响应 等离子体传感器包括:
等离子体传感器以产生等离子体数据;以及
耦合至等离子体传感器的射频响应收发器,以发送等离子体数据。
39.权利要求38所要求的材料处理系统,其中该射频响应收发器 包括天线,用以发送响应信号,耦合至天线的发射器,其中该发射器 被配置成可用等离子体数据来调制和/或编码该响应信号,第二天线, 接收器,和处理器,该第二天线被用来接收输入信号,该接收器被配 置成可以用输入信号来产生操作数据,该处理器被配置成可以用操作 数据来控制该射频响应收发器。
40.权利要求38所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器还包括控制器,该控制器耦合至等离子体传感器和 射频响应收发器中的至少一个。
41.权利要求40所要求的材料处理系统,其中该控制器包括微处 理器,微控制器,数字信号处理器(DSP),计时器,存储器,A/D转 换器,和D/A转换器中的至少一个。
42.权利要求38所要求的材料处理系统,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器还包括至少功率源,它耦合至等离子体传感器和射 频响应收发器中的至少一个,功率源包括射频-直流转换器,直流- 直流转换器,和电池中的至少一个。
43.权利要求1所要求的材料处理系统,其中SIA包括:
接收器,用以接收响应信号,该响应信号包括从至少一个射频响 应等离子体传感器来的等离子体数据;以及
发射器,用以向该至少一个射频响应等离子体传感器发送输入信 号,其中该输入信号引起该至少一个射频响应等离子体传感器向接收 器送出响应信号。
44.权利要求1所要求的材料处理系统,其中该材料处理系统还 包括:
耦合至SIA的控制器,该控制器被用来分析等离子体数据,其中 该控制器把等离子体数据与目标电性能数据加以比较,并用这种比较 来改变一个过程。
45.权利要求1所要求的材料处理系统,其中该材料处理系统还 包括:
耦合至SIA的控制器,该控制器被用来分析等离子体数据,其中 该控制器把等离子体数据与历史上的等离子体数据加以比较,并用这 种比较来预示一种故障。
46.权利要求1所要求的材料处理系统,其中该材料系统还包括:
耦合至SIA的控制器,该控制器被用以分析等离子体数据,其中 该控制器把等离子体数据和历史上的等离子体数据加以比较,并用这 种比较来宣布一种故障。
47.权利要求1所要求的材料处理系统,其中该材料处理系统还 包括:
耦合至SIA的控制器,该控制器用来向SIA提供指令数据。
48.权利要求1所要求的材料处理系统,其中该材料处理系统还 包括:
耦合至SIA的控制器,该控制器用以分析等离子体数据和控制处 理工具。
49.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括射频系统,其中 一个射频响应等离子体传感器被耦合至至少一个射频系统部件。
50.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括气体供给系统, 其中一个射频响应等离子体传感器被耦合至至少一个气体供给系统部 件。
51.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括转移系统,其中 一个射频响应等离子体传感器被耦合至至少一个转移系统部件。
52.权利要求1所要求的材料处理系统,还包括排气系统,其中 一个射频响应等离子体传感器被耦合至至少一个排气系统部件。
53.权利要求1所要求的材料处理系统,其中材料处理系统还包 括:
耦合至SIA的控制器,该控制器用以分析等离子体数据并用此分 析结果来决定何时对处理工具进行维护。
54.一种射频响应等离子体传感器,包括:
等离子体传感器,为在材料处理系统中的一个部件产生等离子体 数据;以及
和该等离子体传感器耦合的射频响应发射器,以为该部件发送等 离子体数据。
55.权利要求54所要求的射频响应等离子体传感器,其中该部件 是一个腐蚀系统的一部分。
56.权利要求54所要求的射频响应等离子体传感器,其中该部件 是一个淀积系统的一部分。
57.权利要求54所要求的射频响应等离子体传感器,其中该部件 是一个清洗系统的一部分。
58.权利要求54所要求的射频响应等离子体传感器,其中该部件 是一个转移系统的一部分。
59.一种等离子体处理系统,包括:
处理工具,其中该处理工具包括一个等离子体室;
多个直流电合至该处理工具的射频响应等离子体传感器以产生和 发送等离子体数据,其中至少一个射频响应等离子体传感器被耦合到 等离子体室;以及
传感器接口组件(SIA),用以接收从多个射频响应等离子体传感 器送来的等离子体数据。
60.权利要求59所要求的材料处理系统,其中该处理系统还包括:
耦合至SIA的控制器,该控制器被用以分析等离子体数据以及控 制等离子体处理系统。
61.一种监视包括一个处理工具的材料处理系统的方法,其中该 处理工具包括至少一个处理室,该方法包括:
提供耦合至处理工具的射频响应等离子体传感器,其中该射频响 应等离子体传感器被用以产生和发送等离子体数据;以及
提供传感器接口组件(SIA),其中SIA被用以从射频响应等离子 体传感器接收等离子体数据。
62.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
产生等离子体数据;以及
发送等离子体数据,其中射频响应等离子体传感器接收包括操作 数据的输入信号并用该操作数据以响应信号来发送等离子体数据。
63.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
产生等离子体数据;以及
发送等离子体数据,其中该等离子体数据包括淀积数据和腐蚀数 据中的至少一个。
64.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
把至少一个射频响应等离子体传感器耦合至一个室部件;
为室部件产生等离子体数据;以及
为室部件发送等离子体数据,其中该至少一个射频响应等离子体 传感器包括等离子体传感器和耦合至等离子体传感器的射频响应发射 器。
65.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
把至少一个射频响应等离子体传感器耦合至上部组件的一个部 件;
对于上部组件的该部件产生等离子体数据;以及
对上部组件的该部件发送等离子体数据,其中该至少一个射频响 应等离子体传感器包括等离子体传感器和耦合至等离子体传感器的射 频响应发射器。
66.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
把至少一个射频响应等离子体传感器耦合至一个基片握持器;
为基片握持器产生等离子体数据;以及
为基片握持器发送等离子体数据,其中该至少一个射频响应等离 子体传感器包括等离子体传感器和耦合至等离子体传感器的射频响应 发射器。
67.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
把至少一个射频响应等离子体传感器耦合至一个晶片;
为该晶片产生等离子体数据;以及
为该晶片发送等离子体数据,其中该至少一个射频响应等离子体 传感器包括等离子体传感器和耦合至等离子体传感器的射频响应发射 器。
68.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
把射频响应等离子体传感器耦合到转移系统部件,射频系统部件, 气体供给系统部件,和排气系统部件中的至少一个;
为该部件产生等离子体数据;以及
为该部件发送等离子体数据,其中该至少一个射频响应等离子体 传感器包括等离子体传感器和耦合至等离子体传感器的射频响应发射 器。
69.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
把至少一个射频响应等离子体传感器耦合至一个环;
为该环产生等离子体数据;以及
为该环发送等离子体数据,其中该至少一个射频响应等离子体传 感器包括等离子体传感器和耦合至等离子体传感器的射频响应发射 器。
70.权利要求69所要求的监视材料处理系统的方法,其中该环包 括聚焦环,屏蔽环,淀积环,电极环和绝缘体环中的至少一种。
71.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
把至少一个射频响应等离子体传感器耦合至一个平板;
为该平板产生等离子体数据;以及
为该平板发送等离子体数据,其中该至少一个射频响应等离子体 传感器包括等离子体传感器和耦合至该等离子体传感器的射频响应发 射器。
72.权利要求71所要求的监视材料处理系统的方法,其中该平板 包括阻挡板,排气板,电极板,和注入板中的至少一种。
73.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
把至少一个功率源耦合至一个射频响应等离子体传感器,其中该 射频响应等离子体传感器包括等离子体传感器和耦合至等离子体传感 器的射频响应发射器;
产生直流信号;以及
把该直流信号供给至该射频响应发射器和该等离子体传感器中的 至少一个。
74.权利要求73所要求的监视材料处理系统的方法,其中该方法 还包括:
用电池,滤波器,射频-直流转换器,和直流-直流转换器中的 至少一个来产生直流信号。
75.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
用SIA发送输入信号,该SIA包括发射器,其中该输入信号包括 操作数据;以及
接收等离子体数据,其中该SIA包括接收器,用以从至少一个射 频响应等离子体传感器接收响应信号。
76.权利要求75所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
产生等离子体数据;以及
发送等离子体数据,其中该射频响应等离子体传感器接收输入信 号并用操作数据来以响应信号发送等离子体数据。
77.权利要求61所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
用SIA来发送输入信号,该SIA包括发射器,其中输入信号包括 操作数据;
接收输入信号,其中射频响应等离子体传感器包括接收器,用以 接收该输入信号并从输入信号来得到操作数据;
产生等离子体数据,其中射频响应等离子体传感器包括等离子体 传感器,用以产生等离子体数据;
发送等离子体数据,其中射频响应等离子体传感器包括发射器, 用以用响应信号来发送等离子体数据;以及
接收等离子体数据,该SIA包括接收器,用以从至少一个射频响 应等离子体传感器接收该响应信号。
78.权利要求77所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
当等离子体没有正在被产生时用SIA来发送输入信号;
当等离子体没有正在被产生时,接收该输入信号。
79.权利要求77所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
当一个过程正在被进行时,产生等离子体数据;
当等离子体没有正在被产生时,用射频响应等离子体传感器来发 送响应信号;以及
当等离子体没有正在被产生时,接收响应信号。
80.权利要求77所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
存储等离子体数据,其中该射频响应等离子体传感器包括存储器 用以存储等离子体数据。
81.权利要求77所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
提供直流信号,其中该射频响应等离子体传感器包括功率源,用 以产生直流信号并把该直流信号供给至射频响应等离子体传感器接收 器和射频响应等离子体传感器发射器中的至少一个。
82.权利要求81所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
提供直流信号,其中该射频响应等离子体传感器包括功率源,用 以通过把至少一个等离子体相关频率转换为直流信号来产生直流信 号。
83.权利要求81所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
提供直流信号,其中该射频响应等离子体传感器包括功率源,用 以通过把至少一个非等离子体相关频率转换为直流信号来产生直流信 号。
84.权利要求81所要求的监视材料处理系统的方法,该方法还包 括:
提供直流信号,其中射频响应等离子体传感器包括功率源,用以 通过把输入信号的一部分转换为直流信号来产生直流信号。
85.权利要求54所要求的射频响应等离子体传感器,其中等离子 体数据包括部件标志,等离子体密度,等离子体均匀性,等离子体持 续时间,等离子体功率和等离子体化学中的至少一个。
本发明涉及在一个处理系统中监视一个过程,以及更具体地讲, 用带有一个积分传输器件的一个监视装置来监视一个过程。
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