专利汇可以提供一种磁絮凝沉淀污水处理系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种磁絮凝沉淀污 水 处理 系统,包括改良反应池、 沉淀池 、磁粉回收系统和 污泥 排放系统,所述改良反应池内部通过隔板分隔为混凝反应区、磁粉加载区和絮凝反应区,所述磁粉加载区和絮凝反应区的底部中心 位置 分别设有第一导流板, 侧壁 上分别设有第二导流板,并且磁粉加载区和絮凝反应区中间的隔板两侧也分别设有第二导流板,本实用新型通过反应池的改良设计,对水流进行导流,提高絮凝效果,防止池底污泥堆积。,下面是一种磁絮凝沉淀污水处理系统专利的具体信息内容。
1.一种磁絮凝沉淀污水处理系统,其特征在于,包括改良反应池、沉淀池、磁粉回收系统和污泥排放系统,
所述改良反应池内部通过隔板分隔为混凝反应区、磁粉加载区和絮凝反应区,所述磁粉加载区和絮凝反应区的底部中心位置分别设有第一导流板,侧壁上分别设有第二导流板,并且磁粉加载区和絮凝反应区中间的隔板两侧也分别设有第二导流板;
所述磁粉回收系统包括依次设置的磁粉回收分配装置、剪切机和磁分离器,沉淀池底部排出的污泥经过管路排至所述的磁粉回收分配装置;
所述磁粉回收分配装置设有两根出泥管路,一根连接改良反应池的磁粉加载区、一根连接剪切机;所述磁分离器分离的磁粉再次投加入所述磁粉加载区。
2.根据权利要求1所述的磁絮凝沉淀污水处理系统,其特征在于,所述改良反应池前端设有前置活性炭接触池。
3.根据权利要求1所述的磁絮凝沉淀污水处理系统,其特征在于,所述第一导流板包括呈十字状布置的竖板,相邻竖板与池体底部的夹角处填充为圆弧状的斜面。
4.根据权利要求1或3所述的磁絮凝沉淀污水处理系统,其特征在于,所述第二导流板上设有至少一个用于水流穿过的孔洞;水流进入后,在第一导流板、第二导流板的作用下形成上升旋流。
5.根据权利要求1所述的磁絮凝沉淀污水处理系统,其特征在于,所述磁粉加载区和絮凝反应区的底部四角处分别设有用于防止污泥堆积的垫块,所述垫块填充在底部的四个角上,构成圆弧状的斜面。
6.根据权利要求1所述的磁絮凝沉淀污水处理系统,其特征在于,所述沉淀池上层为沉淀反应区,设有斜管;下层为污泥收集区,设有锥形泥斗和刮泥机。
7.根据权利要求2所述的磁絮凝沉淀污水处理系统,其特征在于,所述前置活性炭接触池、混凝反应区、磁粉加载区和絮凝反应区内分别设有搅拌机。
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