一种分段式硅片超声波清洗装置
专利汇可以提供一种分段式硅片超声波清洗装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种分段式 硅 片 超 声波 清洗装置，包括预清理装置和位于预清理装置下方的清洗装置，预清理装置包括清理室，清理室两 侧壁 的上下端分别开设有窗口，上下端窗口内分别贯穿设置有遮 挡板 ，位于清理室内侧的遮挡板之间设置两个喷气嘴，两个喷气嘴之间设有抽 风 机，位于清理室外侧的遮挡板一端固接自动伸缩杆，且之间设有压两台空气 压缩机 ，空气压缩机分别与对应的喷气嘴连接，两台空气压缩机之间设有抽风管，抽风管与抽风机连接。本实用新型能够在进行 超声波 清洗之前将 硅片 残留的一些灰尘及较大的杂质除去，防止这些杂质进入超声波清洗溶液中而对溶液产生污染，进而保证了硅片表面的清洁程度。，下面是一种分段式硅片超声波清洗装置专利的具体信息内容。
1.一种分段式硅片超声波清洗装置，其特征在于：包括预清理装置(1)和位于预清理装置(1)下方的清洗装置(10)，所述预清理装置(1)包括清理室(2)，所述清理室(2)两侧壁的上下端分别开设有窗口(3)，上下端所述窗口(3)内分别贯穿设置有遮挡板(4)，位于所述清理室(2)内侧的所述遮挡板(4)之间设置两个喷气嘴(5)，两个所述喷气嘴(5)之间设有抽风机(6)，位于所述清理室(2)外侧的所述遮挡板(4)一端固接自动伸缩杆(9)，且之间设有压两台空气压缩机(7)，所述空气压缩机(7)分别与对应的所述喷气嘴(5)连接，两台所述空气压缩机(7)之间设有抽风管(8)，所述抽风管(8)与所述抽风机(6)连接，所述清理室(2)下方固接有清洗槽(11)，所述清洗槽(11)的外侧安装有控制器(12)和控制面板(13)，所述清洗槽(11)内部由上至下依次安装有水温传感器(14)、加热器(15)及超声波发生器(16)，所述清洗槽(11)侧壁连接有进水管道(17)，底部中心连接有排水管道(18)。
2.根据权利要求1所述的一种分段式硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述窗口(3)为偏平的长条形，且所述窗口(3)的高度略大于遮挡板(4)的厚度。
3.根据权利要求1所述的一种分段式硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述空气压缩机(7)的内部设置有空气过滤件。
4.根据权利要求1所述的一种分段式硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述水温传感器(14)的输出端电性连接所述控制器(12)的输入端，所述控制器(12)的输出端电性连接所述加热器(15)的输入端。
一种分段式硅片超声波清洗装置
技术领域
背景技术
具体实施方式
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