VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON SUBSTRATEN
专利汇可以提供VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON SUBSTRATEN专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且Die Erfindung schafft ein Verfahren zum Herstellen von Substraten (200), welche durch aufeinanderfolgende flächige Prozessschritte mit einer ersten Schicht (210 und zumindest einer auf die erste Schicht (210) abgestimmten zweiten Schicht (220 hergestellt werden. Zunächst werden auf der ersten Schicht (210) mehrere Markierungen (211) vermessen und für jede Markierung (211) eine Abweichung der Ist-Position von der Soll-Position bestimmt. Aus diesen Abweichungen wird eine Transformation FTrans1 für die Positionsabweichungen von beliebigen Gitterpunkten der ersten Schicht (210) und eine Transformation FTrans2 für mögliche Positionsabweichungen von Gitterpunkten der zweiten Schicht (220) bestimmt. Bei der Bestimmung der Transformation FTrans2 werden vorbekannte Rand bedingungen für ein mögliches Verhalten des Verzuges der zweiten Schicht berücksichtigt. Beim nachfolgendem Bearbeiten der zweiten Schicht (220) wird eine kombinierte Transformation aus den beiden zuvor bestimmten. Transformationen FTrans I und FTrans2 berücksichtigt. Dadurch kann trotz unterschiedli cher Verzüge der beiden Schichten (210, 220) eine zuverlässige Kontaktierung von Leiterbahnen gewährleistet werden, so dass bei der Herstellung von mehrschichtigen Leiterplatten ein geringer Ausschuss an defekten Leiterplatten erzeugt wird.，下面是VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON SUBSTRATEN专利的具体信息内容。
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