一种阵列基板及显示装置
阅读：767发布：2020-05-14
专利汇可以提供一种阵列基板及显示装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种阵列 基板 及显示装置，在本发明 实施例 中，显示区域包括光学器件设置区域，在光学器件设置区域处设置有光学器件时，可以避免光学器件设置在边框时占用面积较大的问题，从而可以使得边框设置的较窄，提高屏占比，实现窄边框的设计。并且，因遮挡结构包括两个以上分部， 信号 线对应设置于相邻两个分部之间的间隙处，使得沿着信号线的延伸方向上，在需要制作信号线的区域具有平坦的表面，避免了因表面不平坦出现段差而导致的曝光准确度降低的问题出现，进而避免因曝光准确度低引起制作的信号线的宽度不一致而导致断线的问题出现，保证得到的信号线宽度一致，减少断线的几率，从而提高了阵列基板的可靠性。，下面是一种阵列基板及显示装置专利的具体信息内容。
1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区域，所述显示区域包括常规显示区域和光学器件设置区域，所述常规显示区域至少部分围绕所述光学器件设置区域；所述阵列基板还包括：
衬底基板；
依次设置于所述衬底基板之上的光学器件、遮挡结构、以及信号线，所述光学器件和所述遮挡结构均位于所述光学器件设置区域内，所述光学器件具有用于接收光线的开口，所述开口与所述遮挡结构在所述衬底基板上的正投影无交叠；
其中，所述遮挡结构沿着第一方向延伸，所述信号线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉，所述遮挡结构包括两个以上分部，所述信号线对应设置于相邻两个所述分部之间的间隙处。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，相邻两个所述分部之间的间隙处对应设置一条所述信号线。
3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，相邻两个所述分部之间的距离大于所述信号线的宽度。
4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括平坦化层，所述平坦化层位于所述遮挡结构面向所述衬底基板的一侧。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦化层面向所述信号线的一侧表面具有凹槽，所述遮挡结构位于所述凹槽内。
6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述遮挡结构远离所述衬底基板一侧的表面所在平面为第一平面，所述平坦化层远离所述衬底基板一侧且除所述凹槽之外的表面所在平面为第二平面，所述第一平面与所述第二平面为同一平面。
7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的深度等于所述遮挡结构在垂直于所述衬底基板表面方向上的长度。
8.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述光学器件包括PIN光电二极管。
9.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述信号线为触控信号线。
10.如权利要求1-9任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域包括多个像素，所述像素包括：位于所述常规显示区域内的第一像素、以及位于所述光学器件设置区域内的第二像素；
所述第一像素的设置密度大于所述第二像素的设置密度。
11.一种显示装置，其特征在于，包括显示面板；
所述显示面板包括相对而置的阵列基板和对向基板，所述阵列基板如权利要求1-10任一项所述。
一种阵列基板及显示装置
技术领域
[0001] 本发明涉及显示技术领域，尤指一种阵列基板及显示装置。
背景技术
[0003] 液晶显示器中的显示面板一般具有显示区域和边框区域，边框区域围绕显示区域，边框区域内可以设置有指纹识别器件等光学器件，由于指纹识别器件的体积的较大，所以使得占用的边框区域的面积较大，导致在实现高屏占比、实现窄边框设计时受到了较大的限制。
[0004] 那么，如何提高显示面板的高屏占比，实现窄边框设计，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
[0005] 本发明实施例提供了一种阵列基板及显示装置，用以提高显示面板的高屏占比，实现窄边框设计。
[0006] 第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括常规显示区域和光学器件设置区域，所述常规显示区域至少部分围绕所述光学器件设置区域；所述阵列基板还包括：
[0007] 衬底基板；
[0008] 依次设置于所述衬底基板之上的光学器件、遮挡结构、以及信号线，所述光学器件和所述遮挡结构均位于所述光学器件设置区域内，所述光学器件具有用于接收光线的开口，所述开口与所述遮挡结构在所述衬底基板上的正投影无交叠；
[0009] 其中，所述遮挡结构沿着第一方向延伸，所述信号线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉，所述遮挡结构包括两个以上分部，所述信号线对应设置于相邻两个所述分部之间的间隙处。
[0010] 第二方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括显示面板；
[0011] 所述显示面板包括相对而置的阵列基板和对向基板，所述阵列基板如本发明实施例提供的上述阵列基板所述。
[0012] 本发明有益效果如下：
[0013] 本发明实施例提供的一种阵列基板及显示装置，首先，显示区域包括光学器件设置区域，在光学器件设置区域处设置有光学器件时，可以避免光学器件设置在边框时占用面积较大的问题，从而可以使得边框设置的较窄，提高屏占比，实现窄边框的设计。
[0014] 其次，因遮挡结构包括两个以上分部，信号线对应设置于相邻两个分部之间的间隙处，使得沿着信号线的延伸方向上，在需要制作信号线的区域具有平坦的表面，避免了因表面不平坦出现段差而导致的曝光准确度降低的问题出现，进而避免因曝光准确度低引起制作的信号线的宽度不一致而导致断线的问题出现，也即提高曝光工艺的准确度，保证得到的信号线宽度一致，减少断线的几率，从而提高了阵列基板的可靠性。附图说明
[0015] 图1为本发明实施例中提供的一种阵列基板的结构示意图；
[0016] 图2为本发明实施例中提供的另一种阵列基板的结构示意图；
[0017] 图3为图1中的虚线框1和虚线框2内的局部放大示意图；
[0018] 图4为沿着图3中的X1-X2方向所示的剖视图；
[0019] 图5为沿着图3中的X3-X4方向所示的一种剖视图；
[0020] 图6为沿着图3中的X3-X4方向所示的另一种剖视图；
[0021] 图7为指纹识别原理示意图；
[0022] 图8为本发明实施例中提供的遮挡结构与信号线之间的设置关系的示意图；
[0023] 图9为本发明实施例中提供的遮挡结构与平坦化层之间的位置关系的示意图；
[0024] 图10为本发明实施例中提供的光学器件与遮挡结构之间的设置关系的示意图；
[0025] 图11为本发明实施例中提供的一种显示装置的结构示意图；
[0026] 图12为本发明实施例中提供的另一种显示装置的结构示意图。
[0027] 其中，A-显示区域，A1-常规显示区域，C-光学器件设置区域，B-边框区域，10-光学器件，11-开口，12-光学二极管，12a-P型结构、12b-半导体结构，12c-N型结构，20-遮挡结构，20a、20b-分部，30-信号线，40-平坦化层，41-凹槽，50-手指，51-指纹峰，52-指纹谷，60-衬底基板，70-像素电极，80-公共电极，P1-第一像素，P2-第二像素，101-阵列基板，102-对向基板，103-液晶，100-显示面板，200-背光模组，M-显示装置。
具体实施方式
[0028] 下面将结合附图，对本发明实施例提供的一种阵列基板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。需要说明的是，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0029] 本发明实施例提供了一种阵列基板，如图1至图6所示，其中，图1为一种阵列基板的结构示意图，图2为另一种阵列基板的结构示意图，图3为图1中的虚线框1和虚线框2内的局部放大示意图，图4为沿着图3中的X1-X2方向所示的剖视图，图5为沿着图3中的X3-X4方向所示的一种剖视图，图6为沿着图3中的X3-X4方向所示的另一种剖视图。
[0030] 参见图1和图2所示，阵列基板可以包括显示区域A，显示区域A包括常规显示区域A1和光学器件设置区域C，常规显示区域A1至少部分围绕光学器件设置区域C；
[0031] 其中，如图1所示，光学器件设置区域C位于显示区域A的边缘，即靠近边框区域B设置；或者，还可以如图2所示，光学器件设置区域C位于常规显示区域A1的内部。
[0032] 并且，对于光学器件设置区域C的形状，可以设置为方形(如图1所示)、椭圆形(如图2所示)、或其他形状，可以根据光学器件的形状进行设计，在此并不限定。
[0033] 参见图3至图6所示，阵列基板还包括：
[0034] 衬底基板60；
[0035] 依次设置于衬底基板60之上的光学器件10、遮挡结构20、以及信号线30，光学器件10和遮挡结构20均位于光学器件设置区域C内，光学器件10具有用于接收光线的开口11，开口11与遮挡结构20在衬底基板60上的正投影无交叠；
[0036] 其中，遮挡结构20沿着第一方向(如图3中的X方向)延伸，信号线30沿第二方向(如图3中的Y方向)延伸，第一方向与第二方向交叉，遮挡结构20包括两个以上分部(如图3中的20a和20b)，信号线30对应设置于相邻两个分部之间的间隙处。
[0037] 在本发明实施例中，显示区域A包括光学器件设置区域C，在光学器件设置区域C处设置有光学器件10时，可以避免光学器件10设置在边框时占用面积较大的问题，从而可以使得边框设置的较窄，提高屏占比，实现窄边框的设计。
[0038] 并且，因遮挡结构20包括两个以上分部(如图3中的20a和20b)，信号线30对应设置于相邻两个分部之间的间隙处，使得沿着信号线30的延伸方向上，在需要制作信号线30的区域具有平坦的表面，避免了因表面不平坦出现段差而导致的曝光准确度降低的问题出现，进而避免因曝光准确度低引起制作的信号线30的宽度不一致而导致断线的问题出现，也即提高曝光工艺的准确度，保证得到的信号线30宽度一致，减少断线的几率，从而提高了阵列基板的可靠性。
[0039] 此外，可选地，光学器件10可以为指纹识别器件时，此时，如图7所示的指纹识别原理示意图，通过设置的遮挡结构20，使得指纹识别器件可以仅接收开口11对应区域的光线，减少其他杂质光线对指纹识别器件的影响，提高指纹识别器件的识别准确性，以及提高指纹识别器件识别的灵敏度。
[0041] 其中，PIN光电二极管12工作原理为：
[0042] 参见图7所示，在有光线照射到手指50表面时，手指50表面对入射光线进行反射，即将入射光线反射至PIN光电二极管12中，PIN光电二极管12中的半导体结构12b在接收到光线照射后，吸收光线的能量产生电子-空穴对，然后在内建电场的作用下，电子转移至N型结构12c中，空穴转移至P型结构12a中，再通过分别与N型结构12c和P型结构12a电连接的走线将电子和空穴导出，形成电流信号。
[0043] 指纹识别的过程为：
[0044] 由于手指50的指纹存在指纹峰51和指纹谷52，如图7所示，且指纹峰51和指纹谷52对光的反射作用不同，使得反射至光学器件(即指纹识别器件)中的光线的能量不同，进而使得光学器件产生电流信号的大小也就不同，通过不同光学器件产生的不同电流，可以实现指纹识别。
[0045] 当然，光学器件除了包括PIN光电二极管12之外，还可以包括其他能够实现光学器件功能的结构，如晶体管(如图7中的所示的TFT，可以控制将PIN光电二极管12中生成的电流信号导出)等，具体可参见现有技术，在此不再详述。
[0046] 并且，对于PIN光电二极管12中N型结构12c、半导体结构12b和P型结构12a的制作材料选择，在此并不限定，只要能够实现N型结构12c、半导体结构12b和P型结构12a功能的制作材料均可，可以根据实际需要进行选择，以满足不通过应用场景的需要，提高设计的灵活性。
[0047] 说明一点，可选地，光学器件还可以是实现其他功能的结构，并不限于指纹识别器件，可以根据实际需要进行设置，以满足不通过应用场景的需要，提高设计的灵活性。
[0048] 可选地，在本发明实施例中，相邻两个分部(如20a和20b)之间的间隙处对应设置一条信号线30，如图3和图8所示，图8为遮挡结构20与信号线30之间的设置关系的示意图。
[0049] 如此设置：
[0050] 一方面，可以避免相邻两个分部之间设置多条信号线30时可能会导致的相邻两个分部之间的间距过大，进而避免因间距过大引起各分部的尺寸减小而对遮挡作用造成不良影响，从而可以保证遮挡结构20具有较优的遮挡作用。
[0051] 另一方面，可以避免相邻两个分部之间设置多条信号线30时导致的信号线30与两个分部之间的距离太小，进而避免在制作信号线30时因距离分部的边缘较近导致信号线30的宽度不一致，从而可以保证信号线30的宽度一致，同时保证信号在信号线30上的有效传输，避免断线的问题出现。
[0052] 再一方面，因相邻两个分部之间的距离有限，若在相邻两个分部之间设置多条信号线30时，使得相邻信号线30之间的距离较小，容易出现短路的风险，如此设置可以避免这种问题的出现，从而保证信号在信号线30上的有效传输。
[0053] 可选地，在本发明实施例中，相邻两个分部之间的距离大于信号线的宽度。
[0054] 例如，如图8所示，相邻两个分部分别标记为20a和20b，分部20a和分部20b之间的距离为h1，信号线30的宽度为h2，其中h1大于h2。
[0055] 其中，在具体实施时，相邻两个分部之间的距离h1可以设置为3微米至8微米，信号线30的宽度h2可以设置为4微米至7微米，当然并不限于此，只要能够避免分部对制作信号线30时造成的不良影响即可。
[0056] 如此设置，可以保证避免分部对制作信号线30时造成的不良影响，以保证制作的信号线30的宽度一致，同时保证信号在信号线30上的有效传输，避免断线的问题出现。
[0057] 可选地，在本发明实施例中，遮挡结构可以采用任何具有遮光作用的材料制作而成，如黑色有机材料、金属或其他无机材料等，在此并不限定。
[0058] 在具体实施时，在本发明实施例中，阵列基板还包括平坦化层，平坦化层位于遮挡结构20面向衬底基板60的一侧，如图5和图6所示，平坦化层40位于半导体结构12a与遮挡结构20之间。
[0059] 如此，通过设置平坦化层，可以使得在制作信号线30时具有平整的表面，以便于制作的信号线30的宽度更加一致，如图4所示，还可以简化信号线30的制作难度，从而提高阵列基板的制作效率和良率。
[0060] 具体地，在本发明实施例中，在对遮挡结构20和平坦化层之间的位置关系进行设置时，可以有以下几种方式：
[0061] 方式1：
[0062] 可选地，参见图6所示，遮挡结构20设置于平坦化层40背离衬底基板60的一侧表面，且平坦化层40背离衬底基板60的一侧表面的任意位置均为一平坦的表面。
[0063] 此时，由于遮挡结构20具有多个分部，信号线位于两个分部之间，所以采用图6中的结构设置，同样可以保证信号线的宽度一致，减少断线的几率，进而保证信号在信号线上的正常传输，提高阵列基板的可靠性。
[0064] 方式2：
[0065] 可选地，参见图5所示，平坦化层40面向信号线的一侧表面具有凹槽41，遮挡结构20位于凹槽41内。
[0066] 如此，通过将遮挡结构20设置于凹槽41内，遮挡结构20与平坦化层40构成的整体在背离衬底基板一侧的表面具有相对平坦的表面，使得在制作信号线时，避免了因遮挡结构20带来的段差而造成信号线宽度不一致的问题出现，可以进一步提高信号线宽度的一致性，大大降低断线的几率，有效保证信号在信号线上的正常传输，从而大大提高阵列基板的可靠性。
[0067] 具体地，在本发明实施例中，遮挡结构20远离衬底基板一侧的表面所在平面为第一平面，平坦化层40远离衬底基板一侧且除凹槽41之外的表面所在平面为第二平面，第一平面与第二平面为同一平面。
[0068] 例如，如图9所示的遮挡结构20与平坦化层40之间的位置关系的示意图，第一平面用M1表示，第二平面用M2表示，其中第一平面M1和第二平面M2均在平面M0内。
[0069] 如此，保证遮挡结构20与平坦化层40构成的整体在背离衬底基板一侧的表面具有非常平坦的表面，有利于进一步提高信号线宽度的一致性，有利于有效保证信号在信号线上的正常传输，从而有利于大大提高阵列基板的可靠性。
[0070] 具体地，在本发明实施例中，凹槽41的深度等于遮挡结构20在垂直于衬底基板表面方向上的长度。
[0071] 例如，如图9所示，凹槽41的深度用h4表示，垂直于衬底基板表面方向用Z表示，遮挡结构20在Z方向上的长度为遮挡结构20的厚度，用h3表示，其中h3等于h4。
[0072] 其中，在实际制作过程中，凹槽的深度h4可以设置为2.7微米-4微米，凹槽的面积可以设置为5*5平方微米至10*10平方微米，此时遮挡结构的厚度h3也可以设置为2.7微米-4微米，遮挡结构的面积也可以设置为5*5平方微米至10*10平方微米，或小于5*5平方微米，只要遮挡结构可以设置于凹槽内即可，对于凹槽和遮挡结构的具体尺寸在此并不限定。
[0073] 如此，可以使得遮挡结构20位于凹槽41内部，进而使得遮挡结构20与平坦化层40构成的整体在背离衬底基板一侧的表面具有非常平坦的表面，从而避免对信号线的制作过程造成不良影响，提高阵列基板的可靠性。
[0074] 通过上述方式1和方式2两种方式，均可以保证信号线具有较为一致的宽度，保证信号的有效传输。并且，在实际情况中，可以根据实际情况选择采用方式1还是采用方式2，在此并不限定。
[0075] 在实际情况中，对于遮挡结构20的设置，除了可以按照图3中所示在Y方向上设置遮挡结构20，还可以在X方向和Y方向均设置遮挡结构20，如图10所示的光学器件与遮挡结构20之间的设置关系的示意图，也就是说，在光学器件的四周均设置有遮挡结构20，使得遮挡结构20可以设置在开口11的四周，对开口11周边的杂质光进行有效地遮挡，从而在光学器件为指纹识别器件时，可以有效提高指纹识别器件的识别准确率和识别灵敏度，大大提高显示装置的性能。
[0076] 在具体实施时，在本发明实施例中，信号线可以为触控信号线，以使采用本发明实施例提供的上述阵列基板制作的显示面板具有触控功能，从而扩展显示面板的功能，拓宽显示面板的应用领域。
[0077] 在具体实施时，在本发明实施例中，显示区域包括多个像素，像素包括：位于常规显示区域A1内的第一像素、以及位于光学器件设置区域C内的第二像素；
[0078] 第一像素的设置密度大于第二像素的设置密度。
[0079] 例如，如图3所示，虚线框1表示光学器件设置区域C内的局部放大示意图，虚线框2表示常规显示区域A1内的局部放大示意图，P1表示第一像素，P2表示第二像素，其中第一像素P1的设置密度大于第二像素P2的设置密度。
[0080] 如此设置：
[0081] 一方面，可以使得光学器件设置区域C也具有显示功能，以有利于提高显示面板的显示均一性，从而提高显示效果。
[0082] 另一方面，因第二像素P2的设置密度较小，可以在相邻第二像素P2之间设置光学器件，以使光学器件设置区域C内的光学器件可以正常工作，同时还可以为光学器件提供更多的光线，提高光学器件的性能，从而提高显示面板的性能。
[0083] 说明一点，可选地，在实际情况中，第二像素P2的排布方式并不限于图3所示，此处只是以图3所示为例对第二像素P2的设置密度进行说明，并不表示第二像素P2的排布方式仅限于图3所示，也即，第二像素P2的排布方式可以根据实际需要进行设置，只要能够提高显示效果、以及提高显示面板的性能即可，在此并不限定。
[0084] 具体地，在本发明实施例中，如图3所示，第一像素P1在衬底基板上的正投影面积为第一面积，第二像素P2在衬底基板上的正投影面积为第二面积，第一面积小于第二面积。
[0085] 这是由于：
[0086] 第二像素的设置密度较小，使得光学器件设置区域C的亮度较小，为了均衡光学器件设置区域C和常规显示区域A1之间的亮度差异，可以通过增加第二像素P2在衬底基板上的正投影面积的方式提高第二像素P2的亮度，使得不同区域的亮度更加均一，进而有效提高显示均一性，从而提高显示效果。
[0087] 基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示装置，如图11所示的一种显示装置的结构示意图，可以包括显示面板100；
[0088] 显示面板100包括相对而置的阵列基板101和对向基板102，阵列基板101如本发明实施例提供的上述阵列基板。
[0089] 可选地，在本发明实施例中，如图11所示，显示面板100还包括：设置在阵列基板101和对向基板102之间的液晶103。
[0090] 可选地，在本发明实施例中，如图11所示，显示装置M还包括背光模组200，其中显示面板100位于背光模组200的出光面一侧。
[0091] 其中，结合图4和图11所示，显示面板100中的像素电极70和公共电极80可以向液晶103施加驱动电压，该驱动电压可以驱动液晶103发生转动，以透过背光模组200提供的背光源，并且，液晶103转动的角度不同，透过的光线的量则不同，以使不同的像素显示的亮度不同，从而实现显示功能。
[0092] 当然，像素电极70和公共电极80并不限于均设置于阵列基板之上，还可以将像素电极70设置于阵列基板之上，将公共电极80设置于对向基板之上，可以根据实际需要进行设置，以满足不同应用场景的需要，提高设计的灵活性。
[0093] 说明一点，可选地，即使像素电极70和公共电极80均设置于阵列基板之上时，像素电极70和公共电极80之间的相对位置关系也不限于图4所示，可以根据实际需要进行设置，在此并不限定。
[0094] 并且，在对光学器件中的PIN光电二极管进行设置时，可以将N型结构12c设置为与公共电极80同材质且同层设置，如图4所示，在简化阵列基板的制作工艺，降低制作难度的同时，还有利于降低阵列基板的厚度，进而降低显示面板的厚度，实现轻薄化的设计。
[0095] 在具体实施时，该显示装置可以为：手机(如图12所示)、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述阵列基板的实施例，重复之处不再赘述。
[0096] 本发明实施例提供了一种阵列基板及显示装置，首先，显示区域包括光学器件设置区域，在光学器件设置区域处设置有光学器件时，可以避免光学器件设置在边框时占用面积较大的问题，从而可以使得边框设置的较窄，提高屏占比，实现窄边框的设计。
[0097] 其次，因遮挡结构包括两个以上分部，信号线对应设置于相邻两个分部之间的间隙处，使得沿着信号线的延伸方向上，在需要制作信号线的区域具有平坦的表面，避免了因表面不平坦出现段差而导致的曝光准确度降低的问题出现，进而避免因曝光准确度低引起制作的信号线的宽度不一致而导致断线的问题出现，也即提高曝光工艺的准确度，保证得到的信号线宽度一致，减少断线的几率，从而提高了阵列基板的可靠性。
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