专利汇可以提供METHOD OF FABRICATING A BACK-ILLUMINATED IMAGE SENSOR专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且The invention relates to a method of fabricating a back-illuminated image sensor comprising the steps of providing a first substrate comprising a semiconductor layer, in particular a silicon layer, forming electronic device structures over the semiconductor layer and, only then, doping the semiconductor layer. By doing so, improved dopant profiles and electrical properties of photodiodes can be achieved such that the final product, namely an image sensor, has a better quality.,下面是METHOD OF FABRICATING A BACK-ILLUMINATED IMAGE SENSOR专利的具体信息内容。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
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