专利汇可以提供基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置和方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种基于视场梯度调制干涉的高 光谱 成像装置和方法,该装置沿光路方向依次放置成像物镜、梯度干涉调制系统、探测器及 信号 处理系统。可实现对场景目标的二维光强信息和光谱信息的同步获取。系统采用直光路,利用双折射晶体的光学特性,设计了微型梯度干涉 调制器 件,将其置于成像系统的探测器靶面前,在对目标实现光谱探测的同时,对整个成像系统的体积和重量影响不大。该方法具有高光通量、高空间 分辨率 以及轻小型化等优点。,下面是基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置和方法专利的具体信息内容。
1.一种基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置,其特征在于:包括沿光路方向依次放置的成像物镜(1)、梯度干涉调制系统(2)、探测器(3),探测器(3)和信号处理系统(4)连接;其中梯度干涉调制系统(2)包括沿光路方向依次放置的线偏振器P1、晶体平板R1、晶体楔板R2和线偏振器P2;线偏振器P2与探测器(3)靶面的大小相等,线偏振器P2的后表面贴于探测器(3)的感光面;所有光学元件相对于基底同轴等高。
2.根据权利要求1所述的基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置,其特征在于:梯度干涉调制系统(2)由线偏振器P1、晶体平板R1、晶体楔板R2和线偏振器P2组成,晶体楔板R2的中间厚度与晶体平板R1的厚度相等;线偏振器P1、晶体平板R1、晶体楔板R2和线偏振器P2依次贴在一起,线偏振器P1的透光轴与x轴夹角为45°,晶体平板R1的晶轴方向平行于y轴,晶体楔板R2的晶轴方向平行于x轴,线偏振器P2的透光轴与线偏振器P1的透光轴方向平行。
3.一种基于权利要求1所述的基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置的成像方法,其特征在于:
第一步,来自多个目标点的入射光束进入成像物镜(1),确定目标视场,消除杂散光;
第二步,从成像物镜(1)出射的光束进入梯度干涉调制系统(2),光束经过线偏振器P1后变为线偏振光,偏振方向与x轴夹角为45°,光束分为偏振方向相互垂直的x光分量和y光分量,依次经过晶体平板R1晶体楔板R2,x光分量在晶体平板R1中为o光,在晶体楔板R2中为e光,y光分量在晶体平板R1中为e光,在晶体楔板R2中为o光,最后x光分量和y光分量经过线偏振器P2后,变为偏振方向相同的两束相干光;
第三步,每个目标点经过梯度干涉调制系统(2)调制后成像在探测器(3)对应的像素上面,在探测器(3)靶面上获取目标点的干涉光强信息;通过采用系统整体推扫的方式,对场景目标进行探测,获取目标点不同光程差下的干涉信息,并将干涉光强信息转化成电信号进入信号处理系统(4);
第四步,信号处理系统(4)从收到的电信号中提取目标各点不同光程差下的干涉信息,对干涉信息数据进行傅里叶变换处理,从而得到目标各点的光谱信息。
4.根据权利要求3所述的基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置的成像方法,其特征在于:所述系统整体推扫的方式,探测器(3)获得的干涉图像序列中的干涉条纹位置不变,而探测目标的图像随着推扫产生横向偏移,即探测目标上各物点的干涉信息分布在图像序列的不同位置上,在提取物点所对应的干涉数据时首先需要进行图像配准处理,确保每幅干涉图上提取的干涉强度值属于同一个物点。
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