技术领域
[0001] 本
发明涉及
表面处理领域，具体涉及一种挡板上钼及其氧化物的清洗工艺。
背景技术
[0002] 在LCD、OLED显示屏TFT制作过程中，为降低外围导引线的阻抗或为了便于模组段的FPC键合，在TFT
薄膜中溅射一种金属钼Mo或其氧化物MoOx，在溅射过程中这种材料会不断地在腔体内的挡板上进行沉积，随着
沉积物厚度的增加，沉积膜与挡板的附着
力会降低，沉积膜可能会脱落污染腔体，出现黑点、
短路等
缺陷，影响LCD、OLED显示屏的显示
质量，所以需要对腔体内裸露于工艺环境中的部件进行精密再生，延长部件的使用寿命，确保制程环境满足显示屏制程工艺要求，提升产品质量，降低客户端制程成本。
[0003] 针对钼Mo及其氧化物(MoOx)的沉积膜通常的清洗方法是使用HNO3/H2SO4/HF等酸液或混合酸进行浸泡清洗，后对表面
喷砂处理，再使用去离子
水进行清洗，最后进入洁净干燥箱进行干燥。该清洗过程中使用的酸液易挥发，危险性较大，尤其HF具有
腐蚀性，对清洗设备及槽体、废气处理等辅助设施人员防护要求较高，且清洗时间较长，酸液容易对部件本体造成较大损伤，且后续表面处理后，用于表面处理的砂粒不易完全清洗干净，会造成部件表面粒子超标，影响部件使用性能。
发明内容
[0004] 本发明解决了
现有技术存在的酸液对部件本体造成较大损伤、危险性大的问题，提供一种挡板上钼及其氧化物的清洗工艺，其应用时可以有效去除附着于金属
钛、塑料、陶瓷部件表面的钼Mo及其氧化物MoOx薄膜，避免对部件本体造成较大损伤。
[0005] 本发明通过下述技术方案实现：
[0006] 一种挡板表面钼及其氧化物的清洗工艺，包括如下步骤：
[0007] S1：使用H2O2溶液对挡板表面沉积膜进行浸泡清洗；
[0008] S2：使用
碱性药液对挡板表面钼及其氧化物进行浸泡；
[0009] S3：使用高压水对挡板进行冲洗；
[0010] S4：对挡板进行干燥后，对表面喷砂处理；
[0011] S5：使用高压水对挡板进行冲洗；
[0014] S8：对完成清洗后的部件进行干燥。
[0015] 优选的，所述H2O2溶液的质量分数为20-40％，所述挡板的浸泡时间为2～3h，然后使用纯水对药液浸泡完成的产品进行清洗，该步骤在清洗槽完成。钼Mo及其氧化物MoOx与双氧水反应生产高钼酸，其化学反应过程如下：
[0016] H2O2+Mo→H2MoOX+O2↑
[0017] 因H2O2不会与塑料、陶瓷反应，与金属反应时在表面形成一层很薄、很致密的氧化膜，阻止其进一步反应，所以H2O2基本不会对基材(金属、塑料、陶瓷等)的部件造成腐蚀。
[0018] 使用碱性药液对挡板表面钼及其氧化物进行清洗，该步骤在碱液槽进行；
[0019] 优选的，所述碱液为氢氧化钠或氢氧化
钾溶液。
[0020] 优选的，S2中所述氢氧化钠溶液的浓度为NaOH(g)：H2O(mL)为1：6-1:10，所述氢氧化钾溶液的浓度为KOH(g)：H2O(mL)为1：6-1:10，浸泡
温度50-60℃，浸泡时间1-3h。
[0021] 碱液会与挡板表面的氧化钼Mo及其氧化物MoOx及其熔射隔离层金属
铝Al进行反应，将氧化钼Mo及其氧化物MoOx和金属铝清洗掉，以KOH为例，其化学反应为：
[0022] MoOX+KOH→K2MoO4+H2O
[0023] Al+KOH+H2O→KAlO2+H2↑
[0024] 通过两步反应将挡板表面的金属钼Mo及其氧化物MoOx、金属铝可以完全清洗干净，且基本对挡板基材无损伤。
[0025] 优选的，所述S3中高压水的压力为16-18Mpa，将经过碱性药液清洗的挡板使用高压水进行冲洗，以去除产品表面多余的药液及通过水的冲击力去除产品表面多余的沉积膜。
[0026] 使用喷砂机对部件表面喷砂处理进行清洁与表面修复。优选的，表面喷砂处理材料为粒径为30～400目的白刚玉Al2O3，具体根据表面粗糙度要求选用适合的粒径。
[0027] 所述S5中高压水的压力为16-18Mpa使用高压水对喷砂后的挡板进行冲洗，以去除挡板表面在喷砂过程中多余的大颗粒。
[0028] 优选的，所述干冰清洗步骤为通过压缩空气将干冰喷射到挡板表面。
[0029] 将经过高压水冲洗后的挡板置于干冰清洗设备中，使用干冰对表面进行处理，清除S4中喷砂颗粒在部件表面的残留。所述的干冰设备功能包括：干冰发生器、压缩空气源。
[0030] 将经过干冰清洗后的挡板置于
超声波槽中进行超声波清洗。槽体功能包括：超声波(以不损伤产品为准，通常为30～40KHZ)、溢流(使槽体内水保持一定洁净度)、过滤(悬浮物通过
过滤器过滤，降低污染)。
[0031] 将经过纯水浸泡处理后的挡板置于洁净干燥箱中进行烘干。优选的，干燥温度为180-200℃，干燥时间为1-2小时。
[0032] 本发明所述的清洗工艺在清洗金属(如钛、铝及其他
合金类)、塑料、陶瓷部件表面钼Mo及其氧化物MoOx薄膜的应用。
[0033] 本发明所述的所述的清洗工艺得到的产品。
[0034] 本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
[0035] 1、使用双氧水代替常规的强酸，解决了现有技术存在的酸液对部件本体造成较大损伤、危险性大的问题，H2O2不会对塑料、陶瓷反应，与金属会在表面形成一层很薄、很致密的氧化膜，阻止其进一步反应，H2O2基本不会对金属基材的部件造成腐蚀。
[0036] 2、通过控制碱液的浓度，不仅可以将挡板表面的金属钼(Mo)及其氧化物(MoOx)清洗干净，也可以将金属铝清洗干净，且基本对挡板基材无损伤。
[0037] 3、表面喷砂处理可以进行挡板的清洁与表面修复，高压水可以去除产品表面多余的药液及通过水的冲击力去除产品表面多余的沉积膜；干冰对表面进行处理可以清除喷砂颗粒在部件表面的残留。
附图说明
[0038] 此处所说明的附图用来提供对本发明
实施例的进一步理解，构成本
申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中：
[0040] 图2为本发明装置图。
具体实施方式
[0041] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。
[0042] 实施例1
[0043] 将分解后的陶瓷挡板放入清洗槽内部，挡板间使用
磁性物质分开，以确保挡板清洗面挡板清洗面不能互相
接触、遮挡，在槽体内部加入质量分数为20％的H2O2，对挡板表面沉积膜进行浸泡3h，直至无反应
进程为止。药液清洁完成后，打开槽体
排液管经过过滤器排出，在槽体中注入纯水进行漂洗，以去除挡板表面的药液与钼Mo及其氧化物MoOx反应后的产物；将通过H2O2清洗后的部件置入浓度为NaOH(g)：H2O(mL)为1：6的氢氧化钠溶液碱液槽体内，事先将槽液加热至50℃，反应3h后将挡板从槽体内部取出，置入纯水槽中进行浸泡，以去除挡板表面的碱液及反应残留物；将部件放置在高压冲洗
台面上面，使用16Mpa的高压水对部件表面进行清洗，去除产品表面多余的药液及通过水的冲击力去除产品表面多余的沉积膜，再次确保部件表面药液与参与反应物完全清洗干净；使用喷砂机用粒径为30目的白刚玉Al2O3对挡板表面喷砂处理，对表面进行打磨微清洁，对部件表面微小划伤、刮痕等进行微修复，CAD压力0.6Mpa；将部件放置在高压冲洗台面上面，使用16Mpa的高压水对部件表面进行清洗，清除喷砂过程中残留在部件表面的砂粒；将喷砂后的挡板置于干冰清洗设备中，干冰发生器中生成的干冰经过压缩空气将干冰喷射到挡板表面，以去除附在部件表面缝隙里的砂粒及其他微小颗粒；将经过干冰清洗后的挡板置于超声波槽内进行超声波清洗浸泡，超声
频率为30KHZ；将清洗完成后的挡板，放入180℃的洁净干燥箱内干燥2小时，完全去除部件表面的水分，再降温至40℃，将部件取出。
[0044] 实施例2
[0045] 将分解后的塑料挡板放入清洗槽内部，挡板间使用磁性物质分开，以确保挡板清洗面挡板清洗面不能互相接触、遮挡，在槽体内部加入质量分数为40％的H2O2，对挡板表面沉积膜进行浸泡2h，直至无反应进程为止。药液清洁完成后，打开槽体排液管经过过滤器排出，在槽体中注入纯水进行漂洗，以去除挡板表面的药液与钼Mo及其氧化物MoOx反应后的产物；将通过H2O2清洗后的部件置入浓度为KOH(g)：H2O(mL)为1：10的氢氧化钾溶液碱液槽体内，事先将槽液加热至60℃，反应1h后将挡板从槽体内部取出，置入纯水槽中进行浸泡，以去除挡板表面的碱液及反应残留物；将部件放置在高压冲洗台面上面，使用18Mpa的高压水对部件表面进行清洗，去除产品表面多余的药液及通过水的冲击力去除产品表面多余的沉积膜，再次确保部件表面药液与参与反应物完全清洗干净；使用喷砂机用粒径为400目的白刚玉Al2O3对挡板表面喷砂处理，对表面进行打磨微清洁，对部件表面微小划伤、刮痕等进行微修复，CAD压力0.7Mpa；将部件放置在高压冲洗台面上面，使用18Mpa的高压水对部件表面进行清洗，清除喷砂过程中残留在部件表面的砂粒；将喷砂后的挡板置于干冰清洗设备中，干冰发生器中生成的干冰经过压缩空气将干冰喷射到挡板表面，以去除附在部件表面缝隙里的砂粒及其他微小颗粒；将经过干冰清洗后的挡板置于超声波槽内进行超声波清洗浸泡，超声频率为40KHZ；将清洗完成后的挡板，放入200℃的洁净干燥箱内干燥1小时，完全去除部件表面的水分，再降温至50℃，将部件取出。
[0046] 实施例3
[0047] 将分解后的金属钛挡板放入清洗槽内部，挡板间使用磁性物质分开，以确保挡板清洗面挡板清洗面不能互相接触、遮挡，在槽体内部加入质量分数为30％的H2O2，对挡板表面沉积膜进行浸泡2.5h，直至无反应进程为止。药液清洁完成后，打开槽体排液管经过过滤器排出，在槽体中注入纯水进行漂洗，以去除挡板表面的药液与钼Mo及其氧化物MoOx反应后的产物；将通过H2O2清洗后的部件置入浓度为NaOH(g)：H2O(mL)为1：8的氢氧化钠溶液碱液槽体内，事先将槽液加热至55℃，反应2h后将挡板从槽体内部取出，置入纯水槽中进行浸泡，以去除挡板表面的碱液及反应残留物；将部件放置在高压冲洗台面上面，使用17Mpa的高压水对部件表面进行清洗，去除产品表面多余的药液及通过水的冲击力去除产品表面多余的沉积膜，再次确保部件表面药液与参与反应物完全清洗干净；使用喷砂机用粒径为100目的白刚玉Al2O3对挡板表面喷砂处理，对表面进行打磨微清洁，对部件表面微小划伤、刮痕等进行微修复，CAD压力0.65Mpa；将部件放置在高压冲洗台面上面，使用17Mpa的高压水对部件表面进行清洗，清除喷砂过程中残留在部件表面的砂粒；将喷砂后的挡板置于干冰清洗设备中，干冰发生器中生成的干冰经过压缩空气将干冰喷射到挡板表面，以去除附在部件表面缝隙里的砂粒及其他微小颗粒；将经过干冰清洗后的挡板置于超声波槽内进行超声波清洗浸泡，超声频率为35KHZ；将清洗完成后的挡板，放入190℃的洁净干燥箱内干燥1.5小时，完全去除部件表面的水分，再降温至45℃，将部件取出。
[0048] 以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何
修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
