专利汇可以提供Detection control process of ion pouring quantity in ion pouring device专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE:To control the error of the pouring quantity by detecting the magnetic field generated with an ion beam current by means of a magnetic field detector which is set on a beam line in order to detect and control the pouring quantity. CONSTITUTION:Ion beam 5 is intermittently radiated on target 4 by opening and closing the gate 6 set on a beam line. A toroidal coil 7 is set between the gate 6 and a target 4 so as to be coaxial with the ion beam. When ion beam current changes, induced voltage is generated in the toroidal coil 7. This voltage is integrated in integrators 8, 9 and compared with the set voltage through a comparison device 10. An actuator 11 is controlled by the output from the comparison device 10, so as to control the ion pouring quantity.,下面是Detection control process of ion pouring quantity in ion pouring device专利的具体信息内容。
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