专利汇可以提供FILTER FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且The invention relates to an apparatus suited, for example, for extreme ultraviolet lithography, comprising a radiation source and a processing organ for processing the radiation from the radiation source. Between the radiation source and the processing organ a filter is placed, which in the radial direction from the radiation source, comprises a plurality of foils or plates.,下面是FILTER FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY专利的具体信息内容。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
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