首页 / 专利库 / 电路 / 单晶碳化硅 / 非氧化物單晶基板之研磨方法

化物單晶基板研磨方法

阅读:1035发布:2020-12-12

专利汇可以提供化物單晶基板研磨方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本發明提供一種用來以較高 研磨 速度研磨 碳 化矽單晶 基板 等非 氧 化物單晶基板而獲得平滑且表面性狀優異之高品質之表面的研磨方法。該研磨方法之特徵在於:其係向不內包研磨粒之研磨墊供給研磨液,使非氧化物單晶基板之被研磨面與上述研磨墊接觸,藉由兩者間之相對運動而進行研磨的方法,且上述研磨液含有氧化還原電位為0.5 V以上之包含過渡金屬之氧化劑與 水 ,並且不含研磨粒。,下面是化物單晶基板研磨方法专利的具体信息内容。

高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈