一种新型的光刻涂布软烘系统
专利汇可以提供一种新型的光刻涂布软烘系统专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 光刻 涂布软烘系统，包括反应腔体和排气装置，所述排气装置还包括：软烘进气管路，用于将外部气体引入所述反应腔体内；软烘气体加热装置，与所述软烘进气管路连接，用于将引入反应腔体内的气体加热；软烘排气管路，用于将所述高温有机物气体引出所述反应腔体。本发明的光刻涂布软烘系统可以有效减少软烘过程中 晶圆 缺陷 的产生，从而提高产品的品质和良率。，下面是一种新型的光刻涂布软烘系统专利的具体信息内容。
1.一种光刻涂布软烘系统，包括反应腔体和排气装置，其中，在所述反应腔体内对晶圆表面涂布的光刻胶或抗反射层进行高温软烘，并通过所述排气装置将产生的高温有机物气体从所述反应腔体内排出，其特征在于，所述排气装置还包括：
软烘进气管路，位于所述反应腔体底部，通过进气口与所述反应腔体底部相连，用于将气体引入所述反应腔体内；
软烘气体加热装置，与所述软烘进气管路连接，常温气体通过该软烘气体加热装置被加热后，经由所述软烘进气管路进入所述反应腔体内；
软烘排气管路，位于所述反应腔体顶部，并通过排气口与位于所述反应腔体顶部的软烘盖板相连，用于将所述高温有机物气体引出所述反应腔体。
2.根据权利要求1所述的光刻涂布软烘系统，其特征在于，所述反应腔体与所述软烘盖板之间密封连接。
3.根据权利要求1所述的光刻涂布软烘系统，其特征在于，所述反应腔体内部与外部常温环境联通。
4.根据权利要求1所述的光刻涂布软烘系统，其特征在于，所述进气口位于反应腔体底部的中央位置。
5.根据权利要求1所述的光刻涂布软烘系统，其特征在于，所述软烘气体加热装置通过电加热丝加热所述常温气体。
6.根据权利要求1所述的光刻涂布软烘系统，其特征在于，所述软烘气体加热装置内设有空气过滤器，用于对输入的常温气体内的微尘颗粒进行过滤清除。
7.根据权利要求6所述的光刻涂布软烘系统，其特征在于，所述空气过滤器在常温气体被加热前对其进行过滤。
一种新型的光刻涂布软烘系统
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