专利汇可以提供投影及纹影二合一光学测试系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及投影及纹影二合一光学测试系统,涉及投影及纹影光学测试技术领域。本发明在一套测试系统中,通过应用两个透镜移动的光学特性组合,分别形成投影望远光学系统和纹影照相光学系统,实现了一套光学系统装置具有投影光学系统和纹影光学两种功能。本发明使需要应用两种不同光学原理建立的两种光学测试功能的装置在一个装置中实现,大大节省了测试装置的设计和制造 费用 ,同时增加测试装置的功能,方便了测试工作的开展,节省了测试设备的放置空间。,下面是投影及纹影二合一光学测试系统专利的具体信息内容。
1.投影及纹影二合一光学测试系统,其特征在于,包括平行光源系统(1)、第一正透镜(2)、光阑(3)、第二正透镜(4)、探测器(5)、负透镜(7)、刀口仪(8)和样品台(9);
其中,所述平行光源系统(1)发出的平行光的均匀性高于预设阈值;所述平行光源系统(1)的光谱在测试样品的透明光谱内且在探测器(5)的工作响应光谱内;
将所述投影及纹影二合一光学测试系统作为投影测试装置使用时,依据光路方向依次放置所述平行光源系统(1)、样品台(9)、第一正透镜(2)、光阑(3)、第二正透镜(4)、探测器(5),其中在样品台(9)上放置测试样品(401),采用可变孔径光阑作为所述光阑(3),用平行光源系统(1)发出的平行光照射放在样品台(9)上的测试样品(401),在第一正透镜(2)的像方焦点上放置所述光阑(3),使第二正透镜(4)的物方焦点与第一正透镜(2)的像方焦点重合,形成一个按望远系统放大倍率对入射平行光直径压缩为小直径出行平行光的望远光学系统,所述望远光学系统用于将压缩的出射平行光照射到探测器(5)上;所述望远光学系统的出射口径与探测器(5)的有效探测面尺寸相匹配;第一正透镜(2)的焦距大于第二正透镜(4)的焦距,且第一正透镜(2)的口径大于第二正透镜(4)的口径;
将投影及纹影二合一光学测试系统作为纹影装置使用时,去掉光阑(3),使第一正透镜(2)和第二正透镜(4)相互靠近,组合成一个纹影系统的照相物镜(701),所述照相物镜(701)的焦距为纹影测试期望的焦距;并将第一正透镜(2)和第二正透镜(4)组合的照相物镜(701)作为一个整体移动,形成照相物镜(701)对测试样品(401)中的缺陷成像在探测器(5)上的光学成像关系,照相物镜(701)的物距与像距之比为测试样品(401)的口径与探测器(5)的有效尺寸之比,并在测试时在照相物镜(701)的像方焦点位置处放置刀口仪(8),使刀口仪(8)沿垂直光轴方向移动进行测试。
2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述第一正透镜(2)、第二正透镜(4)、负透镜(7)均为透镜组。
3.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述平行光源系统(1)的光源采用窄谱光源。
4.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统还包括数据采集、处理及显示系统(6),用于对探测器(5)感知的数据进行采集、处理及显示。
5.如权利要求4所述的系统,其特征在于,所述数据采集、处理及显示系统(6)还用于对探测和采集的测试样品(401)中的条纹数量、面积和灰度进行材料缺陷定性等级评定。
6.如权利要求1所述的系统,其特征在于,若要对测试样品(401)进行满口径测试,则第一正透镜(2)的口径设置为大于测试样品(401)的口径。
7.如权利要求1所述的系统,其特征在于,将所述投影及纹影二合一光学测试系统作为投影测试装置使用时,将所述第二正透镜(4)换成负透镜(7),且使所述负透镜(7)的物方焦点与所述第二正透镜(4)的像方焦点重合。
8.如权利要求1所述的系统,其特征在于,将所述投影及纹影二合一光学测试系统作为投影测试装置使用时,设计所述望远光学系统的出射口径D2等于探测器(5)的有效尺寸S。
9.如权利要求1至8中任一项所述的系统,其特征在于,设入射光口径D1经所述望远光学系统压缩后的口径为D2,压缩系数为k,k为第二正透镜(4)的焦距f2除以第一正透镜(2)的焦距f1,即k=f2/f1,望远光学系统出射口径D2=k D1,k为小于1的数。
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