专利汇可以提供一种应用于PVD镀膜的弧光电子源增强辉光放电加热工艺专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种应用于PVD 镀 膜 的弧光 电子 源增强 辉光放电 加热工艺:在 真空 镀膜 室内,脉冲 偏压 电源的正极接连密封容器 外壳 并接地、负极连接 工件 转架;室内通入氩气,保持在0.1--5Pa,接通脉冲偏压电源,在工件与室壁之间施加偏压;打开弧 光电子 源的 阴极 电弧 源,产生弧光放电 等离子体 ,接通辅助 阳极 施加正电位,从弧光电子源的阴极电弧前 挡板 侧旁的长条形侧缝开口引导弧光 放电等离子体 的电子流进入室内,引发氩辉光放电产生增强氩 辉光放电等离子体 进行加热;通过控制弧光电子源阴极电弧源和辅助阳极 电流 以及偏压 电压 和占空比控制加热 温度 。本 发明 利用弧光放电的电子束增強辉光放电等离子体进行工件加热,减少产品被污染的概率,提升产品良率。,下面是一种应用于PVD镀膜的弧光电子源增强辉光放电加热工艺专利的具体信息内容。
1.一种应用于PVD镀膜的弧光电子源增强辉光放电加热工艺,其特征是包括以下步骤:
S1.在抽真空的真空镀膜室内,连接脉冲偏压电源两个电极,正极接连密封容器外壳并接地、负极连接工件转架,即工件置负极上;
S2.工件所在的腔体中通入氩气,保持在0.1--5Pa,接通脉冲偏压电源,在工件与真空镀膜室壁之间施加偏压;
S.打开弧光电子源的阴极电弧源,产生弧光放电等离子体;阴极电弧源发射弧光等离子体的前方和侧旁均置有遮挡板,而在一侧旁开有长条形侧缝开口;接通辅助阳极施加正电位,从弧光电子源的电弧挡板长条形侧缝开口引导弧光放电等离子体的电子流进入真空镀膜室空间,引发氩辉光放电产生增强氩辉光放电等离子体,对产品进行加热;
S4.通过控制弧光电子源阴极电弧源和辅助阳极电流以及脉冲偏压电压与占空比控制加热温度。
2.根据权利要求1所述的应用于PVD镀膜的弧光电子源增强辉光放电加热工艺,其特征是:各工艺参数范围如下:
偏压:100-300V,占空比:50%-80%,真空度:0.1-5Pa,加热时间:10-180分钟,弧光电子源参数:-阴极电流/輔助阳极电流范围:60-80A/20-50A。
3.根据权利要求2所述的应用于PVD镀膜的弧光电子源增强辉光放电加热工艺,其特征是:所述的弧光电子源设在真空镀膜室(6)内,真空镀膜室安装有真空管道(2)外连真空抽气机组(1),真空镀膜室内设有由下方的中空磁流体密封轴组件(14)支承并带转的水平的工件架的公转盘(11),工件架的公转盘上竖有若干工件自转轴(10)用于装挂工件,工件架公转盘通过中空磁流体密封轴组件与真空镀膜腔室外的偏压电源(12)的负极连接,偏压电源的正极连接真空镀膜腔室室壁並接地。
4.根据权利要求3所述的应用于PVD镀膜的弧光电子源增强辉光放电加热工艺,其特征是:所述的弧光电子源包括:
一旋转柱状电弧阴极(4),竖立在真空镀膜腔室内且靠近室壁,其朝向室內中心的前面和四周设有一用于遮挡向炉內喷射的金属等离子体流的电弧前挡板(4-1),电弧前挡板侧旁开有长条形侧缝开口;
一电弧电源(3),设在真空镀膜腔室外,其负极连接旋转阴极、正极接真空镀膜腔室室壁并接地;
一辅助阳极捧(8),竖立在旋转柱状阴极电弧的一侧旁,其正电位通过遮挡板侧旁的长条形侧缝开口把其内的弧光等离子体中的电子流吸拉出来;
一炉外辅助阳极电源(9),其正极连接所述的辅助阳极捧、负极接真空镀膜腔室室壁并接地;
第一和第二镀膜用旋转柱状中频磁控溅射阴极(5)和(7),悬挂竖立在所述的真空镀膜腔室内,并分别连接设在炉外的中频磁控溅射电源的输出电极;
一PLC控制器(16),分别与所述的偏压电源(12)、炉外弧光电子源的辅助阳极电源(9)以及柱状阴极电弧电源(3)电连接。
5.根据权利要求4所述的应用于PVD镀膜的弧光电子源增强辉光放电加热工艺,其特征是:所述的真空镀膜室(6)内还设有一公转探温杆(13),竖立在工件自转轴(10)的旁边、在工件架公转盘(11)上随同公转;
若干探温元件(34、35、36),竖直排列地安装在公转探温杆上,信号线引至下方从中空磁流体密封轴组件(14)引出真空镀膜腔室外后与一温度监控仪表(15)电连接;
温度监控仪表(15)与所述PLC控制器(16)电连接。
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