专利汇可以提供一种测量光学薄膜吸收损耗的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种测量光学 薄膜 吸收损耗的方法,其特征在于:利用光学薄膜元件反射或透射 光谱 随 温度 变化而发生漂移的现象,选择合适的探测光 波长 ,调整探测 激光束 (低功率)相对于样品表面的入射 角 度,使探测光波长处于反射或 透射光 谱带边缘斜率最大的 位置 。使用强度周期性调制的(高功率)连续或脉冲激光束作为加热光照射薄膜元件薄膜层和探测光束相同或相邻的位置,使探测光束从样品表面反射或透射光强度受到调制或发生瞬时变化。用光电探测器监测加热激光束照射过程中薄膜元件反射或透射的探测光强度的实时变化监视薄膜元件吸收损耗和光学性能的实时变化,并通过对 信号 振幅定标实现吸收损耗的绝对测量。另外,通过扫描薄膜元件的横向位置可实现吸收损耗的二维高分辨成像。本方法在一定条件下可以提高吸收损耗测量的灵敏度。,下面是一种测量光学薄膜吸收损耗的方法专利的具体信息内容。
1.一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:
(1)采用一束强度周期性调制的功率瓦级或以上的高功率连续激光光束或脉冲激光光束,作为加热光照射到被测光学薄膜元件上,该光学薄膜元件因吸收激光束能量导致照射区域温度上升,引起该区域反射或透射光谱的漂移;
(2)选择一束波长靠近所述的光学薄膜元件反射或透射带边缘的功率毫瓦级或更低的低功率连续激光作为探测光束,调整其入射角度使探测光波长处于待测光学薄膜元件被加热前反射或透射光谱带边缘的最大斜率处,同时与加热光束照到样品的相同或相邻位置;所述的入射角根据被测光学薄膜元件实际测量的反射或透射光谱决定,在0.1°~60°之间变化,使探测光波长处于反射或透射光谱带边缘斜率最大的位置;
(3)由光电探测器监测样品反射或透射的全部探测光强度的变化,得到输出电流或电压信号,通过测量其变化量及其实时变化得到光学薄膜元件的吸收损耗值和光学性能稳定性。
2.根据权利要求1所述的一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:当所述步骤(1)中加热光束为连续激光时,采用锁相放大器记录光电探测器输出电流或电压信号的一次谐波振幅和相位,通过定标得到被测光学薄膜元件吸收损耗及其实时变化情况。
3.根据权利要求1所述的一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:当所述步骤(1)中加热光束为脉冲激光时,采用数字存储示波器或数据采集卡记录光电探测器输出电流或电压信号随时间的变化过程,通过定标得到待测光学薄膜元件吸收损耗及其实时变化情况。
4.根据权利要求1所述的一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:所述的加热激光束照射光学薄膜元件薄膜层和探测激光束的中心位置重合或紧邻。
5.根据权利要求1所述的一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:在所述的光电探测器前加一聚焦透镜,将薄膜元件反射或透射的探测光全部会聚到探测器的接收面上,得到反射或透射光强度的实时变化。
6.根据权利要求1所述的一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:当加热光为连续激光时,加热激光束强度的调制采用机械斩波器调制,或者采用声光调制器或电光调制器调制,调制频率范围1Hz~1MHz。
7.根据权利要求1所述的一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:当探测激光束相对于被测光学薄膜元件表面的入射角使反射或透射光偏振分离显著时,要在探测器前面加偏振片,实时探测反射或透射偏振光强度的变化。
8.根据权利要求1所述的一种测量光学薄膜吸收损耗的方法,其特征在于:使所述的光学薄膜元件沿表面方向横向二维移动,实现对所测薄膜元件吸收损耗的二维分布成像。
本发明涉及一种对光学薄膜元件参数的测量方法,特别是光学薄膜吸收损耗的测量方法。
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