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一种柔性显示面板及其制备方法、柔性显示器

阅读:789发布:2020-05-13

专利汇可以提供一种柔性显示面板及其制备方法、柔性显示器专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 申请 公开了一种柔性 显示面板 及其制备方法、 柔性显示器 。该柔性显示面板的制备方法包括在一衬底上形成一光吸收层;在所述光吸收层上形成柔性基底;在所述柔性基底上形成显示器件;将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底,形成包含所述柔性基底和所述显示器件的柔性显示面板。本申请的柔性显示面板的制备方法通过在衬底与柔性基底之间设置一光吸收层,在将柔性基底剥离于衬底时,通过光吸收层吸收入射的光束,令光吸收层在光束的作用下被破坏,进而分离柔性基底与衬底,避免了柔性基底收到入射的光束的影响而出现 碳 化现象,提高了柔性基底的附着性。,下面是一种柔性显示面板及其制备方法、柔性显示器专利的具体信息内容。

1.一种柔性显示面板的制备方法,其特征在于,包括
在一衬底上形成一光吸收层;
在所述光吸收层上形成柔性基底;
在所述柔性基底上形成显示器件;
将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底,形成包含所述柔性基底和所述显示器件的柔性显示面板。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光吸收层为紫外光吸收层,所述光束为紫外光光束。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光吸收层对所述光束的吸收率高于所述柔性基底对所述光束的吸收率,且所述光吸收层的含氢量高于所述柔性基底的含氢量。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光吸收层为非晶层。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光吸收层的厚度为450-500埃。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底,包括:
将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,令所述光吸收层吸收所述光束而发生氢爆,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述在一衬底上形成一光吸收层,具体为:
利用等离子气相沉积,在所述衬底上形成所述光吸收层。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述显示器件为液晶显示器件或OLED显示器件。
9.一种柔性显示面板,其特征在于,包括:
柔性基底,以及设置在所述柔性基底上的显示器件;
其中,所述柔性显示面板是根据权利要求1-8任一项所述的制备方法制备而成。
10.一种柔性显示器,其特征在于,包括权利要求9所述的柔性显示面板以及驱动电路,所述驱动电路与所述柔性显示面板连接,用于驱动所述柔性显示面板。

说明书全文

一种柔性显示面板及其制备方法、柔性显示器

技术领域

[0001] 本申请涉及显示技术领域,具体而言涉及一种柔性显示面板及其制备方法、柔性显示器。

背景技术

[0002] 随着柔性显示面板技术的成熟,柔性显示面板的量产化已经成为可能。现有技术中柔性显示面板的制备方法,通常是在衬底上形成柔性基底,再在柔性基底上形成显示器件,最后通过较高强度的光束照射衬底和柔性基底,进而将柔性基底与衬底进行剥离。
[0003] 然而,光束一般是从衬底入射照射柔性基底,较高强度的光束会使得柔性基底出现不同程度的化现象,例如,产生微小颗粒、裂纹等,进而使的后续制程的功能层无法平坦化,降低了柔性基底的附着性,影响后续制程,降低产品良率。发明内容
[0004] 本申请提供一种柔性显示面板及其制备方法、柔性显示器,该柔性显示面板的制备方法能够提高制备得到的柔性显示面板的柔性基底的附着性。
[0005] 一方面,本申请一实施例提出的一个技术方案是:提供一种柔性显示面板的制备方法,该制备方法包括:
[0006] 在一衬底上形成一光吸收层;
[0007] 在所述光吸收层上形成柔性基底;
[0008] 在所述柔性基底上形成显示器件;
[0009] 将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底,形成包含所述柔性基底和所述显示器件的柔性显示面板。
[0010] 其中,所述光吸收层为紫外光吸收层,所述光束为紫外光光束。
[0011] 其中,所述光吸收层对所述光束的吸收率高于所述柔性基底对所述光束的吸收率,且所述光吸收层的含氢量高于所述柔性基底的含氢量。
[0012] 其中,所述光吸收层为非晶层。
[0013] 其中,所述光吸收层的厚度为450-500埃。
[0014] 其中,将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底,包括:
[0015] 将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,令所述光吸收层吸收所述光束而发生氢爆,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底。
[0016] 其中,所述在一衬底上形成一光吸收层,具体为:
[0017] 利用等离子气相沉积,在所述衬底上形成所述光吸收层。
[0018] 其中,所述显示器件为液晶显示器件或OLED显示器件。
[0019] 另一方面,本申请另一实施例提供一种柔性显示面板,该柔性显示面板包括:
[0020] 柔性基底,以及设置在所述柔性基底上的显示器件;
[0021] 其中,所述柔性显示面板是根据上述实施例提供的柔性显示面板的制备方法制备而成。
[0022] 另一方面,本申请又一实施例提供一种柔性显示器,该柔性显示器包括本申请上述实施例中提供的柔性显示面板以及驱动电路,所述驱动电路与所述柔性显示面板连接,用于驱动所述柔性显示面板。
[0023] 有益效果:区别于现有技术,本申请实施例的柔性显示面板的制备方法包括在一衬底上形成一光吸收层;在所述光吸收层上形成柔性基底;在所述柔性基底上形成显示器件;将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,使得所述光吸收层被破坏以分离所述衬底与所述柔性基底,形成包含所述柔性基底和所述显示器件的柔性显示面板。本申请的柔性显示面板的制备方法通过在衬底与柔性基底之间设置一光吸收层,在将柔性基底剥离于衬底时,通过光吸收层吸收入射的光束,而使入射的光束不会影响柔性基底,光吸收层在光束的作用下被破坏,进而分离柔性基底与衬底,避免了柔性基底收到入射的光束的影响而出现碳化现象,提高了柔性基底的附着性。附图说明
[0024] 图1是本申请柔性显示面板的制备方法第一实施例的流程示意图;
[0025] 图2a-2d是图1所示的制备方法第一实施例各步骤对应的柔性显示面板的结构示意图;
[0026] 图3是本申请柔性显示面板一实施例的结构示意图;
[0027] 图4是本申请柔性显示器一实施例的结构示意图。具体实施例
[0028] 下面将结合本申请实施例及实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,说明书及说明书附图中,相同结构采用相同标号,显然,所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
[0029] 参阅图1,图1是本申请柔性显示面板的制备方法第一实施例的流程示意图,如图1所示,本实施例的柔性显示面板的制备方法可包括如下步骤:
[0030] S101、在一衬底上形成一光吸收层。
[0031] 本实施例中,在衬底10上形成柔性基底30前,在衬底10上先形成一光吸收层20,如图2a所示。光吸收层20能够吸收用于剥离柔性基底30与衬底10的光束,且能在光束的作用下发生光反应而被破坏。在本实施例中,可以通过等离子气相沉积的方法,在衬底10上形成光吸收层20。可以理解的是,在其他实施例中,也可以通过其他方法在衬底10上形成光吸收层20,例如化学气相沉积、溅射、涂覆等。
[0032] 本实施例中,衬底10的材料为能够透光的透明材料,可以是玻璃或有机合成材料,必须说明的是,衬底10不会受到光束的影响,且具有一定的硬度,进而能够对衬底10上形成的光吸收层20、柔性基底30等层级结构起到支撑的作用。
[0033] S102、在所述光吸收层上形成柔性基底。
[0034] 在步骤S101形成的光吸收层20上方形成柔性基底30,得到的结构如图2b所示,本实施例对柔性基底30的形成方法不做具体限制,可以采用等离子气相沉积、化学气相沉积、溅射、涂覆等。本实施例中,柔性基底30的材料可以是聚酰亚胺,也可以是其他柔性材料。
[0035] 进一步,本实施例中光吸收层20对用于剥离柔性基底30与衬底10的光束的吸收率要高于本步骤中形成的柔性基底30对该光束的吸收率,且光吸收层20的含氢量也要高于柔性基底30的含氢量。如此,最终利用光束剥离柔性基底30与衬底10时,能够利用光吸收层20对光束的较高的吸收率,达到较大程度上保护柔性基底30不受光束影响的目的,避免柔性基底30在光束的照射下收到影响,出现碳化现象;而光吸收层20的含氢量较高,能够使光吸收层20在光束的作用下发生氢爆现象而被破坏。
[0036] S103、在所述柔性基底上形成显示器件。
[0037] 在步骤S102形成的柔性基底30上进一步制备显示器件40,得到的柔性显示面板的结构如图2c所示。本实施例中,对显示器件40的具体结构不做限定,根据实际需求可制备不同结构的显示器件40。显示器件40可以为液晶显示器件,也可以为OLED显示器件。
[0038] 当显示器件40为液晶显示器件时,本步骤即为在柔性基底30上形成薄膜晶体管阵列。若显示器件40为OLED显示器件,则本步骤包括在柔性基底30上依次形成ITO电极层、空穴注入层、空穴传输层、有机发光层电子传输层、电子注入层以及金属电极层,进而制备得到包含ITO电极层、空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层以及金属电极层的OLED显示器件。
[0039] S104、将光束从所述衬底入射至所述光吸收层,形成包含所述柔性基底和所述显示器件的柔性显示面板。
[0040] 显示器件40制备完成后,则需要将包含柔性基底30和显示器件40的柔性显示面板从衬底10上剥离,换言之,即需要将柔性基底30与衬底10上剥离。
[0041] 此时,参阅图2d,将光束从衬底10入射至光吸收层20,由于光吸收层20对该光束具有较高的吸收率,以及较高的含氢量,因此光吸收层20能够吸收该光束,并在光束的照射下发生氢爆现象,进而令光吸收层20被破坏,当光吸收层20被破坏后,柔性基底30则自动与光吸收层20剥离,且衬底10也与光吸收层20剥离,进而实现将柔性基底30从衬底10上剥离,形成包含柔性基底30和步骤S103中制备的显示器件40的柔性显示面板100,此时柔性显示面板100的结构如图3所示。
[0042] 本实施例中的光束可采用激光光束,因为激光光束能够具备较高的能量
[0043] 本实施例的柔性显示面板的制备方法通过在衬底10与柔性基底30之间设置一光吸收层20,在将柔性基底30剥离于衬底10时,通过光吸收层20吸收入射的光束,而使入射的光束不会影响柔性基底30,光吸收层20在光束的照射下发生氢爆现象而被破坏,进而分离柔性基底30与衬底10,避免了柔性基底30收到入射的光束的影响而出现碳化现象,令柔性基底30的附着性不受入射的光束的影响,提高柔性显示面板的制备良率。
[0044] 进一步,本实施例中,用于剥离柔性基底30与衬底10的光束可以为紫外光光束,相应的,光吸收层20为紫外光吸收层20,由此,光吸收层20可以为非晶硅层,可以理解的是,在其他实施例中,光吸收层20也可以是其他材料层,本申请不做具体限制。本实施例中,紫外光光束的波长在200纳米至325纳米之间。
[0045] 进一步,为了能够使得在步骤S104中剥离柔性基底30与衬底10的过程中,能够令光吸收层20被相对完整的破坏,尽可能的令光吸收层20不会有残留而附着在柔性基底30上,且光吸收层20能够尽可能多的吸收光束而令光束对柔性基底30没有影响,因此,光吸收的厚度需要相应的控制,本实施例中,光吸收层20的厚度为450-500埃。可以理解的是,在其他实施例中光吸收的厚度可以根据实际的需求进行调整。
[0046] 进一步,本申请还提出了一柔性显示面板实施例,本实施例的柔性显示面板100的结构如图3所示,包括柔性基底30以及设置在所述柔性基底30上的显示器件40,其中,该柔性显示面板100是根据图1所示的柔性显示面板的制备方法第一实施例制备而成,此处不再赘述。
[0047] 本实施例中,柔性基底30上的显示器件40可以为液晶显示器件,也可以为OLED显示器件。若本实施例的显示器件40为液晶显示器件,则该显示器件40形成薄膜晶体管阵列;若本实施例的显示器件40为OLED显示器件,则该显示器件40包括依次层叠设置的ITO电极层、空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层以及金属电极层,进而制备得到包含ITO电极层、空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层及金属电极层的OLED显示器件。
[0048] 本实施例的柔性显示面板由于其制备过程中,柔性基底30不会收到用于剥离柔性基底30与衬底10的光束的影响,因而具有较好的附着性,能够令其上方形成的显示器件40不易脱落,且在后续制备过程中不易损坏,进而提高利用该柔性显示面板制备柔性显示器时的制备良率。
[0049] 进一步,本申请还公开一柔性显示器实施例,如图4所示,本实施例的柔性显示器200包括一柔性显示面板以及驱动电路50,驱动电路50连接该柔性显示面板,用于驱动该柔性显示面板,向柔性显示面板传输驱动信号
[0050] 本实施例的柔性显示器中的柔性显示面板为图3所示的柔性显示面板100,其具体结构参阅图3及上述对图3的详细说明,此处不再赘述。
[0051] 本实施例的柔性显示器,由于其中的柔性显示面板中的柔性基底30不会收到用于剥离柔性基底30与衬底10的光束的影响,因而具有较好的附着性,能够提高本实施例的柔性显示器的制备良率。
[0052] 以上仅为本申请的实施例,并非因此限制本申请的专利范围,凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本申请的专利保护范围。
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