METHOD AND APPARATUS FOR INCREMENTAL CONCURRENT LEARNING IN AUTOMATIC SEMICONDUCTOR WAFER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEFECT CLASSIFICATION
专利汇可以提供METHOD AND APPARATUS FOR INCREMENTAL CONCURRENT LEARNING IN AUTOMATIC SEMICONDUCTOR WAFER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEFECT CLASSIFICATION专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且An incremental concurrent learning method starts with providing potential defects (60) and fabrication information (63) and a primary classification rule and secondary classification rule selection (84) from a knowledge defect database (86) from multiple products with different process cycles. The method then performs a truth inquiry (80) to update a classification rule database (86) for use by the primary classification rule and secondary classification rule selection (61). The method performs a primary defect classification (62) and checks the confidence of the classification (64), and performs a secondary defect classification (66) if the confidence is not high. If the confidence of the secondary defect classification is not high (70), a new defect may have been discovered and a novelty defect detection step (76) is performed to define artifacts (78) or potential new defect types to provide information for the truth inquiry (80).，下面是METHOD AND APPARATUS FOR INCREMENTAL CONCURRENT LEARNING IN AUTOMATIC SEMICONDUCTOR WAFER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEFECT CLASSIFICATION专利的具体信息内容。
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