组合物、图案的形成方法、晶粒及显示装置的制造方法专利检索-清漆油漆与涂料专利检索查询-专利查询网

组合物、图案的形成方法、晶粒及显示装置的制造方法

阅读：0发布：2020-06-26

专利汇可以提供组合物、图案的形成方法、晶粒及显示装置的制造方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明提供一种负型感光性树脂组合物、图案的形成方法、金属图案的形成方法、发光二极管晶粒的制造方法以及有机发光显示装置的制造方法，负型感光性树脂组合物包括酚醛清漆树脂(A)、光酸产生剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂 (E)。酚醛清漆树脂(A)包括羟基型酚醛清漆树脂(A‑1)与二甲酚型酚醛清漆树脂(A‑2)。羟基型酚醛清漆树脂(A‑1)是由羟基苯甲醛类化合物与芳香族羟基化合物缩聚而得。二甲酚型酚醛清漆树脂(A‑2)是由醛类化合物与二甲酚类化合物缩聚而得。，下面是组合物、图案的形成方法、晶粒及显示装置的制造方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，包括：
酚醛清漆树脂(A)；
光酸产生剂(B)；
碱性化合物(C)；
交联剂(D)；以及
溶剂(E)，
其中基于所述酚醛清漆树脂(A)100重量份，所述光酸产生剂(B)的使用量为0.1至5重量份；所述碱性化合物(C)的使用量为0.1至5重量份；所述交联剂(D)的使用量为5至50重量份，且所述溶剂(E)的使用量为100至1000重量份，
所述酚醛清漆树脂(A)包括羟基型酚醛清漆树脂(A-1)与二甲酚型酚醛清漆树脂(A-
2)，所述羟基型酚醛清漆树脂(A-1)是由羟基苯甲醛类化合物与芳香族羟基化合物缩聚而得，且所述二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合物与二甲酚类化合物缩聚而得，基于所述羟基型酚醛清漆树脂(A-1)与所述二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的总使用量为100重量％，所述羟基型酚醛清漆树脂(A-1)的使用量为10重量％至80重量％，且所述二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的使用量为90重量％至20重量％。
2.如权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其中所述光酸产生剂(B)包括鎓盐化合物、含卤化合物、砜化合物、磺酸化合物、磺酰亚胺化合物或上述化合物之组合。
3.如权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其中所述碱性化合物(C)包括脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、胺基醇、芳香族胺、季铵氢氧化物、脂环族胺或上述化合物之组合。
4.一种光阻图案的形成方法，其特征在于，包括：
于基板上涂布负型感光性树脂组合物，所述负型感光性树脂组合物如权利要求1～3项中任一项所述；以及
对所述负型感光性树脂组合物进行处理步骤，以形成光阻图案。
5.如权利要求4所述的光阻图案的形成方法，其中所述光阻图案为隔离壁。
6.一种金属图案的形成方法，其特征在于，包括：
于基板上形成光阻图案，其中所述光阻图案是以如权利要求5所述之方法而形成；
于所述基板上以及所述光阻图案上形成金属层；以及
移除所述光阻图案以及位于所述光阻图案上的所述金属层，以形成金属图案。
7.一种发光二极管晶粒的制造方法，其特征在于，包括：
于基板上形成半导体层；以及
于所述半导体层的至少其中一侧形成金属图案，以作为电极层，其中所述金属图案是以如权利要求6所述的方法形成。
8.一种有机发光显示装置的制造方法，其特征在于，包括：
于基板上形成第一电极层；
于所述基板上涂布负型感光性树脂组合物，其中所述负型感光性树脂组合物如权利要求1至3中任一项所述；
对所述负型感光性树脂组合物进行处理步骤，以形成隔离壁；
于所述隔离壁所定义的区域内形成有机层；以及
于所述有机层上形成第二电极层。

说明书全文

组合物、图案的形成方法、晶粒及显示装置的制造方法

【技术领域】

[0001] 本发明是有关于一种感光性树脂组合物及其应用，且特别是有关于一种负型感光性树脂组合物及其应用。【背景技术】

[0002] 近年来，随着半导体工业、液晶显示器(liquid crystal display,LCD)以及有机电激发光显示装置(organic electro-luminescence display device,OELD)的发展，伴随而来对于尺寸缩小化的需求，使得微影(photolithography)工艺成为非常重要的议题。在微影(photolithography)工艺中，必须将所需的光阻图案(photoresist pattern)微细化(finer)，以达到尺寸缩小化的目的。

[0003] 一般而言，在半导体工艺中，金属图案(metallic pattern)可以剥离法(lift-off method)来制作。所述剥离法的步骤如下：首先，在基板上形成光阻图案。接着，在上面形成有光阻图案的基板上蒸镀金属层。最后，剥离光阻图案与形成在光阻图案上的金属层来形成金属图案。在剥离法中，由于光阻图案的剖面为逆锥状(reversed tapered shape)，因此覆盖在基板上的金属层与覆盖在光阻图案上的金属层不连续，而易于移除。值得一提的是，上述光阻图案存在有耐热性不佳、吸水性高等问题。

[0004] 另一方面，在有机电激发光显示装置中，通常是以光阻图案作为在第一电极层上的隔离壁(spacer)，并且将有机EL介质涂布经由隔离壁而暴露出的第一电极层上来形成像素层。接着，在隔离壁与像素层的整体表面上蒸镀金属层来形成位于像素层上的第二电极层。值得一提的是，由于有机发光组件容易受到水份、溶剂等成分破坏，因此希望以吸水性低的材料作为隔离壁。又，为了除去隔离壁中残留的水份与溶剂，通常在高温下对隔离壁与其它有机发光组件进行脱气处理(deaeration treatment)。然而，隔离壁却因此变形，而不利于使用。

[0005] 日本特许3320397号揭示一种逆锥状光阻图案的形成方法，其是使用双酚类化合物来作为负型感光性树脂组合物，并且以所述负型感光性树脂组合物来形成光阻图案。如此一来，便可以蒸镀方式于光阻图案上形成金属图案，并且所述光阻图案亦可形成为耐热性佳、吸水性低的隔离壁。然而，使用所述负型感光性树脂组合物来形成的光阻图案却存在与基板之间剥除性不佳以及不耐蒸镀工艺的问题。

[0006] 于是，亟需发展一种负型感光性树脂组合物，其适于形成一种与基板之间的剥除性佳，且耐蒸镀工艺的光阻图案。【发明内容】

[0007] 本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其用于形成一种与基板之间的剥除性佳，且耐蒸镀工艺的光阻图案。

[0008] 本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其包括酚醛清漆树脂(novolac resin)(A)、光酸产生剂(photoacid generator)(B)、碱性化合物(basic compound)(C)、交联剂(cross-linking agent)(D)以及溶剂(E)。酚醛清漆树脂(A)包括羟基型酚醛清漆树脂(hydroxy-type novolac resin)(A-1)与二甲酚型酚醛清漆树脂(xylenol-type novolac resin)(A-2)。羟基型酚醛清漆树脂(A-1)是由羟基苯甲醛类化合物(hydroxybenzaldehyde compound)与芳香族羟基化合物(aromatic hydroxy compound)缩聚而得。二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合物(aldehyde compound)与二甲酚类化合物(xylenol compound)缩聚而得。

[0009] 在本发明的一实施例中，上述的光酸产生剂(B)可包括鎓盐化合物(onium salt compound)、含卤化合物(halogen-containing compound)、砜化合物(sulfone compound)、磺酸化合物(sulfonic acid compound)、磺酰亚胺化合物(sulfonimide compound)或上述化合物之组合。

[0010] 在本发明的一实施例中，上述的碱性化合物(C)包括脂肪族伯胺(aliphatic primary amine)、脂肪族仲胺(aliphatic secondary amine)、脂肪族叔胺(aliphatic tertiary amine)、胺基醇(amino alcohol)、芳香族胺(aromatic amine)、季铵氢氧化物(quaternary ammonium hydroxide)、脂环族胺(alicyclic amine)或上述化合物之组合。

[0011] 在本发明的一实施例中，其中基于酚醛清漆树脂(A)100重量份，光酸产生剂(B)的使用量为0.1至5重量份；碱性化合物(C)的使用量为0.1至5重量份；交联剂(D)的使用量为5至50重量份；且溶剂(E)的使用量为100至1000重量份。

[0012] 在本发明的一实施例中，其中基于羟基型酚醛清漆树脂(A-1)与二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的总使用量为100重量％，羟基型酚醛清漆树脂(A-1)的使用量为10重量％至80重量％，且二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的使用量为90重量％至20重量％。

[0013] 本发明亦提供一种光阻图案的形成方法，其包括下述步骤：首先，于基板上，涂布上述的负型感光性树脂组合物。接着，对负型感光性树脂组合物进行处理步骤，以形成光阻图案。

[0014] 在本发明的一实施例中，其中上述的光阻图案为隔离壁。

[0015] 本发明另提供一种金属图案的形成方法，其包括下述步骤：首先，于基板上形成上述的光阻图案。接着，于基板上及光阻图案上形成金属层。最后，移除光阻图案与位于光阻图案上的金属层，以形成金属图案。

[0016] 本发明还提供一种发光二极管晶粒(grain)的制造方法，其包括下述步骤：首先，于基板上形成半导体层。接着，于半导体层的至少其中一侧形成金属图案，以作为电极层，其中金属图案是以上述的方法来形成。

[0017] 本发明提供一种有机发光二极管显示装置的形成方法，其步骤如下：首先，于基板上形成第一电极层。接着，于基板上涂布上述的负型感光性树脂组合物。然后，对负型感光性树脂组合物进行处理步骤，以形成隔离壁。接着，于隔离壁所定义的区域内形成有机层。最后，于有机层上形成第二电极层。

[0018] 基于上述，本发明通过负型感光性树脂组合物的酚醛清漆树脂(A)同时包括羟基型酚醛清漆树脂(A-1)与二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)，可以有效改善由习知负型感光性树脂组合物作为光阻图案时，光阻图案与基板之间的剥除性不佳以及光阻图案不耐蒸镀工艺的问题。

[0019] 为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并详细说明如下。

[0020] 【图式简单说明】

[0021] 图1A至图1C是依照本发明的一实施例的一种发光二极管晶粒的制作方法的示意图。

[0022] 图2A至图2C是依照本发明的一实施例的一种有机发光二极管显示装置的制作方法的示意图。

[0023] 【符号说明】

[0024] 100：发光二极管晶粒

[0025] 110、210：基板

[0026] 120：半导体层

[0027] 120a：N型半导体层

[0028] 120b：主动层

[0029] 120c：P型半导体层

[0030] 130：光阻图案

[0031] 140：金属层

[0032] 140a：金属图案

[0033] 142、220：第一电极层

[0034] 144、250：第二电极层

[0035] 200：有机发光二极管显示装置

[0036] 230：隔离壁

[0037] 240：有机层

[0038] 【实施方式】

[0039] <负型感光性树脂组合物的制备>

[0040] 本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其包括酚醛清漆树脂(A)、光酸产生剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂(E)。此外，若需要，负型感光性树脂组合物可进一步包括添加剂(F)。以下将详细说明用于本发明的负型感光性树脂组合物的各个成分。

[0041] 酚醛清漆树脂(A)

[0042] 酚醛清漆树脂(A)包括羟基型酚醛清漆树脂(A-1)与二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)。

[0043] 羟基型酚醛清漆树脂(A-1)

[0044] 羟基型酚醛清漆树脂(A-1)是由羟基苯甲醛类化合物与芳香族羟基化合物在酸性催化剂(acidic catalyst)存在下经缩合反应而得。

[0045] 羟基苯甲醛类化合物的具体例包括：邻-羟基苯甲醛、间-羟基苯甲醛及对-羟基苯甲醛或其类似物的羟基苯甲醛化合物(hydroxybenzaldehyde compound)；2,3-二羟基苯甲醛、2,4-二羟基苯甲醛、2,5-二羟基苯甲醛、3,4-二羟基苯甲醛及3,5-二羟基苯甲醛或其类似物的二羟基苯甲醛化合物(dihydroxybenzaldehyde compound)；2,3,4-三羟基苯甲醛、2,4,5-三羟基苯甲醛、2,4,6-三羟基苯甲醛、3,4,5-三羟基苯甲醛或其类似物的三羟基苯甲醛化合物(trihydroxybenzaldehyde compound)；邻-羟甲基苯甲醛、间-羟甲基苯甲醛、对-羟甲基苯甲醛或其类似物的羟基烷基苯甲醛化合物(hydroxyalkylbenzaldehyde compound)，或上述化合物之组合。羟基苯甲醛类化合物可单独使用或组合多种来使用。羟基苯甲醛类化合物较佳为邻-羟基苯甲醛、间-羟基苯甲醛、对-羟基苯甲醛、2,3-二羟基苯甲醛、2,4-二羟基苯甲醛、3,4-二羟基苯甲醛、2,3,4-三羟基苯甲醛或邻-羟甲基苯甲醛。

[0046] 芳香族羟基化合物的具体例包括：苯酚(phenol)；间-甲酚(m-cresol)、对-甲酚(p-cresol)、邻-甲酚(o-cresol)或其类似物的甲酚(cresol)类；2,3-二甲苯酚(2,3-dimethylphenol)、2,5-二甲苯酚(2,5-dimethylphenol)、3,5-二甲苯酚(3,5-dimethylphenol)、3,4-二甲苯酚(3,4-dimethylphenol)或其类似物的二甲酚(xylenol)类；间-乙基苯酚、对-乙基苯酚、邻-乙基苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、2,3,5-三乙基苯酚、4-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、2-叔丁基苯酚、2-叔丁基-4-甲基苯酚、2-叔丁基-5-甲基苯酚、6-叔丁基-3-甲基苯酚或其类似物的烷基苯酚(alkyl phenol)类；对-甲氧基苯酚、间-甲氧基苯酚、对-乙氧基苯酚、间-乙氧基苯酚、对-丙氧基苯酚、间-丙氧基苯酚或其类似物的烷氧基苯酚(alkoxy phenol)类；邻-异丙烯基苯酚、对-异丙烯基苯酚、2-甲基-4-异丙烯基苯酚、2-乙基-4-异丙烯基苯酚或其类似物的异丙烯基苯酚(isopropenyl phenol)类；苯基苯酚(phenyl phenol)的芳基苯酚(aryl phenol)类；4,4'-二羟基联苯(4,4'-dihydroxy biphenyl)、双酚A(bisphenol A)、间-苯二酚(resorcinol)、对-苯二酚(hydroquinone)、1,2,3-苯三酚(pyrogallol)或其类似物的多羟基苯(polyhydroxyphenol)类，或上述化合物之组合。芳香族羟基化合物可单独使用或组合多种来使用。芳香族羟基化合物较佳为邻-甲酚、间-甲酚、对-甲酚、2,5-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚或2,3,5-三甲基苯酚。

[0047] 酸性催化剂的具体例包括：盐酸(hydrochloric acid)、硫酸(sulfuric acid)、甲酸(methanoic acid)、醋酸(acetic acid)、草酸(oxalic acid)、对甲苯磺酸(p-toluenesulfonic acid)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0048] 二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)

[0049] 二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)是由醛类化合物与二甲酚类化合物在的酸性催化剂存在下经缩合反应而得，其中酸性催化剂可使用如合成羟基型酚醛清漆树脂(A-1)所使用的酸性催化剂。

[0050] 醛类化合物的具体例包括：甲醛(formaldehyde)、多聚甲醛(paraformaldehyde)、三聚甲醛(trioxane)、乙醛、丙醛、丁醛、三甲基乙醛、丙烯醛(acrolein)、丁烯醛(crotonaldehyde)、环己醛(cyclohexanecarbaldehyde)、呋喃甲醛(furfural)、呋喃基丙烯醛(furylacrolein)、苯甲醛(benzaldehyde)、对苯二甲醛(terephthal aldehyde)、苯乙醛、α-苯基丙醛、β-苯基丙醛、邻-甲基苯甲醛、间-甲基苯甲醛、对-甲基苯甲醛、邻-氯苯甲醛、间-氯苯甲醛、对-氯苯甲醛、肉桂醛(cinnamaldehyde)或其类似物，或上述化合物之组合。醛类可单独使用或组合多种来使用。醛类化合物较佳为甲醛或苯甲醛。

[0051] 二甲酚类化合物的具体例包括：2,3-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚或上述化合物之组合。

[0052] 基于羟基型酚醛清漆树脂(A-1)与二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的总使用量为100重量％，羟基型酚醛清漆树脂(A-1)的使用量为10重量％至80重量％；且二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的使用量为90重量％至20重量％。较佳地，羟基型酚醛清漆树脂(A-1)的使用量为15重量％至85重量％；且二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的使用量为85重量％至15重量％。更佳地，羟基型酚醛清漆树脂(A-1)的使用量为20重量％至80重量％；且二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的使用量为80重量％至20重量％。

[0053] 值得一提的是，由于包括羟基型酚醛清漆树脂(A-1)之负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案与基板之间剥除性较佳，而包括二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)之负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案，其耐蒸镀工艺的程度较佳。因此，若负型感光性树脂组合物不使用羟基型酚醛清漆树脂(A-1)或二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)，则所得之负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案具有剥除性不佳与不耐蒸镀工艺的问题。

[0054] 在可达到前述目的的前提下，本发明的负型感光性树脂组合物的酚醛清漆树脂(A)可进一步包括其它酚醛清漆树脂(A-3)。其它酚醛清漆树脂(A-3)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物在上述的酸性催化剂存在下经缩合反应而得。醛类化合物与芳香族羟基化合物如上述所列举的化合物，但其它酚醛清漆树脂(A-3)的结构与上述的羟基型酚醛清漆树脂(A-1)及二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的结构不同。其它酚醛清漆树脂(A-3)可单独使用或组合多种来使用。

[0055] 光酸产生剂(B)

[0056] 光酸产生剂(B)是一种照射光之后可产生酸的化合物。在本发明中，光酸产生剂(B)作为酚醛清漆树脂(A)与下述交联剂(D)进行聚合反应的催化剂。具体而言，光酸产生剂(B)例如是鎓盐化合物、含卤化合物、砜化合物、磺酸化合物、磺酰亚胺化合物或上述化合物的组合。

[0057] 鎓盐化合物例如是碘盐(iodonium salt)、锍盐(sulfonium salt)、鏻盐(phosphonium salt)、重氮盐(diazonium salt)、吡啶盐(pyridinium salt)或其类似物。鎓盐化合物的具体例包括二苯基碘三氟甲烷磺酸盐(diphenyliodonium
trifluoromethanesulfonate)、二苯基碘对甲苯磺酸盐(diphenyliodonium p-toluenesulfonate)、二苯基碘六氟锑酸盐(diphenyliodonium hexafluoroantimonate)、二苯基碘六氟磷酸盐(diphenyliodonium hexafluorophosphate)、二苯基碘四氟硼酸盐(diphenyliodonium tetrafluoroborate)、三苯基锍三氟甲烷磺酸盐
(triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate)、三苯基锍对甲苯磺酸盐(triphenylsulfonium p-toluenesulfonate)、三苯基锍六氟锑酸盐(triphenylsulfonium hexafluoroantimonate)、4-叔丁基苯基二苯基锍三氟甲烷磺酸盐(4-t-
butylphenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate)、4-叔丁基苯基二苯基锍对甲苯磺酸盐(4-t-butylphenyldiphenylsulfonium p-toluenesulfonate)、4,7-二正丁氧基萘基四氢噻吩鎓三氟甲烷磺酸盐(4,7-di-n-butoxynaphthyltetrahydrothiophenium trifluoromethanesulfonate)或上述化合物之组合。

[0058] 此外，鎓盐化合物也可以是环己基甲基(2-侧氧基环己基)锍三氟甲烷磺酸盐(cyclohexylmethyl(2-oxocyclohexyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate)、二环己基(2-侧氧基环己基)锍三氟甲烷磺酸盐(dicyclohexyl(2-oxocyclohexyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate)、(2-侧氧基环己基)(2-降冰片烷基)锍三氟甲烷磺酸盐(2-oxocyclohexyl)(2-norbornyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate)、2-环己基砜基环己酮(2-cyclohexylsulfonyl cyclohexanone)、二甲基(2-侧氧基环己基)锍三氟甲烷磺酸盐(dimethyl(2-oxocyclohexyl)sulfoniumtrifluoromethanesulfonate)、N-羟基丁二酰亚胺三氟甲烷磺酸盐(N-hydroxy succinimide trifluoromethanesulfonate)、苯基对甲苯磺酸盐(phenyl p-toluenesulfonate)或上述化合物的组合。

[0059] 含卤化合物例如是含有卤烷基的碳氢化合物(haloalkyl-containing hydrocarbon compound)或含有卤烷基的杂环化合物(haloalkyl-containing heterocyclic compound)。含卤化合物的具体例包括1,10-二溴正癸烷(1,10-dibromo-n-decane)、1,1-双(4-氯苯基)-2,2,2-三氯乙烷(1,1-bis(4-chlorophenyl)-2,2,2-trichloroethane)、苯基-双(三氯甲基)-s-三嗪(phenyl-bis(trichloromethyl)-s-triazine)、4-甲氧基苯基-双(三氯甲基)-s-三嗪(4-methoxyphenyl bis(trichloromethyl)-s-triazine)、苯乙烯基双(三氯甲基)-s-三嗪)(styryl bis(trichloromethyl)-s-triazine)、萘基双(三氯甲基)-s-三嗪(naphthyl bis(trichloromethyl)-s-triazine)、2,4-双(三氯甲基)-6-对-甲氧基苯乙烯基-s-三嗪(2,
4-bis(trichloromethyl)-6-p-methoxystyryl-s-triazine,TAZ-110)或类似之s-三嗪，或上述化合物之组合。

[0060] 此外，含卤化合物也可以是三(2,3-溴丙基)磷酸酯(tris(2,3-dibromopropyl)phosphate)、三(2,3-二溴-3-氯丙基)磷酸酯(tris(2,3-dibromo-3-chloropropyl)phosphate)、四溴氯丁烷(tetrabromochlorobutane)、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲烷)-s-三嗪(2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine)、2-[2-(4-甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲烷)-s-三嗪(2-[2-(4-methoxypheny)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine)、六氯苯(hexachlorobenzene)、六溴苯(hexabromobenzene)、六溴环十二烷
(hexabromocyclododecane)、六溴环十二烯(hexabromocyclododecene)、六溴联苯(hexabromobiphenyl)、丙烯基三溴苯基醚(allyltribromophenyl ether)、四氯双酚A(tetrachlorobisphenol A)、四溴双酚A(tetrabromobisphenol A)、四氯双酚A的双(氯乙基)醚(bis(chloroethyl)ether of tetrachlorobisphenol A)、四溴双酚A的双(溴乙基)醚(bis(bromoethyl)ether of tetrabromobisphenol A)、双酚A的双(2,3-二氯丙基)醚(bis(2,3-dichloropropyl)ether of bisphenol A)、双酚A的双(2,3-二溴丙基)醚(bis(2,3-dibromopropyl)ether of bisphenol A)、四氯双酚A的双(2,3-二氯丙基)醚(bis(2,
3-dichloropropyl)ether of tetrachlorobisphenol A)、四溴双酚A的双(2,3-二溴丙基)醚(bis(2,3-dibromopropyl)ether of tetrabromobisphenol A)、四氯双酚S的双(氯乙基)醚(bis(chloroethyl)ether of the tetrachlorobisphenol S)、四溴双酚S(tetrabromobisphenol S)、四氯双酚S(tetrachlorobisphenol S)、四溴双酚S的双(溴乙基)醚(bis(bromoethyl)ether of tetrabromobisphenol S)、双酚S的双(2,3-二氯丙基)醚(bis(2,3-dichloropropyl)ether of the bisphenol S)、双酚S的双(2,3-二溴丙基)醚(bis(2,3-dichloropropyl)ether of the bisphenol S)、三(2,3-二溴丙基)三聚氰酸酯(tris(2,3-dibromopropyl)isocyanurate)、2,2-双(4-羟基-3,5-二溴苯基)丙烷(2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl)propane)、2,2-双(4-(2-羟基乙氧基)-3,5-二溴苯基)丙烷(2,2-bis(4-(2-hydroxyethoxy)-3,5-dibromophenyl)propane)或其类似物的卤素系阻燃剂(halogen series flame retardant)。

[0061] 砜化合物例如是β-酮砜化合物(β-ketosulfone compounds)、砜基化合物(β-sulfonyl sulfone compounds)或上述这些化合物的α-重氮化合物(α-diazocompound)。砜化合物的具体例包括4-三苯甲酰甲基砜(4-trisphenacyl sulfone)、2,4,6-三甲苯基苯甲酰甲基砜(mesityl phenacyl sulfone)、双(苯甲酰甲基砜基)甲烷(bis(phenacylsulfonyl)methane)或上述化合物之组合。

[0062] 磺酸化合物例如是烷基磺酸酯类(alkylsulfonic acid ester)、卤烷基磺酸酯类(haloalkylsulfonic acid ester)、芳基磺酸酯类(arylsulfonic acid ester)或亚胺基磺酸酯类(iminosulfonate)。磺酸化合物的具体例包括安息香甲苯磺酸酯(benzoin tosylate)、五倍子酚三(三氟甲烷磺酸酯) (pyrogallol tris(trifluoromethanesulfonate))、邻硝基苯基三氟甲烷磺酸酯(o-nitrobenzyl trifluoromethanesulfonate)、邻硝基苯基对甲苯磺酸酯(o-nitrobenzyl p-toluenesulfonate)或上述化合物之组合。

[0063] 磺酰亚胺化合物的具体例包括N-(三氟甲基砜基氧基)丁二酰亚胺(N-(trifluoromethylsulfonyloxy)succinimide)、N-(三氟甲基砜基氧基)酞酰亚胺(N-(trifluoromethylsulfonyloxy)phthalimide)、N-(三氟甲基砜基氧基)二苯基马来酰亚胺(N-(trifluoromethyl sulfonyloxy)diphenylmaleimide)、N-(三氟甲基砜基氧基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基亚酰胺(N-(trifluoromethylsulfonyloxy)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxyimide)、N-(三氟甲基砜基氧基)萘二甲酰亚胺(N-(trifluoromethyl sulfonyloxy)naphthylimide，NAI-105)或上述化合物之组合。

[0064] 前述之光酸产生剂(B)较佳为2,4-双(三氯甲基)-6-对-甲氧基苯乙烯基-s-三嗪(2,4-bis(trichloromethyl)-6-p-methoxystyryl-s-triazine,TAZ-110)、N-(三氟甲基砜基氧基)萘二甲酰亚胺(N-(trifluoromethyl sulfonyloxy)naphthylimide,NAI-105)、三苯基锍三氟甲烷磺酸盐(triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate)或上述化合物之组合。

[0065] 基于酚醛清漆树脂(A)的使用量为100重量份，光酸产生剂(B)的使用量通常为0.1至5重量份，较佳为0.3至5重量份，且更佳为0.5至4重量份。

[0066] 碱性化合物(C)

[0067] 碱性化合物(C)例如是脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、胺基醇、芳香族胺、季铵氢氧化物、脂环族胺或上述化合物之组合。碱性化合物(C)的具体例包括丁胺(butylamine)、己胺(hexylamine)、乙醇胺(ethanolamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、2-乙基己胺(2-ethylhexylamine)、2-乙基己氧基丙胺(2-ethylhexyloxypropylamine)、甲氧基丙胺(methoxy propylamine)、二乙胺基丙胺(diethylaminopropylamine)、N-甲苯胺(N-methylaniline)、N-乙苯胺(N-ethylaniline)、N-丙苯胺(N-propylaniline)、二甲基-N-甲苯胺(dimethyl-N-methylaniline)、二乙基-N-甲苯胺(diethyl-N-methylaniline)、二异丙基-N-甲苯胺(diisopropyl-N-dimethylaniline)、N-甲胺基酚(N-methylamino phenol)、N-乙胺基酚(N-ethylamino phenol)、N,N-二甲苯胺(N,N-dimethylaniline)、N,N-二乙苯胺(N,N-diethylaniline)、N,N-二甲胺基酚(N,N-dimethylamino phenol)、三戊胺(tripentylamine)、氢氧化四丁基铵(tetrabutylammonium hydroxide)、氢氧化四甲基铵(tetramethylammonium hydroxide)、1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯(1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene)、1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯(1,5-diazabicyclo[4.3.0]-5-nonene)或上述化合物之组合。

[0068] 前述之碱性化合物(C)较佳为三戊胺(tripentylamine)、N-乙苯胺(N-ethylaniline)、N,N-二甲胺基酚(N,N-dimethylamino phenol)、氢氧化四甲基铵(tetramethylammonium hydroxide,TMAH)、二乙胺基丙胺(diethylaminopropylamine)或上述化合物之组合。

[0069] 若负型感光性树脂组合物无使用碱性化合物(C)，则所得之负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案会有剥除性不佳之问题。

[0070] 基于酚醛清漆树脂(A)的使用量为100重量份，碱性化合物(C)的使用量通常为0.1至5重量份，较佳为0.5至5重量份，且更佳为0.5至4重量份。

[0071] 交联剂(D)

[0072] 交联剂(D)是一种促进线性分子(linear molecule)之间的共价键(covalentbond)或离子键(ionic bond)形成的化合物，其可使线性分子相互键结，进而形成网状聚合物(polymer network)。值得注意的是，酚醛清漆树脂(A)可经由上述光酸产生剂(B)的催化与交联剂(D)反应，而形成交联度(degree of crosslinking)较高的聚合物。

[0073] 交联剂(D)例如是烷氧基甲基化尿素树脂(alkoxy methylated urea resin)、烷氧基甲基化三聚氰胺树脂(alkoxy methylated melamine resin)、烷氧基甲基化尿羰基酸树脂(alkoxy methylated uronresin)、烷氧基甲基化甘脲树脂(alkoxy methylated glycoluryl resin)或烷氧基甲基化胺基树脂(alkoxy methylated amino resin)。

[0074] 此外，交联剂(D)例如是烷基醚化三聚氰胺树脂(alkyl etherified melamine resin)、苯并胍胺树脂(benzoguanamine resin)、烷基醚化苯并胍胺树脂(alkyl etherified benzoguanamine resin)、尿素树脂(urea resin)、烷基醚化尿素树脂(alkyl etherified urea resin)、氨基甲酸乙脂甲醛树脂(urethane formaldehyde resins)、溶胶态酚醛型酚树脂(resol-type phenol-formaldehyde resin)、烷基醚化溶胶态酚醛型酚树脂(alkyl etherified resol-type phenol-formaldehyde resin)或环氧树脂(epoxy resin)。

[0075] 在上述交联剂之中，较佳为烷氧基甲基化胺基树脂。烷氧基甲基化胺基树脂的具体例包括甲氧基甲基化胺基树脂(methoxy methylated amino resin)、乙氧基甲基化胺基树脂(ethoxy methylated amino resin)、正丙氧基甲基化胺基树脂(n-propoxy methylated amino resin)、正丁氧基甲基化胺基树脂(n-butoxy methylated amino resin)或上述化合物之组合。举例而言，烷氧基甲基化胺基树脂的市售产品的具体例包括PL-1170、PL-1174、UFR65、CYMEL300、CYMEL303(以上由三井塞铁克(Sumitomo Cytec)制造)、BX-4000、NIKALACMW-30、MX-290、MW-30HM、MS-11、MS-001、MX-750或MX-706(以上由三和化学(sanwa chemicals)制造)或上述化合物之组合。

[0076] 前述之交联剂(D)较佳为CYMEL303、NIKALAC MW-30、PL-1170或上述化合物之组合。

[0077] 基于酚醛清漆树脂(A)的使用量为100重量份，交联剂(D)的使用量通常为5至50重量份，较佳为7至45重量份，且更佳为10至40重量份。

[0078] 溶剂(E)

[0079] 负型感光性树脂组合物所使用的溶剂(E)是指可将上述成分溶解，但又不与上述成分反应的有机溶剂。

[0080] 溶剂(E)例如是(聚)亚烷基二醇单烷醚类、(聚)亚烷基二醇单烷醚醋酸酯类(alkylene glycol monoalkyl ether acetate)、其它醚类、酮类、乳酸烷酯类(alkyl lactate)、芳香族烃类、酰胺类或其组合。

[0081] (聚)亚烷基二醇单烷醚类的具体例包括乙二醇单甲醚(ethylene glycol monomethyl ether)、乙二醇单乙醚(ethylene glycol monoethyl ether)、二乙二醇单乙醚(diethylene glycol monoethyl ether)、二乙二醇单正丙醚(diethylene glycol mono-n-propyl ether)、二乙二醇单正丁醚(diethylene glycol mono-n-butyl ether)、三乙二醇单甲醚(triethylene glycol monomethyl ether)、三乙二醇单乙醚(triethylene glycol monoethyl ether)、丙二醇单甲醚(propylene glycol monomethyl ether)、丙二醇单乙醚(propylene glycol monoethyl ether,PGEE)、二丙二醇单甲醚(dipropylene glycol monomethyl ether)、二丙二醇单乙醚(dipropylene glycol monoethyl ether)、二丙二醇单正丙醚(dipropylene glycol mono-n-propyl ether)、二丙二醇单正丁醚(dipropylene glycol mono-n-butyl ether)、三丙二醇单甲醚(tripropylene glycol monomethyl ether)、三丙二醇单乙醚(tripropylene glycol monoethyl ether)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0082] (聚)亚烷基二醇单烷醚醋酸酯类(alkylene glycol monoalkyl ether acetate)的具体例包括乙二醇甲醚醋酸酯(ethylene glycol monomethyl ether acetate)、乙二醇乙醚醋酸酯(diethylene glycol monoethyl ether acetate)、丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate,PGMEA)、丙二醇乙醚醋酸酯(propylene glycol monoethyl ether acetate)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0083] 醚类的具体例包括二乙二醇二甲醚(diethylene glycol dimethyl ether)、二乙二醇甲乙醚(diethylene glycol methyl ethyl ether)、二乙二醇二乙醚(diethylene glycol diethyl ether)、四氢呋喃(tetrahydrofuran)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0084] 酮类的具体例包括甲乙酮(methyl ethyl ketone)、环己酮(cyclohexanone)、2-庚酮(2-heptone)、3-庚酮(3-heptone)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0085] 乳酸烷酯类(alkyl lactate)的具体例包括2-羟基丙酸甲酯(methyl2-hydroxy propionate)、2-羟基丙酸乙酯(ethyl2-hydroxy propionate)(亦称为乳酸乙酯(ethyl lactate,EL))或其类似物，或上述化合物之组合。

[0086] 其它酯类的具体例包括2-羟基-2-甲基丙酸甲酯(methyl2-hydroxy-2-methyl propionate)、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯(ethyl2-hydroxy-2-methyl propionate)、3-甲氧基丙酸甲酯(methyl3-methoxy propionate)、3-甲氧基丙酸乙酯(ethyl3-methoxy propionate)、3-乙氧基丙酸甲酯(methyl3-ethoxy propionate)、3-乙氧基丙酸乙酯(ethyl3-ethoxy propionate)、乙氧基醋酸乙酯(ethyl ethoxy acetate)、羟基醋酸乙酯(ethyl hydroxyl acetate)、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯(methyl2-hydroxy-3-methyl butanoate)、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯(3-methyl-3-methoxybutyl acetate)、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯(3-methyl-3-methoxybutyl propionate)、醋酸乙酯(ethyl acetate)、醋酸正丙酯(n-propyl acetate)、醋酸异丙酯(i-propyl acetate)、醋酸正丁酯(n-butyl acetate)、醋酸异丁酯(i-butyl acetate)、醋酸正戊酯(n-pentyl acetate)、醋酸异戊酯(i-pentyl acetate)、丙酸正丁酯(n-butyl propionate)、丁酸乙酯(ethyl butanoate)、丁酸正丙酯(n-propyl butanoate)、丁酸异丙酯(i-propyl butanoate)、丁酸正丁酯(n-butyl butanoate)、丙酮酸甲酯(methyl pyruvate)、丙酮酸乙酯(ethyl pyruvate)、丙酮酸正丙酯(n-propyl pyruvate)、乙酰醋酸甲酯(methyl acetoacetate)、乙酰醋酸乙酯(ethyl acetoacetate)、2-侧氧基丁酸乙酯(ethyl 2-oxobutanoate)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0087] 芳香族烃类的具体例包括甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0088] 酰胺类的具体例包括N-甲基吡咯烷酮(N-methyl pyrrolidone)、N,N-二甲基甲酰胺(N,N-dimethyl formamide)、N,N-二甲基乙酰胺(N,N-dimethyl acetamide)或其类似物，或上述化合物之组合。溶剂(E)可单独使用或组合多种来使用。溶剂(E)较佳为丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯或乳酸乙酯。

[0089] 基于酚醛清漆树脂(A)的使用量为100重量份，溶剂(E)的使用量通常为100至1000重量份，较佳为150至900重量份，且更佳为200至800重量份。

[0090] 添加剂(F)

[0091] 本发明的负型感光性树脂组合物可选择性地进一步添加添加剂(F)，具体而言，添加剂(F)例如是粘附助剂(adhesion auxiliary agent)、流平剂(leveling agent)、稀释剂或增感剂(sensitizer)或其类似物。

[0092] 粘合助剂例如是硅烷系(silane)化合物，以增加负型感光性树脂组合物与基板之间的粘合性(adhesion property)。硅烷(silane)系化合物的具体包括：乙烯基三甲氧基硅烷(vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基硅烷(vinyltriethoxysilane)、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(3-(methyl)acryloyloxypropyltrimethoxysilane,MPTMS)、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷(vinyltris(2-methoxyethoxy)silane)、N-(2-胺基乙基) -3 - 胺基丙基甲基二甲氧基硅烷 (N - (2- a mi no e th yl) - 3 -aminopropylmethyldimethoxysilane)、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基硅烷(N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane)、3-胺基丙基三乙氧基硅烷(3-aminopropyltriethoxysilane)、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane)、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane)、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷(3-chloropropylmethyldimethoxysilane)、3-氯丙基三甲氧基硅烷(3-
chloropropyltrimethoxysilane)、3-巯基丙基三甲氧基硅烷(3-
mercaptopropyltrimethoxysilane)、1,2-双-(三甲氧基硅基)乙烷(1,2-bis-(trimethoxysilyl)ethane)或上述化合物之组合。

[0093] 在本发明之具体例中，基于酚醛清漆树脂(A)的使用量为100重量份，粘合助剂的使用量通常为0重量份至2重量份，较佳为0.001重量份至1重量份，且更佳为0.005重量份至0.8重量份。

[0094] 流平剂可包括氟系表面活性剂或硅系表面活性剂。氟系表面活性剂的具体例包括市售的Flourate FC-430、FC-431(由3M制造)、F top EF122A、122B、122C、126、BL20(由得克姆股份有限公司制造(Tochem Products Co.,Ltd.))或上述化合物之组合。硅系表面活性剂的具体例包括：市售的SF-8427、SH29PA(由道康宁东丽聚硅氧股份有限公司(Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.)制造)或上述化合物之组合。

[0095] 基于酚醛清漆树脂(A)的使用量为100重量份，表面活性剂的使用量一般为0重量份至1.2重量份，较佳为0.025重量份至1.0重量份，且更佳为0.050重量份至0.8重量份。

[0096] 稀释剂的具体例包括市售之RE801、RE802(帝国油墨(TEIKOKU INK)制)或其类似物，或上述化合物之组合。

[0097] 增感剂的具体例包括：TPPA-1000P、TPPA-100-2C、TPPA-1100-3C、TPPA-1100-4C、TPPA-1200-24X、TPPA-1200-26X、TPPA-1300-235T、TPPA-1600-3M6C、TPPA-MF市售品(日本本州岛化学工业制)或上述化合物之组合。增感剂较佳为TPPA-600-3M6C或TPPA-MF。增感剂可单独使用或组合多种来使用。

[0098] 基于酚醛清漆树脂(A)的使用量为100重量份，增感剂的使用量通常为0重量份至20重量份，较佳为0.5重量份至18重量份，且更佳为1.0重量份至15重量份。

[0099] 添加剂(F)可单独使用或组合多种来使用。此外，本发明亦可依需要再添加其它的添加剂，例如是：可塑剂(plasticizer)或稳定剂(stabilizer)或其类似物。

[0100] 将上述酚醛清漆树脂(A)、光酸产生剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂(E)放置于搅拌器中搅拌，使其均匀混合成溶液状态，即可获得负型感光性树脂组合物，并且必要时，亦可添加添加剂(F)。

[0101] 上述负型感光性树脂组合物可以用来形成光阻图案。上述光阻图案可以用来作为形成金属图案的图案，并且金属图案可进一步作为发光二极管晶粒中的金属电极。此外，在有机发光二极管显示装置中，上述光阻图案也可以用来作为基板上的隔离壁。具体而言，如下所述：

[0102] <光阻图案的形成方法>

[0103] 上述负型感光性树脂组合物可用来形成光阻图案。以下将详细描述光阻图案的形成方法，其依序包括：使用负型感光性树脂组合物来形成光阻膜；对光阻膜进行光阻图案化曝光；以及通过碱显影移除未曝光区域以形成光阻图案。

[0104] -形成涂膜-

[0105] 通过旋转涂布(spin coating)、流延涂布(cast coating)或辊式涂布((roll coating))等涂布方式，在基板上均匀地涂布溶液状态的负型感光性树脂组合物，以形成涂膜。上述基板例如是硅基板、玻璃基板、铟锡氧化物(Indium tin oxide,ITO)膜基板、铬膜形成基板或树脂基板。

[0106] 形成涂膜之后，以减压干燥方式去除光硬化性聚硅氧烷组合物的大部分有机溶剂，然后以预烤(pre-bake)方式将残余的有机溶剂完全去除，使其形成光阻膜。一般而言，预烤为在80℃至110℃温度下对光阻膜进行10秒至200秒的加热处理。如此一来，便可获得厚度为0.5微米至5微米的光阻膜。

[0107] -光阻图案化曝光-

[0108] 以具有特定图案的光罩对上述光阻膜进行曝光。在本实施例中，负型感光性树脂组合物是一种交联型光增强光阻材料(cross-linking amplified resist material)，并且以光酸产生剂(B)以及交联剂(D)作为交联成份(cross-linking component)。因此，在对光阻膜图案化曝光后，在100℃至130℃的温度下，对光阻膜进行加热处理10秒至200秒，以增强交联反应的程度。

[0109] 在曝光过程中所使用的光线例如是紫外光、远紫外光、KrF准分子激光束(KrF excimer laser beam)或X光(X ray)。具体而言，曝光所使用的光线的具体例包括436纳米、405纳米、365纳米、254纳米的汞的放射线光谱(line spectrum)以及248纳米的KrF准分子激光束。

[0110] -显影-

[0111] 将上述经曝光的光阻膜浸渍于碱性显影液(alkali developing solution)中，以去除上述未经曝光的部分的光阻膜，由此可在基板上形成光阻图案。

[0112] 一般而言，使用碱性水溶液作为显影剂。碱性显影液例如是氢氧化钠(sodium hydroxide)、氢氧化钾(potassium hydroxide)、硅酸钠(sodium silicate)、氨(ammonia)或其类似物的无机碱；乙胺(ethylamine)、丙胺(propylamine)或其类似物的伯胺(primary amine)；二乙胺(diethylamine)、二丙胺(propylamine)或其类似物的仲胺(secondary amine)；三甲胺(trimethylamine)、三乙胺(triethylamine)或其类似物的叔胺(tertiary amine)；二乙基乙醇胺(diethylethanolamine)、三乙醇胺(triethanolamine)或其类似物的胺基醇(amino alcohols)；氢氧化四甲基铵(tetramethylammonium hydroxide)、氢氧化四乙基铵(tetraethylammoniumhydroxide)、氢氧化三乙基氢氧基甲基铵(triethylhydroxymethyl ammonium hydroxide)、氢氧化三甲基氢氧基乙基铵(trimethylhydroxyethylammonium hydroxide)或其类似物的氢氧化季铵(quaternary ammonium hydroxide)。必要时，亦可在碱性水溶液中添加甲醇(methyl alcohol)、乙醇(ethyl alcohol)、丙醇(propyl alcohol)、乙二醇(ethylene glycol)或其类似物的水溶性有机溶剂(water-soluble organic solvent)；表面活性剂(surfactant)；或树脂的溶解抑制剂(dissolution inhibitor)。

[0113] <发光二极管晶粒(grain)的制造方法>

[0114] 在本实施例中，可以使用上述负型感光性树脂组合物来形成的光阻图案作为图案来形成发光二极管晶粒的金属电极。具体而言，发光二极管晶粒的形成方法如图1A至图1C所示。

[0115] 请参见图1A，首先，在基板110上形成半导体层120。在本实施例中，半导体层120包括N型半导体层120a、主动层120b以及P型半导体层120c，并且自基板110上依序为N型半导体层120a、主动层120b以及P型半导体层120c。接着，通过上述光阻图案的形成方法在半导体层120上形成光阻图案130。在本实施例中，光阻图案130例如是上宽下窄的形状(亦即逆锥状)。

[0116] 然后，请参见图1B，利用溅射法(sputtering)、蒸镀法(deposition method)或其它合适的方法分别于半导体层120的两侧形成金属层140，以使金属层140分别覆盖在基板110、半导体层120以及光阻图案130上。此外，金属层140的材质可为金、银、铝、铜或是其它合适的金属材料。

[0117] 然后，请参见图1C。利用剥离法移除光阻图案130与位于光阻图案130上的金属层140，来对金属层140进行图案化，由此在半导体层120上形成金属图案140a。值得注意的是，在本实施例中，由于光阻图案130为上宽下窄的形状(亦即逆锥状)，因此覆盖在半导体层
120上的金属层140与覆盖在光阻图案130上的金属层140不连续，而易于移除。在其它实施例中，也可以视需求，将光阻图案设计为上窄下宽的形状(亦即顺锥状)或上下等宽(亦即垂直状)。

[0118] 值得一提的是，在半导体层120上的金属图案140a可用来作为第一电极层142，并且位于基板110上的金属层140可作为第二电极层144。如此一来，便可形成如图1C所示的发光二极管晶粒100。此外，虽然在本实施例中，第二电极层144未经图案化，并且全面覆盖于基板110上，但设计者亦可视产品需求而将第二电极层144图案化。

[0119] <有机发光二极管显示装置的制作方法>

[0120] 在本实施例中，可以上述负型感光性树脂组合物来形成的光阻图案做为隔离壁，由此形成有机发光二极管显示装置。具体而言，有机发光二极管显示装置的制造方法如图2A至图2C所示。

[0121] 请参见图2A，首先，在基板210上形成第一电极层220。根据一实施例，第一电极层220为多个电极图案，其材质包括金属氧化物，其例如是铟锡氧化物或是其它的类似物。根据另一实施例，第一电极层220包括多个电极图案以及与电极图案电性连接的主动组件。所述电极图案之材质包括金属氧化物，其例如是铟锡氧化物或是其它的类似物。所述主动组件包括至少一薄膜晶体管。

[0122] 然后，在基板210上形成隔离壁230。在本实施例中，形成隔离壁的230的方法例如是使用上述说明书第15页<光阻图案的形成方法>部分～第16页<显影>部分所记载的光阻图案的形成方法。在此，隔离壁230是位于第一电极层220的外围。此外，在本实施例中，隔离壁230为逆锥状。在其它实施例中，也可以视需求，将隔离壁230设计为顺锥状或垂直状。

[0123] 再接着，请参见图2B，以喷墨法(Ink-jet method)法，将有机材料涂布于上述隔离壁230所定义的区域内，以形成有机层240。值得注意的是，有机层240可为单层或多层结构，具体而言，有机层240包括发光层(light-emitting layer)、电洞传输材料(hole transporting material)、电洞注入材料(hole injecting material)、电子传输材料(electron transporting material)、电子注入材料(electron injecting material)或上述的组合。

[0124] 最后，请参见图2C，以溅射法、蒸镀法或是其它合适的方法于隔离壁230与有机层240的表面上蒸镀一层金属层，以形成第二电极层250。如此一来，便可形成如图2C所示的有机发光二极管显示装置200。

[0125] [合成例]

[0126] -酚醛清漆树脂A-1-1的合成例-

[0127] 在一容积1000毫升的四颈锥瓶上设置氮气入口、搅拌器、加热器、冷凝管及温度计，并且导入氮气。接着，添加0.70摩尔的间-甲酚、0.30摩尔的对-甲酚、0.5摩尔的3,4-二羟基苯甲醛及0.020摩尔的草酸于上述四颈锥瓶中。然后，一边搅拌一边加热反应溶液的温度至100℃，并于100℃下进行缩聚6小时。接着，加热反应溶液至180℃，并以10mmHg的压力进行减压干燥，以使溶剂蒸发(evaporate)。最后，可获得酚醛清漆树脂(A-1-1)。酚醛清漆树脂(A-1-1)的成份种类及其使用量如表1所示。

[0128] -酚醛清漆树脂A-1-2至A-3-3的合成例-

[0129] 同酚醛清漆树脂A-1-1的合成方法，不同处在于酚醛清漆树脂A-1-2至A-3-3改变酚醛清漆树脂(A-1)中反应物种类及其使用量、反应温度以及缩聚时间。有关酚醛清漆树脂A-1-2至A-3-3的反应物种类及其使用量、反应温度以及缩聚时间如表1所示。

[0130] 值得注意的是，酚醛清漆树脂A-1-1至A-1-3为羟基型酚醛清漆树脂(A-1)；酚醛清漆树脂A-2-1至A-2-3为二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)；并且酚醛清漆树脂A-3-1至A-3-3为其它酚醛清漆树脂(A-3)。

[0131] 表1

[0132]

[0133] [实施例]

[0134] -实施例1-

[0135] 将40重量份的酚醛清漆树脂A-1-1、60重量份的酚醛清漆树脂A-2-1、0.1重量份的2,4-双(三氯甲基)-6-对-甲氧基苯乙烯基-s-三嗪、0.1重量份的三戊胺
(tripentylamine)、5重量份的CYMEL303加入100重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate,PGMEA)中，并以摇动式搅拌器(shaking type stirrer)搅拌均匀后，即可制得实施例1的负型感光性树脂组合物。

[0136] 将上述实施例1的负型感光性树脂组合物以旋转涂布方式涂布于玻璃基板上，以形成涂膜。接着，将涂膜在100℃下预烤90秒，以形成厚度为约3.4μm的光阻膜。然后，利用80mJ/cm2的紫外光对光阻膜进行图案化曝光(曝光机型号为AG500-4N，由M&R纳米科技(M&R Nanotechnology)制造；并且使用的光罩为线与间距(line and space)的光罩(由日本惠尔康(NIPPON FILCON)制造)。接着，在110℃的温度下，对光阻膜进行烘烤2分钟，以增强交联反应的程度。接下来，将上面有经曝光的光阻膜的基板以23℃的2.38％的氢氧化四甲基铵(tetramethylammonium hydroxide,TMAH)水溶液1分钟进行显影，以去除基板上未经曝光的部分的光阻膜。如此一来，便可获得100个直径为20μm的圆柱(即光阻图案的半成品)。然后，用水清洗玻璃基板。最后，将光阻图案的半成品在120℃下以烘箱进行后烤2分钟，即可获得实施例1的光阻图案。

[0137] 此外，对实施例1的负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案的剥除性以及耐蒸镀工艺的程度进行评价，其结果如表3所示。

[0138] -实施例2至实施例10-

[0139] 实施例2至实施例10的负型感光性树脂组合物以及光阻图案是以与实施例1相同的步骤来制备，并且其不同处在于：改变成份的种类及其使用量(如表3所示)，其中表3中标号所对应的化合物如表2所示。此外，对负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案的剥除性以及耐蒸镀工艺的程度进行评价，其结果如表3所示。

[0140] 表2

[0141]

[0142]

[0143] -比较例1至比较例6-

[0144] 比较例1至比较例6的负型感光性树脂组合物以及光阻图案是以与实施例1相同的步骤来制备，并且其不同处在于：改变成份的种类及其使用量(如表4所示)，其中表4中标号所对应的化合物如表2所示。此外，对负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案的剥除性以及耐蒸镀工艺的程度进行评价，其结果如表4所示。

[0145] <评价方式>

[0146] [剥除性评价]

[0147] 将上述实施例2至10以及比较例1至比较例6的光阻图案(即圆柱)在70℃下浸泡(immerse)于剥离液(ST-897，奇美实业制)3分钟，使得基板上的光阻图案(即圆柱)被剥除。经上述处理后，观察基板上的圆柱残留数量。又，圆柱残留数量越少，表示光阻图案的剥除性越好(亦即容易被剥除)。根据下示准则来评价光阻图案的剥除性：

[0148] ○：0≦圆柱残留数量＜10

[0149] ╳：10≦圆柱残留数量

[0150] [耐蒸镀工艺评价]

[0151] 将上述实施例2至10以及比较例1至比较例6的光阻图案上，以真空蒸镀机(型号EVD-500，由佳能安内华(Canon ANELVA))公司制造)蒸镀一层厚度为的金属层。接着，以扫描式电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)观察基板上的圆柱破损数量。又，圆柱破损数量越少，表示光阻图案越耐蒸镀工艺。根据下示准则来评价光阻图案的耐蒸镀工艺的程度：

[0152] ○：0≦圆柱破损数量＜10

[0153] △：10≦圆柱破损数量＜20

[0154] ╳：20≦圆柱破损数量

[0155] <评价结果>

[0156] 请参照表3及表4。比较例1的负型感光性树脂组合物是单使用酚醛清漆树脂A-1-1(即羟基型酚醛清漆树脂(A-1))，而没有使用二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)。比较例2的负型感光性树脂组合物是单使用酚醛清漆树脂A-2-1(即二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2))，而没有使用羟基型酚醛清漆树脂(A-1)。从实验结果来看，比较例1与比较例2的光阻图案剥除性不佳，亦不耐蒸镀工艺。

[0157] 相较于此，实施例1至实施例10使用的负型感光性树脂组合物同时包括羟基型酚醛清漆树脂(A-1)以及二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)，并且实施例1至实施例10的光阻图案的剥除性佳，且耐蒸镀工艺。由此可知，由同时包括有羟基型酚醛清漆树脂(A-1)以及二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)的负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案剥除性较佳，且耐蒸镀工艺。

[0158] 比较例3至比较例6的负型感光性树脂组合物不含有碱性化合物(C)，并且比较例3至比较例6的光阻图案剥除性不佳。

[0159] 相较于此，实施例1至实施例10使用的负型感光性树脂组合物皆包括碱性化合物(C)，并且实施例1至实施例10的光阻图案的剥除性佳。由此可知，包括碱性化合物(C)的负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案剥除性较佳。

[0160] 表3

[0161]

[0162] 表4

[0163]

[0164] 综上所述，本发明通过使负型感光性树脂组合物同时包括有羟基型酚醛清漆树脂(A-1)、二甲酚型酚醛清漆树脂(A-2)以及碱性化合物(C)，可解决解决习知由负型感光性树脂组合物所形成的光阻图案与基板之间剥除性不佳以及不耐蒸镀工艺的问题。

[0165] 虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视后附的权利要求所界定者为准。

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