トリアリールジアミン含有ノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
专利汇可以提供トリアリールジアミン含有ノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且【課題】 耐熱性、平坦化性、及び耐エッチング性を兼ね備えたリソグラフィー工程に用いられるレジスト下層膜を形成するための材料を提供する。 【解決手段】下記式（１）：（式（１）中、Ｒ １ は少なくとも２つのアミンと少なくとも３つの炭素数６乃至４０の芳香族環とを含む有機基であり、 Ｒ ２ 及びＲ ３ はそれぞれ、 水 素 原子 、炭素数１乃至１０のアルキル基、炭素数６乃至４０のアリール基、複素環基、又はそれらの組み合わせであり、かつ、該アルキル基、該アリール基、該複素環基は、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、ホルミル基、アルコキシ基、又はヒドロキシ基で置換されていても良く、あるいはＲ ２ 及びＲ ３ は一緒になって環を形成していても良い。）で示される単位構造を含むポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物。Ｒ １ がＮ，Ｎ'－ジフェニル－１，４－フェニレンジアミンから誘導される２価の有機基である上記組成物。，下面是トリアリールジアミン含有ノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物专利的具体信息内容。
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