首页 / 专利库 / 化学元素和化合物 / 表面活性剂 / 一种高强度触摸屏的表面处理方法

一种高强度触摸屏表面处理方法

阅读:594发布:2023-12-21

专利汇可以提供一种高强度触摸屏表面处理方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种高强度 触摸屏 的 表面处理 方法,涉及触摸屏技术领域,包括以下步骤;S1、 脱脂 ;S2、蚀刻;S3、催化;S4、活化;S5、还原;S6、化学 镀 银 。本发明通过催化、活化等步骤处理后,可以使得在镀银步骤中只在ITO上沉积银层,有效的提高了镀银效果,其次通过镀银可以使得触摸屏具有一定的耐 腐蚀 效果,且有效的增加其透光性和 导电性 ,优化了成像效果,其中 化学镀 银液中的 氧 化镧和 硫酸 高铈都可以和镀银层发生共沉积,使镀层更加细腻,加入一定重量比的氧化镧和硫酸高铈,二者随着镀银层的析出而沉积,填补置换银间的空隙,使镀层更加细腻,致密,具有金属光泽,达到镀层改进效果。,下面是一种高强度触摸屏表面处理方法专利的具体信息内容。

1.一种高强度触摸屏表面处理方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、将双面ITO玻璃放入脱脂剂中,常温下浸泡5min中后用胶刮清理干净,同时用蒸馏反复冲洗3-4次;
S2、将脱脂后的双面ITO玻璃放入蚀刻液中,在35-40度的温度下浸泡5min,然后用蒸馏水反复漂洗2-3次,每次3min;
S3、将蚀刻后的双面ITO玻璃放入催化液中,在20-40度温度下浸泡20min,然后用蒸馏水反复清洗2-3次,每次3min,所述催化液采用1%~20%的羟基乙酸溶液
S4、将催化处理后的双面ITO玻璃放入活化剂中,在40-50度的温度下浸泡10min;
S5、将活化处理后的双面ITO玻璃放入还原液中,在20-40度温度下浸泡3min,然后用蒸馏水清洗1-2min,所述还原液为10g/L的NaH2PO2·H2O;
S6、将还原后的双面ITO玻璃放入化学液中进行化学电镀,电镀后在120-150度高温下烘烤30min。
2.根据权利要求1所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述S1中脱脂剂包括以下成分:丙二醇甲醚35~50%,乙酸丁酯30~50%,油酸5~20%,聚乙烯0.1~3%,聚二甲基氧烷0.1~3%,羧酸0.005~0.01%。
3.根据权利要求1所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述S2中的蚀刻剂为5mol/L的盐酸
4.根据权利要求1所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述S5中活化剂按照如下方法制备:
A1、将PdCl2、去离子水和浓盐酸混合,在50℃下加热,得到H2PdCl4溶液;
A2、向所述H2PdCl4溶液中加入二亚乙基三胺,在50℃下保持4h,蒸除溶剂后得到钯复合物;
A3、将所述钯复合物溶于N-甲基吡咯烷中得到钯复合物的NMP溶液,然后将所述钯复合物的NMP溶液与二乙二醇单乙醚、二缩水甘油醚丁烷混合,制得活化剂。
5.根据权利要求1所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述S6中化学镀银液包括银盐、络合剂,pH调节剂和添加剂;添加剂为苯并三氮唑和聚乙二醇,苯并三氮唑和聚乙二醇的重量比为1:2.5-50;聚乙二醇为PEG-1000或PEG-400,化学镀银液的pH为
8.2-10.2。
6.根据权利要求4所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述化学镀银液还包括硫酸高铈,硫酸高铈的浓度为1-10ppm,化学镀银液中还含有氧化镧;氧化镧的浓度为5-50ppm。
7.根据权利要求4所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述化学镀银液还包括表面活性剂,表面活性剂为十二烷基硫酸钠和十二烷基苯磺酸钠中的一种或两种,且表面活性剂含量为13-50ppm。
8.根据权利要求4所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述化学镀银液的温度为41-46℃,镀银的时间5-9min。
9.根据权利要求1所述的一种高强度触摸屏的表面处理方法,其特征在于,所述S6镀银后需要对银层进行保护处理,其方法为利用络合剂(柠檬酸铵)与银络合吸附,形成有机保护膜。

说明书全文

一种高强度触摸屏表面处理方法

技术领域

[0001] 本发明涉及触摸屏技术领域,具体是一种高强度触摸屏的表面处理方法。

背景技术

[0002] 按照触摸屏的工作原理和传输信息的介质,把触摸屏分为四种,它们分别为电阻式、电容感应式、红外线式以及表面声波式。每一类触摸屏都有其各自的优缺点,要了解哪种触摸屏适用于哪种场合,关键就在于要懂得每一类触摸屏技术的工作原理和特点。
[0003] 掺化铟薄膜是一种半导体材料,具有优异的光电特性和导电性,在触摸屏技术方面得到了广泛的应用,在电容式触摸屏玻璃基板表面进行ITO溅后,使其成为双面ITO玻璃,不在同一面的ITO膜需要通过其四边边缘的ITO导线连通,为了降低控制芯片输入阻抗限制,就必须降低边缘的ITO电阻,而在ITO连通导线上覆盖一层金属镍层用于大大降低其电阻。
[0004] 经检索,中国专利公开了一种OGS电容触摸屏的边缘抛光方法(授权公告号CN04669069B)该专利涉及一种OGS电容触摸屏的边缘抛光方法,包括如下步骤:1、清洗OGS电容触摸屏;2、将清洗后的OGS电容触摸屏的两侧面均贴上保护膜,保护膜的各边缘均超出OGS电容触摸屏各边缘0.1~3mm;3、放置到抛光液中进行抛光,抛光掉OGS电容触摸屏的玻璃基板各侧边的微裂纹表层;4、清洗及吹干;这种通过化学抛光去掉微裂纹表层的方法,其稳定性是由抛光液中的反应活性物质的均匀性决定的,容易通过温度、液体流动的控制,使抛光液中反应活性物质的浓度达到均匀,具有稳定性高的优点,而且,不容易在夹缝中产生气泡,抛光液能够充分进入夹缝底部进行抛光,抛光后的OGS电容触摸屏的边缘具有更好的抗压性能。
[0005] 经检索,中国专利公开了一种在电容式触摸屏表面进行化学镀镍的方法(授权公告号CN104445997B)该专利涉及一种在电容式触摸屏表面进行化学镀镍的方法,包括:将ITO薄膜玻璃依次进行脱脂处理、刻蚀处理、活化处理、还原处理和化学镀镍,活化处理采用的活化剂按照如下方法制备:将PdCl2、去离子和浓盐酸混合,在50摄氏度下加热,得到H2PdCl4溶液;向所述H2PdCl4溶液中加入二亚乙基三胺,在50摄氏度下保持4h,蒸除溶剂后得到钯复合物,然后溶于N-甲基吡咯烷中得到钯复合物的NMP溶液,与二乙二醇单乙醚、二缩水甘油醚丁烷混合,得到活化剂,与现有技术相比,本发明采用上述方法制备的活化剂进行活化,避免了在化学镀镍步骤中电极与电极之间不需镀镍处被镀上导电物质,从而保证了具有良好的镀镍效果。
[0006] 但是镀镍不管从透光性、导电性以及反光性都比较一般,无法提升触摸屏的整体性能,因此,本领域技术人员提供了一种高强度触摸屏的表面处理方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

发明内容

[0007] 本发明的目的在于提供一种高强度触摸屏的表面处理方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
[0008] 为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种高强度触摸屏的表面处理方法,包括以下步骤:S1、将双面ITO玻璃放入脱脂剂中,常温下浸泡5min中后用胶刮清理干净,同时用蒸馏水反复冲洗3-4次;
S2、将脱脂后的双面ITO玻璃放入蚀刻液中,在35-40度的温度下浸泡5min,然后用蒸馏水反复漂洗2-3次,每次3min;
S3、将蚀刻后的双面ITO玻璃放入催化液中,在20-40度温度下浸泡20min,然后用蒸馏水反复清洗2-3次,每次3min,所述催化液采用1%~20%的羟基乙酸溶液
S4、将催化处理后的双面ITO玻璃放入活化剂中,在40-50度的温度下浸泡10min;
S5、将活化处理后的双面ITO玻璃放入还原液中,在20-40度温度下浸泡3min,然后用蒸馏水清洗1-2min,所述还原液为10g/L的NaH2PO2·H2O;
S6、将还原后的双面ITO玻璃放入化学镀液中进行化学电镀,电镀后在120-150度高温下烘烤30min。
[0009] 作为本发明再进一步的方案:所述S1中脱脂剂包括以下成分:丙二醇甲醚35~50%,乙酸丁酯30~50%,油酸5~20%,聚氧乙烯0.1~3%,聚二甲基氧烷0.1~3%,羧酸0.005~0.01%。
[0010] 作为本发明再进一步的方案:所述S2中的蚀刻剂为5mol/L的盐酸。
[0011] 作为本发明再进一步的方案:所述S5中活化剂按照如下方法制备:A1、将PdCl2、去离子水和浓盐酸混合,在50℃下加热,得到H2PdCl4溶液;
A2、向所述H2PdCl4溶液中加入二亚乙基三胺,在50℃下保持4h,蒸除溶剂后得到钯复合物;
A3、将所述钯复合物溶于N-甲基吡咯烷酮中得到钯复合物的NMP溶液,然后将所述钯复合物的NMP溶液与二乙二醇单乙醚、二缩水甘油醚丁烷混合,制得活化剂。
[0012] 作为本发明再进一步的方案:所述S6中化学镀银液包括银盐、络合剂,pH调节剂和添加剂;添加剂为苯并三氮唑和聚乙二醇,苯并三氮唑和聚乙二醇的重量比为1:2.5-50;聚乙二醇为PEG-1000或PEG-400,化学镀银液的pH为8.2-10.2。
[0013] 作为本发明再进一步的方案:所述化学镀银液还包括硫酸高铈,硫酸高铈的浓度为1-10ppm,化学镀银液中还含有氧化镧;氧化镧的浓度为5-50ppm。
[0014] 作为本发明再进一步的方案:所述化学镀银液还包括表面活性剂,表面活性剂为十二烷基硫酸钠和十二烷基苯磺酸钠中的一种或两种,且表面活性剂含量为13-50ppm。
[0015] 作为本发明再进一步的方案:所述化学镀银液的温度为41-46℃,镀银的时间5-9min。
[0016] 作为本发明再进一步的方案:所述S6镀银后需要对银层进行保护处理,其方法为利用络合剂(柠檬酸铵)与银络合吸附,形成有机保护膜。
[0017] 与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明通过催化、活化等步骤处理后,可以使得在镀银步骤中只在ITO上沉积银层,有效的提高了镀银效果,其次通过镀银可以使得触摸屏具有一定的耐腐蚀效果,且有效的增加其透光性和导电性,优化了成像效果,其中化学镀银液中的氧化镧和硫酸高铈都可以和镀银层发生共沉积,使镀层更加细腻,加入一定重量比的氧化镧和硫酸高铈,二者随着镀银层的析出而沉积,填补置换银间的空隙,使镀层更加细腻,致密,具有金属光泽,达到镀层改进效果,最后对镀银后的银层进行保护处理,可以使得镀银层更加牢固,避免出现脱落的问题,有效的延长其整体使用寿命,同时其可以完全消除导电区的存在,从而大大提高了ITO玻璃实际使用率。附图说明
[0018] 图1为一种高强度触摸屏的表面处理方法的步骤图。

具体实施方式

[0019] 下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0020] 请参阅图1,本发明实施例中,一种高强度触摸屏的表面处理方法,包括以下步骤:S1、将双面ITO玻璃放入脱脂剂中,常温下浸泡5min中后用胶刮清理干净,同时用蒸馏水反复冲洗3-4次;
S2、将脱脂后的双面ITO玻璃放入蚀刻液中,在35-40度的温度下浸泡5min,然后用蒸馏水反复漂洗2-3次,每次3min;
S3、将蚀刻后的双面ITO玻璃放入催化液中,在20-40度温度下浸泡20min,然后用蒸馏水反复清洗2-3次,每次3min,所述催化液采用1%~20%的羟基乙酸溶液;
S4、将催化处理后的双面ITO玻璃放入活化剂中,在40-50度的温度下浸泡10min;
S5、将活化处理后的双面ITO玻璃放入还原液中,在20-40度温度下浸泡3min,然后用蒸馏水清洗1-2min,所述还原液为10g/L的NaH2PO2·H2O;
S6、将还原后的双面ITO玻璃放入化学镀银液中进行化学电镀,电镀后在120-150度高温下烘烤30min。
[0021] 进一步的,S1中脱脂剂包括以下成分:丙二醇甲醚35~50%,乙酸丁酯30~50%,油酸5~20%,聚氧乙烯0.1~3%,聚二甲基硅氧烷0.1~3%,氨基羧酸0.005~0.01%。
[0022] 进一步的,S2中的蚀刻剂为5mol/L的盐酸。
[0023] 进一步的,S5中活化剂按照如下方法制备:A1、将PdCl2、去离子水和浓盐酸混合,在50℃下加热,得到H2PdCl4溶液;
A2、向所述H2PdCl4溶液中加入二亚乙基三胺,在50℃下保持4h,蒸除溶剂后得到钯复合物;
A3、将所述钯复合物溶于N-甲基吡咯烷酮中得到钯复合物的NMP溶液,然后将所述钯复合物的NMP溶液与二乙二醇单乙醚、二缩水甘油醚丁烷混合,制得活化剂。
[0024] 进一步的,S6中化学镀银液包括银盐、络合剂,pH调节剂和添加剂;添加剂为苯并三氮唑和聚乙二醇,苯并三氮唑和聚乙二醇的重量比为1:2.5-50;聚乙二醇为PEG-1000或PEG-400,化学镀银液的pH为8.2-10.2。
[0025] 进一步的,化学镀银液还包括硫酸高铈,硫酸高铈的浓度为1-10ppm,化学镀银液中还含有氧化镧;氧化镧的浓度为5-50ppm。
[0026] 进一步的,化学镀银液还包括表面活性剂,表面活性剂为十二烷基硫酸钠和十二烷基苯磺酸钠中的一种或两种,且表面活性剂含量为13-50ppm。
[0027] 进一步的,化学镀银液的温度为41-46℃,镀银的时间5-9min。
[0028] 进一步的,S6镀银后需要对银层进行保护处理,其方法为利用络合剂(柠檬酸铵)与银络合吸附,形成有机保护膜。
[0029] 综上所述,本发明通过催化、活化等步骤处理后,可以使得在镀银步骤中只在ITO上沉积银层,有效的提高了镀银效果,其次本发明中的化学镀银液,氧化镧和硫酸高铈都可以和镀银层发生共沉积,使镀层更加细腻,加入一定重量比的氧化镧和硫酸高铈,二者随着镀银层的析出而沉积,填补置换银间的空隙,使镀层更加细腻,致密,具有金属光泽,达到镀层改进效果,最后对镀银后的银层进行保护处理,可以使得镀银层更加牢固,避免出现脱落的问题,有效的延长其整体使用寿命,同时其可以完全消除导电区的存在,从而大大提高了ITO玻璃实际使用率。
[0030] 对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0031] 此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈