技术领域
[0001] 本
发明涉及铜箔制备技术领域,具体为一种超薄铜箔制备后的处理工艺。
背景技术
[0002] 铜箔是一种阴质性
电解材料,沉淀于
电路板基底层上的一层薄的、连续的金属箔,它作为PCB的导电体。它容易粘合于绝缘层,接受印刷保护层,
腐蚀后形成电路图样。
[0003] 铜箔具有低表面
氧气特性,可以附着与各种不同基材,如金属,绝缘材料等,拥有较宽的
温度使用范围。主要应用于
电磁屏蔽及抗静电,将导电铜箔置于衬底面,结
合金属基材,具有优良的导通性,并提供电磁屏蔽的效果。可分为:自粘铜箔、双导铜箔、单导铜箔等 。
电子级铜箔(纯度99.7%以上,厚度5um-105um)是电子工业的
基础材料之一电子信息产业快速发展,电子级铜箔的使用量越来越大,产品广泛应用于工业用计算器、通讯设备、QA设备、锂离子
蓄电池,民用电视机、录像机、CD播放机、复印机、电话、冷暖
空调、
汽车用电子部件、
游戏机等。国内外市场对电子级铜箔,尤其是高性能电子级铜箔的需求日益增加。有关专业机构预测,到2015年,中国电子级铜箔国内需求量将达到30万吨,中国将成为世界印刷
电路板和铜箔基地的最大制造地,电子级铜箔尤其是高性能箔市场看好。
[0004] 铜箔是
锂离子电池及印制电路板中关键性的导电材料。目前,市场上大部分的铜箔是用在锂离子电池
负极材料上。随着锂离子电池朝着高容量化、薄型化、高
密度化、高速化方向发展,铜箔也朝着具有超薄、低轮廓(铜箔表面粗糙度为2μm以下)、高强度、高延展性等高品质高性能的方向发展,而其性能与铜箔结构及
表面处理密切相关。目前,先进的铜箔生产技术和铜箔表面处理技术都由美国和日本垄断。
[0005] 现有的超薄铜箔制备的工序主要有
酸洗、粗化、
固化、灰化与
钝化、
喷涂硅烷、烘干等过程 。
[0006] 后处理工序-预处理铜箔由于在运输和存储过程中容易受到油脂、汗迹等污染,而且表面活性大,容易在表面生成氧化层,所以铜箔在粗化处理前必须进行除油、酸洗处理。
[0007] 预处理后的铜箔,如果直接与绝缘
树脂基板压合,铜箔与基板的粘结强度不高,容易脱落;为了增加铜箔与基板的粘结
力,必须对铜箔与基板结合的毛面进行粗化固化处理。
发明内容
[0008] (一)解决的技术问题针对
现有技术的不足,本发明提供了一种超薄铜箔制备后的处理工艺,解决了预处理后的铜箔,如果直接与绝缘树脂基板压合,铜箔与基板的粘结强度不高,容易脱落的问题。
[0009] (二)技术方案为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种超薄铜箔制备后的处理工艺,包括以下步骤:铜箔固化处理→铜箔毛面
镀锌处理→铜箔表面钝化处理→涂硅烷
偶联剂处理→铜箔烘干处理→铜箔分切处理;
S1、铜箔固化处理:在粗化层的瘤状颗粒间隙中沉积一层致密的金属铜,以增大粗化层与毛箔基体的
接触面,以降低粗化层表面的粗糙度;
S2、铜箔毛面镀锌处理:铜箔毛面通过镀锌处理,形成一层阻挡层,以提高铜箔在自然空气中的防氧化能力;
S3、铜箔表面钝化处理:镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬为主体的结构膜层,使铜箔不会因直接与空气接触而氧化变色,以提高铜箔的耐热性,以延长铜箔的储存期限;
S4、涂硅烷偶联剂处理:在防氧化处理后表面喷涂硅烷,以提高铜箔常温下的抗氧化能力,且在高温
压板时,硅烷能通过偶联使铜箔和树脂基材结合得更好,以提高
剥离强度。
[0010] S5、铜箔烘干处理:在不低于100℃下对铜箔进行烘干;S6、铜箔分切处理:针对不同的需求,对成品铜箔的品质、幅宽、重量要求进行分切分类,并
包装好。
[0011] 优选的,所述铜箔厚度小于12μm。
[0012] 优选的,所述S3的铜箔表面钝化处理中,镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐和锌盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬锌为主体的结构膜层。
[0013] (三)有益效果本发明提供了一种超薄铜箔制备后的处理工艺,具备以下有益效果:
本发明在铜箔毛面
电镀一层瘤状的铜颗粒,不仅能增加铜箔毛面的表面积,还能与绝缘树脂基板材料产生机械紧固作用,固化处理后,粗糙度虽有降低,但因增加了粗化层与毛箔的接触面积,导致处理层与绝缘基板材料的粘结强度却提高了,从根本上消除了处理层与毛箔分层的现象。
具体实施方式
[0014] 下面将结合本发明
实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0015] 本发明提供一种技术方案:实施例一:
一种超薄铜箔制备后的处理工艺,包括以下步骤:铜箔固化处理→铜箔毛面镀锌处理→铜箔表面钝化处理→涂硅烷偶联剂处理→铜箔烘干处理→铜箔分切处理;
S1、铜箔固化处理:在粗化层的瘤状颗粒间隙中沉积一层致密的金属铜,以增大粗化层与毛箔基体的接触面,以降低粗化层表面的粗糙度,微观上铜箔毛面粗化处理后,箔面凹凸不平,起伏极大,而经固化处理后铜箔表面较平坦,固化处理后,粗糙度虽有降低,但因增加了粗化层与毛箔的接触面积,导致处理层与绝缘基板材料的粘结强度却提高了,从根本上消除了处理层与毛箔分层的现象;
S2、铜箔毛面镀锌处理:铜箔毛面通过镀锌处理,形成一层阻挡层,以提高铜箔在自然空气中的防氧化能力,铜箔镀锌后外观看上去会有变灰的感觉,经过一段时间的存放此灰色会转化为铜黄色,镀得锌越多铜箔则越黄;
S3、铜箔表面钝化处理:镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬为主体的结构膜层,使铜箔不会因直接与空气接触而氧化变色,以提高铜箔的耐热性,以延长铜箔的储存期限,能达到3个月的储存期限;
S4、涂硅烷偶联剂处理:在防氧化处理后表面喷涂硅烷,以提高铜箔常温下的抗氧化能力,且在高温压板时,硅烷能通过偶联使铜箔和树脂基材结合得更好,以提高剥离强度。
[0016] S5、铜箔烘干处理:在不低于100℃下对铜箔进行烘干;S6、铜箔分切处理:针对不同的需求,对成品铜箔的品质、幅宽、重量要求进行分切分类,并包装好。
[0017] 实施例二:一种超薄铜箔制备后的处理工艺,包括以下步骤:铜箔固化处理→铜箔毛面镀锌处理→铜箔表面钝化处理→涂硅烷偶联剂处理→铜箔烘干处理→铜箔分切处理;
S1、铜箔固化处理:在粗化层的瘤状颗粒间隙中沉积一层致密的金属铜,以增大粗化层与毛箔基体的接触面,以降低粗化层表面的粗糙度,微观上铜箔毛面粗化处理后,箔面凹凸不平,起伏极大,而经固化处理后铜箔表面较平坦,固化处理后,粗糙度虽有降低,但因增加了粗化层与毛箔的接触面积,导致处理层与绝缘基板材料的粘结强度却提高了,从根本上消除了处理层与毛箔分层的现象;
S2、铜箔毛面镀锌处理:铜箔毛面通过镀锌处理,形成一层阻挡层,以提高铜箔在自然空气中的防氧化能力,铜箔镀锌后外观看上去会有变灰的感觉,经过一段时间的存放此灰色会转化为铜黄色,镀得锌越多铜箔则越黄;
S3、铜箔表面钝化处理:镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬为主体的结构膜层,使铜箔不会因直接与空气接触而氧化变色,以提高铜箔的耐热性,以延长铜箔的储存期限,能达到3个月的储存期限;
S4、涂硅烷偶联剂处理:在防氧化处理后表面喷涂硅烷,以提高铜箔常温下的抗氧化能力,且在高温压板时,硅烷能通过偶联使铜箔和树脂基材结合得更好,以提高剥离强度。
[0018] S5、铜箔烘干处理:在不低于150℃下对铜箔进行烘干;S6、铜箔分切处理:针对不同的需求,对成品铜箔的品质、幅宽、重量要求进行分切分类,并包装好。
[0019] 实施例三:一种超薄铜箔制备后的处理工艺,包括以下步骤:铜箔固化处理→铜箔毛面镀锌处理→铜箔表面钝化处理→涂硅烷偶联剂处理→铜箔烘干处理→铜箔分切处理;
S1、铜箔固化处理:在粗化层的瘤状颗粒间隙中沉积一层致密的金属铜,以增大粗化层与毛箔基体的接触面,以降低粗化层表面的粗糙度,微观上铜箔毛面粗化处理后,箔面凹凸不平,起伏极大,而经固化处理后铜箔表面较平坦,固化处理后,粗糙度虽有降低,但因增加了粗化层与毛箔的接触面积,导致处理层与绝缘基板材料的粘结强度却提高了,从根本上消除了处理层与毛箔分层的现象;
S2、铜箔毛面镀锌处理:铜箔毛面通过镀锌处理,形成一层阻挡层,以提高铜箔在自然空气中的防氧化能力,铜箔镀锌后外观看上去会有变灰的感觉,经过一段时间的存放此灰色会转化为铜黄色,镀得锌越多铜箔则越黄;
S3、铜箔表面钝化处理:镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬为主体的结构膜层,使铜箔不会因直接与空气接触而氧化变色,以提高铜箔的耐热性,以延长铜箔的储存期限,能达到3个月的储存期限;
S4、涂硅烷偶联剂处理:在防氧化处理后表面喷涂硅烷,以提高铜箔常温下的抗氧化能力,且在高温压板时,硅烷能通过偶联使铜箔和树脂基材结合得更好,以提高剥离强度。
[0020] S5、铜箔烘干处理:在不低于200℃下对铜箔进行烘干;S6、铜箔分切处理:针对不同的需求,对成品铜箔的品质、幅宽、重量要求进行分切分类,并包装好。
[0021] 作为本发明的一种优选技术方案:铜箔厚度小于12μm,为超薄铜箔。
[0022] 作为本发明的一种优选技术方案:S3的铜箔表面钝化处理中,镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐和锌盐溶液进行表面钝化,使铜箔表面形成以铬锌为主体的结构膜层。
[0023] 综上所述,该超薄铜箔制备后的处理工艺,在铜箔毛面电镀一层瘤状的铜颗粒,不仅能增加铜箔毛面的表面积,还能与绝缘树脂基板材料产生机械紧固作用,固化处理后,粗糙度虽有降低,但因增加了粗化层与毛箔的接触面积,导致处理层与绝缘基板材料的粘结强度却提高了,从根本上消除了处理层与毛箔分层的现象。
[0024] 以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉
本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。