一种水基磁流变抛光液及其配制方法
阅读：199发布：2020-05-08
专利汇可以提供一种水基磁流变抛光液及其配制方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 属于光学精密加工制造技术领域，尤其涉及一种 水 基磁流变 抛光 液 及其配制方法。本发明提供的水基磁流变抛光液包括： 磁性 颗粒77～88wt％；非磁性抛光粉0.01wt‰～8wt％；分散稳定剂0.2～0.5wt％；润湿剂0.5～1wt％；螯合剂0.1～0.4wt％；抗 氧 化剂0.01～0.02wt％；pH调节剂0.2～0.5wt％； 溶剂 为水；所述分散稳定剂为多聚 磷酸 盐 和/或 柠檬酸 盐；所述润湿剂为多元醇；所述螯合剂为 氨 基 羧酸 类化合物和/或有机磷酸盐。本发明提供的水基磁流变抛光液具有良好的分散 稳定性 和 粘度 稳定性，零 磁场 粘度低，材料去除效率高。，下面是一种水基磁流变抛光液及其配制方法专利的具体信息内容。
1.一种水基磁流变抛光液，包括：
所述分散稳定剂为多聚磷酸盐和/或柠檬酸盐；
所述润湿剂为多元醇；
所述螯合剂为氨基羧酸类化合物和/或有机磷酸盐。
2.根据权利要求1所述的水基磁流变抛光液，其特征在于，所述磁性颗粒包括未改性羰基铁粉、磷化羰基铁粉、还原羰基铁粉和包覆羰基铁粉中的一种或多种；
所述磁性颗粒的中值粒径D50为1～10μm。
3.根据权利要求1所述的水基磁流变抛光液，其特征在于，所述非磁性抛光粉包括金刚石粉、氧化铝粉和氧化铈粉中的一种或多种；
所述非磁性抛光粉的中值粒径D50为20nm～3μm。
4.根据权利要求1所述的水基磁流变抛光液，其特征在于，所述多聚磷酸盐包括三聚磷酸钠、四聚磷酸钠、聚磷酸铵、焦磷酸钠和六偏磷酸钠中的一种或多种；
所述柠檬酸盐包括柠檬酸钾、柠檬酸铵和柠檬酸钠中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的水基磁流变抛光液，其特征在于，所述多元醇包括丙二醇、丙三醇、丁二醇、山梨醇、聚甘油和聚丙二醇中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的水基磁流变抛光液，其特征在于，所述氨基羧酸类化合物包括乙二胺四乙酸盐和/或氮川三乙酸；
所述有机磷酸盐包括氨基三亚甲基膦酸五钠和/或氨基三甲叉膦酸四钠。
7.根据权利要求1所述的水基磁流变抛光液，其特征在于，所述抗氧化剂包括亚硝酸钠和/或苯甲酸钠。
8.根据权利要求1所述的水基磁流变抛光液，其特征在于，所述pH调节剂包括氢氧化钠、碳酸钠、氢氧化钾、碳酸钾、磷酸和盐酸中的一种或多种。
9.一种权利要求1～8任一项所述水基磁流变抛光液的配制方法，包括以下步骤：
将磁性颗粒、非磁性抛光粉、分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂和pH调节剂在水中混合，得到水基磁流变抛光液。
10.根据权利要求9所述的配制方法，其特征在于，所述混合的过程具体包括：
a)将分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂、pH调节剂和水混合，得到复合基载液；将磁性颗粒和非磁性抛光粉混合，得到固体分散相；
b)将所述复合基载液和固体分散相进行滚动搅拌，得到水基磁流变抛光液。
一种水基磁流变抛光液及其配制方法
技术领域
[0001] 本发明属于光学精密加工制造技术领域，尤其涉及一种水基磁流变抛光液及其配制方法。
背景技术
[0002] 磁流变抛光技术是一种新兴的光学表面精密加工技术，这种加工技术综合了电磁学、化学、接触力学、流体力学的知识，是一种介于接触与非接触之间的一种加工方法，可对
多种材料光学元件进行确定性加工。尤其是对玻璃和陶瓷等材料抛光应用最广。磁流变抛
光液的制备技术是磁流变抛光实现的关键技术之一，性能优良的磁流变抛光液也是实现磁
流变确定性抛光的必要条件。磁流变抛光技术体现了磁流变液在光学加工领域中创造性的
应用，其中，磁流变抛光液在主要成份上与传统领域应用的磁流变液大体类似，但是在成份
选择和具体使用要求上还是有着很大的差别。
多种材料光学元件进行确定性加工。尤其是对玻璃和陶瓷等材料抛光应用最广。磁流变抛
光液的制备技术是磁流变抛光实现的关键技术之一，性能优良的磁流变抛光液也是实现磁
流变确定性抛光的必要条件。磁流变抛光技术体现了磁流变液在光学加工领域中创造性的
应用，其中，磁流变抛光液在主要成份上与传统领域应用的磁流变液大体类似，但是在成份
选择和具体使用要求上还是有着很大的差别。
[0003] 基于实际光学加工的需求，磁流变抛光液应具有以下性能特征：(1)良好的分散稳定性。这里要求一是磁流变抛光液在使用过程中不发生沉降，保证抛光期间液体成份的一
致性，二是要求磁流变抛光液在经过静置后，通过简单的搅拌可以实现在再分散。(2)较低
的零磁场粘度。这一点要求抛光液在无磁场作用情况的粘度越低越好，从而保证液体在循
环系统中稳定的循环，同时实现在相同的抛光参数下获得更高的去除效率。(3)良好的流变
特性。磁流变抛光材料的去除效率与抛光液在磁场下的发生流变后的剪切屈服应力成正
比。因此，为了获得较高的材料去除效率，磁流变抛光液的配制要求具有较低零磁场粘度保
证流动性的同时要具有较好的流变特性。(4)易清洗性。磁流变抛光液加入到循环系统当中
进行抛光使用，抛光结束需要从循环系统中排出液体，然后对循环系统中的残存于循环管
路中的液体进行清洗，确保循环系统的洁净，以使下次抛光加入的新抛光液不受影响。因
此，磁流变抛光液的易清洗性也是非常重要的。(5)环保、无毒和配制工艺简单。
致性，二是要求磁流变抛光液在经过静置后，通过简单的搅拌可以实现在再分散。(2)较低
的零磁场粘度。这一点要求抛光液在无磁场作用情况的粘度越低越好，从而保证液体在循
环系统中稳定的循环，同时实现在相同的抛光参数下获得更高的去除效率。(3)良好的流变
特性。磁流变抛光材料的去除效率与抛光液在磁场下的发生流变后的剪切屈服应力成正
比。因此，为了获得较高的材料去除效率，磁流变抛光液的配制要求具有较低零磁场粘度保
证流动性的同时要具有较好的流变特性。(4)易清洗性。磁流变抛光液加入到循环系统当中
进行抛光使用，抛光结束需要从循环系统中排出液体，然后对循环系统中的残存于循环管
路中的液体进行清洗，确保循环系统的洁净，以使下次抛光加入的新抛光液不受影响。因
此，磁流变抛光液的易清洗性也是非常重要的。(5)环保、无毒和配制工艺简单。
[0004] 磁流变抛光液包括水基磁流变抛光液和油基的磁流变抛光液两种，由于水基的磁流变抛光液相对于油基磁流变抛光液在抛光效率、环保和成份控制等方面的优势，水基磁
流变抛光液更适合于光学加工使用。目前，国内外有一些研究单位对磁流变抛光液进行了
研究，国外主要有QED公司和罗杰斯特对磁流变抛光液进行了深入的研究，其中QED公司申
请的水基磁流变抛光液专利(US 5804095)，其采用的化学成份简单，但是分散稳定性不够，
而不能使抛光与所添加的磁性颗粒很好的结合光效率不高。另外提出了磁性颗粒和抛光粉
颗粒的选择提高磁流变抛光后光学镜面的表面质量，但是没有给出液体的具体成份和配制
方法。罗杰斯特大学申请的专利介绍了如何在羰基铁粉表面镀一层陶瓷膜层，提高磁流变
抛光液的抗氧化、抗锈蚀的能力，并且镀膜后的羰基铁粉可以与性的基载液混合配制成磁
流变抛光液同样的问题是没有介绍磁流变抛光液的具体配制方法，操作过程繁琐。
流变抛光液更适合于光学加工使用。目前，国内外有一些研究单位对磁流变抛光液进行了
研究，国外主要有QED公司和罗杰斯特对磁流变抛光液进行了深入的研究，其中QED公司申
请的水基磁流变抛光液专利(US 5804095)，其采用的化学成份简单，但是分散稳定性不够，
而不能使抛光与所添加的磁性颗粒很好的结合光效率不高。另外提出了磁性颗粒和抛光粉
颗粒的选择提高磁流变抛光后光学镜面的表面质量，但是没有给出液体的具体成份和配制
方法。罗杰斯特大学申请的专利介绍了如何在羰基铁粉表面镀一层陶瓷膜层，提高磁流变
抛光液的抗氧化、抗锈蚀的能力，并且镀膜后的羰基铁粉可以与性的基载液混合配制成磁
流变抛光液同样的问题是没有介绍磁流变抛光液的具体配制方法，操作过程繁琐。
[0005] 国内关于磁流变抛光液的研究目前还处于起步阶段，其中公开号为CN101139504A的专利通过使用表面活性剂对羰基铁粉进行表面处理，并采用球磨的方式进行混合搅拌，
得到磁流变液，然后添加抛光粉搅拌，配制出磁流变抛光液。这种方式获得磁流变抛光液工
艺复杂，采用球磨方式破坏了羰基铁粉表面形貌和粒径分布，影响配制出磁流变抛光液性
能。而且，采用直接将抛光粉加入到磁流变液中配制出磁流变抛光液，没有考虑到抛光粉与
羰基铁粉的相互作用，配制的磁流变抛光液零磁场粘度较高。另一个专利公开号为CN
101250380A的专利中，同样采用了球磨的方式对磁性颗粒和抛光粉组成的分散相与水基复
配基载液(连续相)进行混合，同样存在专利公开号为CN 101250380A中的问题。另外，在配
方中采用的触变剂，零磁场粘度较大，而且长时间抛光使用的粘度稳定性不足。
得到磁流变液，然后添加抛光粉搅拌，配制出磁流变抛光液。这种方式获得磁流变抛光液工
艺复杂，采用球磨方式破坏了羰基铁粉表面形貌和粒径分布，影响配制出磁流变抛光液性
能。而且，采用直接将抛光粉加入到磁流变液中配制出磁流变抛光液，没有考虑到抛光粉与
羰基铁粉的相互作用，配制的磁流变抛光液零磁场粘度较高。另一个专利公开号为CN
101250380A的专利中，同样采用了球磨的方式对磁性颗粒和抛光粉组成的分散相与水基复
配基载液(连续相)进行混合，同样存在专利公开号为CN 101250380A中的问题。另外，在配
方中采用的触变剂，零磁场粘度较大，而且长时间抛光使用的粘度稳定性不足。
发明内容
[0006] 有鉴于此，本发明的目的在于提供一种水基磁流变抛光液及其配制方法，本发明提供的水基磁流变抛光液具有良好的分散稳定性和粘度稳定性，零磁场粘度低，材料去除
效率高。
效率高。
[0007] 本发明提供了一种水基磁流变抛光液，包括：
[0008]
[0010] 所述润湿剂为多元醇；
[0012] 优选的，所述磁性颗粒包括未改性羰基铁粉、磷化羰基铁粉、还原羰基铁粉和包覆羰基铁粉中的一种或多种；
[0013] 所述磁性颗粒的中值粒径D50为1～10μm。
[0015] 所述非磁性抛光粉的中值粒径D50为20nm～3μm。
[0016] 优选的，所述多聚磷酸盐包括三聚磷酸钠、四聚磷酸钠、聚磷酸铵、焦磷酸钠和六偏磷酸钠中的一种或多种；
[0017] 所述柠檬酸盐包括柠檬酸钾、柠檬酸铵和柠檬酸钠中的一种或多种。
[0018] 优选的，所述多元醇包括丙二醇、丙三醇、丁二醇、山梨醇、聚甘油和聚丙二醇中的一种或多种。
[0019] 优选的，所述氨基羧酸类化合物包括乙二胺四乙酸盐和/或氮川三乙酸；
[0020] 所述有机磷酸盐包括氨基三亚甲基膦酸五钠和/或氨基三甲叉膦酸四钠。
[0023] 本发明提供了一种上述技术方案所述水基磁流变抛光液的配制方法，包括以下步骤：
[0024] 将磁性颗粒、非磁性抛光粉、分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂和pH调节剂在水中混合，得到水基磁流变抛光液。
[0025] 优选的，所述混合的过程具体包括：
[0026] a)将分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂、pH调节剂和水混合，得到复合基载液；将磁性颗粒和非磁性抛光粉混合，得到固体分散相；
[0027] b)将所述复合基载液和固体分散相进行滚动搅拌，得到水基磁流变抛光液。
[0028] 与现有技术相比，本发明提供了一种水基磁流变抛光液及其配制方法。本发明提供的水基磁流变抛光液包括：磁性颗粒77～88wt％；非磁性抛光粉0.01wt‰～8wt％；分散
稳定剂0.2～0.5wt％；润湿剂0.5～1wt％；螯合剂0.1～0.4wt％；抗氧化剂0.01～
0.02wt％；pH调节剂0.2～0.5wt％；溶剂为水；所述分散稳定剂为多聚磷酸盐和/或柠檬酸
盐；所述润湿剂为多元醇；所述螯合剂为氨基羧酸类化合物和/或有机磷酸盐。本发明通过
对水基磁流变抛光液的成分配方进行优化设计，特别是不添加高分子的增稠剂或是触变
剂，使水基磁流变抛光液的零磁场粘度显著降低，同时粘度稳定性更高，更适用于磁流变抛
光使用和控制；通过考虑的非磁性抛光粉与磁性颗粒的作用，减少了抛光液中非磁性抛光
粉的使用量，提高了非磁性抛光粉的利用效率，使抛光效率明显得到提高；通过添加特定的
分散稳定剂，可以保证磁流变抛光液的分散稳定性及长期有效性；通过添加特定的润湿剂，
可以降低磁流变抛光过程水分的损失，以及促进分散稳定剂在磁性颗粒表面的展开使分散
剂更好的发挥作用；通过添加特定的螯合剂，可连接非磁性抛光粉与磁性颗粒使抛光粉缔
合于磁性颗粒表面，提高抛光粉的利用率，不仅进一步提高的抛光效率，而且还节省了生产
成本。而且，由于本发明提供的磁流变抛光液以水作为基载液，因此其还具有环保、易清洗
的优点。另外，本发明的水基磁流变抛光液还具有极好的普适性，可根据抛光材料和抛光阶
段的不同，对抛光粉的类型和粒径进行调整，从而满足不同的抛光需求。
附图说明
稳定剂0.2～0.5wt％；润湿剂0.5～1wt％；螯合剂0.1～0.4wt％；抗氧化剂0.01～
0.02wt％；pH调节剂0.2～0.5wt％；溶剂为水；所述分散稳定剂为多聚磷酸盐和/或柠檬酸
盐；所述润湿剂为多元醇；所述螯合剂为氨基羧酸类化合物和/或有机磷酸盐。本发明通过
对水基磁流变抛光液的成分配方进行优化设计，特别是不添加高分子的增稠剂或是触变
剂，使水基磁流变抛光液的零磁场粘度显著降低，同时粘度稳定性更高，更适用于磁流变抛
光使用和控制；通过考虑的非磁性抛光粉与磁性颗粒的作用，减少了抛光液中非磁性抛光
粉的使用量，提高了非磁性抛光粉的利用效率，使抛光效率明显得到提高；通过添加特定的
分散稳定剂，可以保证磁流变抛光液的分散稳定性及长期有效性；通过添加特定的润湿剂，
可以降低磁流变抛光过程水分的损失，以及促进分散稳定剂在磁性颗粒表面的展开使分散
剂更好的发挥作用；通过添加特定的螯合剂，可连接非磁性抛光粉与磁性颗粒使抛光粉缔
合于磁性颗粒表面，提高抛光粉的利用率，不仅进一步提高的抛光效率，而且还节省了生产
成本。而且，由于本发明提供的磁流变抛光液以水作为基载液，因此其还具有环保、易清洗
的优点。另外，本发明的水基磁流变抛光液还具有极好的普适性，可根据抛光材料和抛光阶
段的不同，对抛光粉的类型和粒径进行调整，从而满足不同的抛光需求。
附图说明
[0029] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本
发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据
提供的附图获得其他的附图。
发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据
提供的附图获得其他的附图。
[0030] 图1是本发明实施例提供的配制水基磁流变抛光液的工艺流程图；
[0031] 图2是本发明提供的实施例1水基磁流变抛光液对BK7玻璃进行抛光得到的去除函数图；
[0032] 图3是本发明提供的实施例2水基磁流变抛光液对RB-SiC材料抛光得到的去除函数图；
具体实施方式
[0034] 下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技
术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范
围。
术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范
围。
[0035] 本发明提供了一种水基磁流变抛光液，包括：
[0036]
[0037] 所述分散稳定剂为多聚磷酸盐和/或柠檬酸盐；
[0038] 所述润湿剂为多元醇；
[0039] 所述螯合剂为氨基羧酸类化合物和/或有机磷酸盐。
[0040] 本发明提供的水基磁流变抛光液包括磁性颗粒、非磁性抛光粉、分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂、pH调节剂和水。其中，所述磁性颗粒作为磁流变抛光液分散相的主要
成份，优选包括未改性羰基铁粉(即普通羰基铁粉)、磷化羰基铁粉、还原羰基铁粉和包覆羰
基铁粉中的一种或多种；所述磁性颗粒的中值粒径D50优选为1～10μm，具体可为1μm、1.5μm、
2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、5μm、5.5μm、6μm、6.5μm、7μm、7.5μm、8μm、8.5μm、9μm、9.5μm或10μm。在本发明中，所述磁性颗粒在水基磁流变抛光液中的含量为77～88wt％，具体可
为77wt％、77.5wt％、78wt％、78.5wt％、79wt％、79.5wt％、80wt％、80.5wt％、81wt％、
81.5wt％、82wt％、82.5wt％、83wt％、83.5wt％、84wt％、84.5wt％、85wt％、85.5wt％、
86wt％、86.5wt％、87wt％、87.5wt％或88wt％。
成份，优选包括未改性羰基铁粉(即普通羰基铁粉)、磷化羰基铁粉、还原羰基铁粉和包覆羰
基铁粉中的一种或多种；所述磁性颗粒的中值粒径D50优选为1～10μm，具体可为1μm、1.5μm、
2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、5μm、5.5μm、6μm、6.5μm、7μm、7.5μm、8μm、8.5μm、9μm、9.5μm或10μm。在本发明中，所述磁性颗粒在水基磁流变抛光液中的含量为77～88wt％，具体可
为77wt％、77.5wt％、78wt％、78.5wt％、79wt％、79.5wt％、80wt％、80.5wt％、81wt％、
81.5wt％、82wt％、82.5wt％、83wt％、83.5wt％、84wt％、84.5wt％、85wt％、85.5wt％、
86wt％、86.5wt％、87wt％、87.5wt％或88wt％。
[0041] 在本发明中，所述非磁性抛光粉是磁流变抛光液能够满足抛光条件，实现材料去除的关键成份，优选包括金刚石粉、氧化铝粉和氧化铈粉中的一种或多种；所述非磁性抛光
粉的中值粒径D50优选为20nm～3μm，具体可为20nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、
500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm、1.2μm、1.5μm、1.7μm、2μm、2.3μm、2.5μm、2.7μm或3μm。在本发明中，所述非磁性抛光粉在水基磁流变抛光液中的含量为0.01wt‰～8wt％，具体
可为0.01wt‰、0.05wt‰、0.1wt‰、1wt‰、5wt‰、1wt％、1.5wt％、2wt％、2.5wt％、3wt％、
3.5wt％、4wt％、4.5wt％、5wt％、5.5wt％、6wt％、6.5wt％、7wt％、7.5wt％或8wt％。
粉的中值粒径D50优选为20nm～3μm，具体可为20nm、50nm、100nm、200nm、300nm、400nm、
500nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1μm、1.2μm、1.5μm、1.7μm、2μm、2.3μm、2.5μm、2.7μm或3μm。在本发明中，所述非磁性抛光粉在水基磁流变抛光液中的含量为0.01wt‰～8wt％，具体
可为0.01wt‰、0.05wt‰、0.1wt‰、1wt‰、5wt‰、1wt％、1.5wt％、2wt％、2.5wt％、3wt％、
3.5wt％、4wt％、4.5wt％、5wt％、5.5wt％、6wt％、6.5wt％、7wt％、7.5wt％或8wt％。
[0042] 在本发明中，所述分散稳定剂为多聚磷酸盐和/或柠檬酸盐。其中，所述多聚磷酸盐优选包括三聚磷酸钠、四聚磷酸钠、聚磷酸铵、焦磷酸钠和六偏磷酸钠中的一种或多种；
所述柠檬酸盐优选包括柠檬酸钾、柠檬酸铵和柠檬酸钠中的一种或多种。在本发明提供的
一个实施例中，所述分散稳定剂包括三聚磷酸钠和六偏磷酸钠，所述三聚磷酸钠和六偏磷
酸钠的质量比优选为(2～3)：10，具体可为2:10、2.1:10、2.2:10、2.3:10、2.4:10、2.5:10、
2.6:10、2.7:10、2.8:10、2.9:10或3:10。在本发明中，上述优选的分散稳定剂对羰基铁粉具
有较好的分散和稳定作用，同时具有一定防锈和抗氧化作用。在本发明中，所述分散稳定剂
在水基磁流变抛光液中的含量为0.2～0.5wt％，具体可为0.2wt％、0.21wt％、0.22wt％、
0.23wt％、0.24wt％、0.25wt％、0.26wt％、0.27wt％、0.28wt％、0.29wt％、0.3wt％、
0.31wt％、0.32wt％、0.33wt％、0.34wt％、0.35wt％、0.36wt％、0.37wt％、0.38wt％、
0.39wt％、0.4wt％、0.41wt％、0.42wt％、0.43wt％、0.44wt％、0.45wt％、0.46wt％、
0.47wt％、0.48wt％、0.49wt％或0.5wt％。
所述柠檬酸盐优选包括柠檬酸钾、柠檬酸铵和柠檬酸钠中的一种或多种。在本发明提供的
一个实施例中，所述分散稳定剂包括三聚磷酸钠和六偏磷酸钠，所述三聚磷酸钠和六偏磷
酸钠的质量比优选为(2～3)：10，具体可为2:10、2.1:10、2.2:10、2.3:10、2.4:10、2.5:10、
2.6:10、2.7:10、2.8:10、2.9:10或3:10。在本发明中，上述优选的分散稳定剂对羰基铁粉具
有较好的分散和稳定作用，同时具有一定防锈和抗氧化作用。在本发明中，所述分散稳定剂
在水基磁流变抛光液中的含量为0.2～0.5wt％，具体可为0.2wt％、0.21wt％、0.22wt％、
0.23wt％、0.24wt％、0.25wt％、0.26wt％、0.27wt％、0.28wt％、0.29wt％、0.3wt％、
0.31wt％、0.32wt％、0.33wt％、0.34wt％、0.35wt％、0.36wt％、0.37wt％、0.38wt％、
0.39wt％、0.4wt％、0.41wt％、0.42wt％、0.43wt％、0.44wt％、0.45wt％、0.46wt％、
0.47wt％、0.48wt％、0.49wt％或0.5wt％。
[0043] 在本发明中，所述润湿剂为多元醇，所述多元醇优选包括丙二醇、丙三醇、丁二醇、山梨醇、聚甘油和聚丙二醇中的一种或多种。在本发明中，上述优选的润湿剂可以降低磁流
变抛光过程水分的损失，以及促进分散稳定剂在磁性颗粒表面的展开，从而使分散稳定剂
更好的发挥作用。在本发明中，在本发明中，所述润湿剂在水基磁流变抛光液中的含量为
0.5～1wt％，具体可为0.5wt％、0.55wt％、0.6wt％、0.65wt％、0.7wt％、0.75wt％、
0.8wt％、0.85wt％、0.9wt％、0.95wt％或1wt％。
变抛光过程水分的损失，以及促进分散稳定剂在磁性颗粒表面的展开，从而使分散稳定剂
更好的发挥作用。在本发明中，在本发明中，所述润湿剂在水基磁流变抛光液中的含量为
0.5～1wt％，具体可为0.5wt％、0.55wt％、0.6wt％、0.65wt％、0.7wt％、0.75wt％、
0.8wt％、0.85wt％、0.9wt％、0.95wt％或1wt％。
[0044] 在本发明中，所述螯合剂为氨基羧酸类化合物和/或有机磷酸盐。其中，所述氨基羧酸类化合物优选包括乙二胺四乙酸盐和/或氮川三乙酸；所述乙二胺四乙酸盐优选为乙
二胺四乙酸钠；所述有机磷酸盐优选包括氨基三亚甲基膦酸五钠和/或氨基三甲叉膦酸四
钠。在本发明中，上述优选的螯合剂可连接非磁性抛光粉与磁性颗粒使抛光粉缔合于磁性
颗粒表面，提高抛光粉的利用率，不仅进一步提高的抛光效率，而且还节省了生产成本。在
本发明中，在本发明中，所述螯合剂在水基磁流变抛光液中的含量为0.1～0.4wt％，具体可
为0.1wt％、0.12wt％、0.15wt％、0.17wt％、0.2wt％、0.23wt％、0.25wt％、0.27wt％、
0.3wt％、0.32wt％、0.35wt％、0.37wt％或0.4wt％。
二胺四乙酸钠；所述有机磷酸盐优选包括氨基三亚甲基膦酸五钠和/或氨基三甲叉膦酸四
钠。在本发明中，上述优选的螯合剂可连接非磁性抛光粉与磁性颗粒使抛光粉缔合于磁性
颗粒表面，提高抛光粉的利用率，不仅进一步提高的抛光效率，而且还节省了生产成本。在
本发明中，在本发明中，所述螯合剂在水基磁流变抛光液中的含量为0.1～0.4wt％，具体可
为0.1wt％、0.12wt％、0.15wt％、0.17wt％、0.2wt％、0.23wt％、0.25wt％、0.27wt％、
0.3wt％、0.32wt％、0.35wt％、0.37wt％或0.4wt％。
[0045] 在本发明中，所述抗氧化剂优选包括亚硝酸钠和/或苯甲酸钠；所述抗氧化剂在水基磁流变抛光液中的含量为0.01～0.02wt％，具体可为0.01wt％、0.011wt％、0.012wt％、
0.013wt％、0.014wt％、0.015wt％、0.016wt％、0.017wt％、0.018wt％、0.019wt％或
0.02wt％。
0.013wt％、0.014wt％、0.015wt％、0.016wt％、0.017wt％、0.018wt％、0.019wt％或
0.02wt％。
[0046] 在本发明中，所述pH调节剂优选包括氢氧化钠、碳酸钠、氢氧化钾、碳酸钾、磷酸和盐酸中的一种或多种；所述pH调节剂在水基磁流变抛光液中的含量为0.2～0.5wt％，具体
可为0.2wt％、0.21wt％、0.22wt％、0.23wt％、0.24wt％、0.25wt％、0.26wt％、0.27wt％、
0.28wt％、0.29wt％、0.3wt％、0.31wt％、0.32wt％、0.33wt％、0.34wt％、0.35wt％、
0.36wt％、0.37wt％、0.38wt％、0.39wt％、0.4wt％、0.41wt％、0.42wt％、0.43wt％、
0.44wt％、0.45wt％、0.46wt％、0.47wt％、0.48wt％、0.49wt％或0.5wt％。
可为0.2wt％、0.21wt％、0.22wt％、0.23wt％、0.24wt％、0.25wt％、0.26wt％、0.27wt％、
0.28wt％、0.29wt％、0.3wt％、0.31wt％、0.32wt％、0.33wt％、0.34wt％、0.35wt％、
0.36wt％、0.37wt％、0.38wt％、0.39wt％、0.4wt％、0.41wt％、0.42wt％、0.43wt％、
0.44wt％、0.45wt％、0.46wt％、0.47wt％、0.48wt％、0.49wt％或0.5wt％。
[0047] 在本发明中，所述水基磁流变抛光液的溶剂为水，所述水在磁流变抛光液中的含量优选为余量。
[0048] 本发明还提供了一种上述技术方案所述水基磁流变抛光液的配制方法，包括以下步骤：
[0049] 将磁性颗粒、非磁性抛光粉、分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂和pH调节剂在水中混合，得到水基磁流变抛光液。
[0050] 在本发明提供的配制方法中，直接将磁性颗粒、非磁性抛光粉、分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂和pH调节剂在水中混合均匀，即可得到本发明提供的水基磁流变抛光
液。其中，所述混合的具体过程优选包括：
液。其中，所述混合的具体过程优选包括：
[0051] a)将分散稳定剂、润湿剂、螯合剂、抗氧化剂、pH调节剂和水混合，得到复合基载液；将磁性颗粒和非磁性抛光粉混合，得到固体分散相；
[0052] b)将所述复合基载液和固体分散相进行滚动搅拌，得到水基磁流变抛光液。
[0053] 在本发明提供的上述混合过程中，首先分别配制复合基载液和固体分散相。其中，所述复合基载液优选按照以下步骤进行配制：
[0054] a1)将分散稳定剂与水混合，得到第一混合液；
[0055] a2)将所述第一混合液与润湿剂混合，得到第二混合液；
[0056] a3)将所述第二混合液与螯合剂混合，得到第三混合液；
[0057] a4)将所述第三混合液与抗氧化剂混合，得到第四混合液；
[0058] a5)将所述第四混合液与pH调节剂混合，得到复合基载液。
[0059] 在本发明提供的上述复合基载液的制备步骤中，步骤a1)中，所述混合的搅拌速度优选为300～600r/min，具体可为300r/min、350r/min、400r/min、450r/min、500r/min、
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
[0060] 在本发明提供的上述复合基载液的制备步骤中，步骤a2)中，所述混合的搅拌速度优选为300～600r/min，具体可为300r/min、350r/min、400r/min、450r/min、500r/min、
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为0.5～1h，具体可为0.5h、0.6h、0.7h、0.8h、0.9h或1h。
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为0.5～1h，具体可为0.5h、0.6h、0.7h、0.8h、0.9h或1h。
[0061] 在本发明提供的上述复合基载液的制备步骤中，步骤a3)中，所述混合的搅拌速度优选为300～600r/min，具体可为300r/min、350r/min、400r/min、450r/min、500r/min、
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
[0062] 在本发明提供的上述复合基载液的制备步骤中，步骤a4)中，所述混合的搅拌速度优选为300～600r/min，具体可为300r/min、350r/min、400r/min、450r/min、500r/min、
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
[0063] 在本发明提供的上述复合基载液的制备步骤中，步骤a5)中，所述混合的搅拌速度优选为300～600r/min，具体可为300r/min、350r/min、400r/min、450r/min、500r/min、
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
550r/min或600r/min；所述混合的温度优选为22～25℃，具体可为22℃、23℃、24℃或25℃；
所述混合的时间优选为1～2h，具体可为1h、1.1h、1.2h、1.3h、1.4h、1.5h、1.6h、1.7h、1.8h、
1.9h或2h。
[0064] 在本发明提供的上述混合过程中，所述固体分散相由磁性颗粒和非磁性抛光粉混合而成，本发明对所述混合的具体条件没有特别限定，可将两种组分混合均匀即可。
[0065] 在本发明提供的上述混合过程中，获得复合基载液和固体分散相后，将所述复合基载液和固体分散相进行滚动搅拌。其中，所述滚动搅拌的具体操作过程为：将复合基载液
和固体分散相装入容器中，然后对容器密封，之后将密封的容器放入滚动搅拌装置中，最后
启动所述装置进行滚动搅拌。在本发明中，所述容器的容积优选为所述复合基载液和固体
分散混合物体积的2～3倍；所述滚动搅拌的转速优选为100～150转/分，具体可为100转/
分、105转/分、110转/分、115转/分、120转/分、125转/分、130转/分、135转/分、140转/分、
145转/分或150转/分；所述滚动搅拌的时间优选为2～4h，具体可为2h、2.5h、3h、3.5h或4h。
和固体分散相装入容器中，然后对容器密封，之后将密封的容器放入滚动搅拌装置中，最后
启动所述装置进行滚动搅拌。在本发明中，所述容器的容积优选为所述复合基载液和固体
分散混合物体积的2～3倍；所述滚动搅拌的转速优选为100～150转/分，具体可为100转/
分、105转/分、110转/分、115转/分、120转/分、125转/分、130转/分、135转/分、140转/分、
145转/分或150转/分；所述滚动搅拌的时间优选为2～4h，具体可为2h、2.5h、3h、3.5h或4h。
[0066] 在本发明提供的上述混合过程中，滚动搅拌结束后，得到本发明提供的水基磁流变抛光液。
[0067] 本发明通过对水基磁流变抛光液的成分配方进行优化设计，获得了具有良好分散稳定性和粘度稳定性、零磁场粘度低、材料去除效率高的水基磁流变抛光液。更具体来说，
本发明提供的磁流变抛光液及其配制方法至少包括如下优点：
本发明提供的磁流变抛光液及其配制方法至少包括如下优点：
[0068] 1)本发明不添加高分子的增稠剂或是触变剂，使水基磁流变抛光液的零磁场粘度显著降低，同时粘度稳定性更高，更适用于磁流变抛光使用和控制；
[0069] 2)本发明考虑的非磁性抛光粉与磁性颗粒的作用，减少了抛光液中非磁性抛光粉的使用量，提高了非磁性抛光粉的利用效率，使抛光效率明显得到提高；
[0070] 3)添加特定的分散稳定剂，可以保证磁流变抛光液的分散稳定性及长期有效性；通过添加特定的润湿剂，可以降低磁流变抛光过程水分的损失，以及促进分散稳定剂在磁
性颗粒表面的展开使分散剂更好的发挥作用；
性颗粒表面的展开使分散剂更好的发挥作用；
[0071] 4)添加特定的螯合剂，可连接非磁性抛光粉与磁性颗粒使抛光粉缔合于磁性颗粒表面，提高抛光粉的利用率，不仅进一步提高的抛光效率，而且还节省了生产成本；
[0072] 5)具有极好的普适性，可根据抛光材料和抛光阶段的不同，对抛光粉的类型和粒径进行调整，从而满足不同的抛光需求；
[0074] 7)在本发明提供的优选技术方案中，在固体分散相与复合基载液混合过程中采用了滚动搅拌的方式，这种混合方式对磁流变抛光液的添加成分和化学作用不造成影响，且
操作简单、方便。
操作简单、方便。
[0075] 为更清楚起见，下面通过以下实施例进行详细说明。
[0076] 实施例1
[0077] 1)成分设计
[0078] 本实施例提供的水基磁流变抛光液的具体组分及含量如表1所示：
[0079] 表1实施例1磁流变抛光液的成分信息表
[0080]
[0081]
[0082] 2)对照表1的成分信息，按照图1所示的流程配制水基磁流变抛光液，具体步骤如下：
[0083] 步骤1、将分散稳定剂柠檬酸钠加入到250ml去离子水中搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0084] 步骤2、将润湿剂丙二醇加入到步骤1所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌0.5小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0085] 步骤3、将螯合剂乙二胺四乙酸钠加入到步骤2所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1.5小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0086] 步骤4、将抗氧化剂亚硝酸钠加入到步骤3所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0087] 步骤5、将pH调节剂碳酸钠加入到步骤4所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0088] 步骤6、由于搅拌过程中会有水分的损失，补充损失的去离子水成分，再进行搅拌0.5小时，搅拌器的转速设置为500r/min，温度控制在22℃～25℃之间，得到复合基载液。
[0089] 步骤7、将普通羰基铁粉和氧化铈粉混合均匀，得到固体分散相。
[0090] 步骤8、以复合基载液作为连续相，将连续相和固体分散相加入圆形广口瓶中，广口瓶容积为连续相和固体分散相总体积的2倍，并将瓶口密封，放入滚动搅拌装置中，在120
转/分搅拌2.5小时，得到水基磁流变抛光液。
转/分搅拌2.5小时，得到水基磁流变抛光液。
[0091] 实施例2
[0092] 1)成分设计
[0093] 本实施例提供的水基磁流变抛光液的具体组分及含量如表1所示：
[0094] 表2实施例2磁流变抛光液的成分信息表
[0095]
[0096]
[0097] 2)对照表2的成分信息，按照图1所示的流程配制水基磁流变抛光液，具体步骤如下：
[0098] 步骤1、将三聚磷酸钠和六偏磷酸钠混合的分散稳定剂加入到250ml去离子水中搅拌，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0099] 步骤2、将润湿剂山梨醇加入到步骤1所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌0.5小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0100] 步骤3、将螯合剂乙二胺四乙酸钠加入到步骤2所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1.5小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0101] 步骤4、将抗氧化剂亚硝酸钠加入到步骤3所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0102] 步骤5、将pH调节剂碳酸钾加入到步骤4所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0103] 步骤6、由于搅拌过程中会有水分的损失，补充损失的去离子水成分，再进行搅拌0.5小时，搅拌器的转速设置为500r/min，温度控制在22℃～25℃之间，得到复合基载液。
[0104] 步骤7、将普通羰基铁粉和金刚石微粉混合均匀，得到固体分散相。
[0105] 步骤8、以复合基载液作为连续相，将连续相和固体分散相加入圆形广口瓶中，广口瓶容积为连续相和固体分散相总体积的2倍，并将瓶口密封，放入滚动搅拌装置中，在120
转/分搅拌搅拌4小时，得到水基磁流变抛光液。
转/分搅拌搅拌4小时，得到水基磁流变抛光液。
[0106] 实施例3
[0107] 1)成分设计
[0108] 本实施例提供的水基磁流变抛光液的具体组分及含量如表1所示：
[0109] 表3实施例3磁流变抛光液的成分信息表
[0110] 成分名 成分信息 含量(wt％) 备注普通羰基铁粉 D50＝4μm 85 磁性颗粒
金刚石微粉 D50＝0.05μm 0.1 非磁性抛光粉
六偏磷酸钠 分析纯 0.5 分散稳定剂
丙三醇 分析纯 0.9 润湿剂
氨基三亚甲基膦酸五钠 分析纯 0.3 螯合剂
亚硝酸钠 分析纯 0.02 抗氧化剂
碳酸钠 分析纯 0.5 pH调节剂
水 去离子水 余量 溶剂
金刚石微粉 D50＝0.05μm 0.1 非磁性抛光粉
六偏磷酸钠 分析纯 0.5 分散稳定剂
丙三醇 分析纯 0.9 润湿剂
氨基三亚甲基膦酸五钠 分析纯 0.3 螯合剂
亚硝酸钠 分析纯 0.02 抗氧化剂
碳酸钠 分析纯 0.5 pH调节剂
水 去离子水 余量 溶剂
[0111] 2)对照表3的成分信息，按照图1所示的流程配制水基磁流变抛光液，具体步骤如下：
[0112] 步骤1、将分散稳定剂六偏磷酸钠加入到250ml去离子水中搅拌，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0113] 步骤2、将润湿剂丙三醇加入到步骤1所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0114] 步骤3、将螯合剂氨基三亚甲基膦酸五钠加入到步骤2所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1.5小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0115] 步骤4、将抗氧化剂亚硝酸钠加入到步骤3所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0116] 步骤5、将pH调节剂碳酸钠加入到步骤4所得的溶液当中，利用搅拌器搅拌1小时，搅拌器的转速设置为400r/min，温度控制在22℃～25℃之间。
[0117] 步骤6、由于搅拌过程中会有水分的损失，补充损失的去离子水成分，再进行搅拌0.5小时，搅拌器的转速设置为500r/min，温度控制在22℃～25℃之间，得到水基复配载液。
[0118] 步骤7、将普通羰基铁粉和金刚石微粉混合均匀，得到固体分散相。
[0119] 步骤8、以复合基载液作为连续相，将连续相和固体分散相加入圆形广口瓶中，广口瓶容积为连续相和固体分散相总体积的2倍，并将瓶口密封，放入滚动搅拌装置中，在120
转/分搅拌3小时，得到水基磁流变抛光液。
转/分搅拌3小时，得到水基磁流变抛光液。
[0120] 性能评价
[0121] 1)分别使用实施例1、实施例2、实施例3配制的水基磁流变抛光液对材料进行抛光作业，抛光作业的相关加工参数如表4所示：
[0122] 表4抛光作业加工参数
[0123] 控制参量 抛光轮尺寸 压入深度 抛光轮转速参数 160mm 1mm 120r/min
[0124] 抛光作业得到的去除函数如图2～4所示，图2是本发明提供的实施例1水基磁流变抛光液对BK7玻璃进行抛光得到的去除函数图，图3是本发明提供的实施例2水基磁流变抛
光液对RB-SiC材料抛光得到的去除函数图，图4是本发明提供的实施例3水基磁流变抛光液
对碳化硅基底改性硅表面抛光得到的去除函数图。其中，BK7玻璃是一种标准材料；RB-SiC
材料是指采用反应烧结法(RB)制备的SiC材料；碳化硅基底改性硅表面是指采用物理气相
沉积技术(PVD)在RB-SiC材料表面沉积形成的具有一定厚度(10μm左右)的Si改性层。
光液对RB-SiC材料抛光得到的去除函数图，图4是本发明提供的实施例3水基磁流变抛光液
对碳化硅基底改性硅表面抛光得到的去除函数图。其中，BK7玻璃是一种标准材料；RB-SiC
材料是指采用反应烧结法(RB)制备的SiC材料；碳化硅基底改性硅表面是指采用物理气相
沉积技术(PVD)在RB-SiC材料表面沉积形成的具有一定厚度(10μm左右)的Si改性层。
[0125] 通过图2可以计算得出，去除函数的峰值去除效率可达到4.6μm/min；通过图3可以计算得出去除函数的峰值，去除效率可达1.2μm/min；通过图4可以计算得到去除函数的峰
值去除效率可达到1.5μm/min。
值去除效率可达到1.5μm/min。
[0126] 连续抛光作业6小时后，分别计算上述三种水基磁流变抛光液对相应材料进行抛光作业的去除效率变化率，结果分别为：≤3％(实施例1抛光液)、≤4％(实施例2抛光液)、
≤3％(实施例3抛光液)。
≤3％(实施例3抛光液)。
[0127] 2)分别检测实施例1、实施例2、实施例3配制的水基磁流变抛光液的零磁场粘度，结果分别为：255mPa·S(实施例1抛光液)、260mPa·S(实施例2抛光液)、280mPa·S(实施例
3抛光液)。
3抛光液)。
[0128] 以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应
视为本发明的保护范围。
视为本发明的保护范围。
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