专利汇可以提供一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,按重量份数,包括以下原料制成:聚 氨 酯 丙烯酸 酯10~60份、UV稀释 单体 1~50份、光引发剂0.4~40份、有机 硅 流平剂 0.01~15份、有机硅耐磨剂0.03~15份、底材附着 力 促进剂0.02~6份、 溶剂 0~90份。本发明不但可以消除硬化 薄膜 表面的彩虹纹现象,而且可以使薄膜表面的硬化层达到3~9H,耐磨可以经受0000# 钢 丝 棉 ,采用2kg的压力,来回摩擦50次以上,在抗刮层表面没有划痕。因此该无彩虹纹保护膜的防刮耐磨效果极为优异。,下面是一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法专利的具体信息内容。
1.一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,按重量份数,包括以下原料制成:聚氨酯丙烯酸酯10~60份、UV稀释单体1~50份、光引发剂0.4~40份、有机硅流平剂0.01~15份、有机硅耐磨剂0.03~15份、底材附着力促进剂0.02~6份、溶剂0~
90份。
2.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述保护膜还包括纳米氧化锆、纳米氧化锌、纳米氧化钛或纳米氧化硅中的一种或几种。
3.根据权利要求2所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述纳米氧化锆为0.1~3.5份、纳米氧化锌为0.1~1.5份、纳米氧化钛0.01~2份、纳米氧化硅0.1~3.5份。
4.根据权利要求2所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述纳米氧化硅粒径在30~200纳米之间。
5.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。
6.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述UV稀释单体为ACMO、TMPTA、TPGDA或HDDA中的一种。
7.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述光引发剂为光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂TPO、光引发剂907中的一种或几种。
8.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述有机硅流平剂为
Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378或BZ-624中的一种
或几种。
9.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述有机硅耐磨剂包括:
中的一种或几种。
10.权利要求1-9任一项所述的高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)按照上述质量份数,将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液,分散速度1500~2000转/min,温度控制在45~65℃之间;搅拌12~72小时,使胶液的分散粒径在1um以下,胶液粘度控制在1~50mpa.s之间;
2)在PET薄膜表面预先涂布一层0.1~5μm的胶液得到微结构树脂涂层,再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.1~5μm的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。
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