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一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法

阅读:926发布:2020-07-05

专利汇可以提供一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,按重量份数,包括以下原料制成:聚 氨 酯 丙烯酸 酯10~60份、UV稀释 单体 1~50份、光引发剂0.4~40份、有机 硅 流平剂 0.01~15份、有机硅耐磨剂0.03~15份、底材附着 力 促进剂0.02~6份、 溶剂 0~90份。本发明不但可以消除硬化 薄膜 表面的彩虹纹现象,而且可以使薄膜表面的硬化层达到3~9H,耐磨可以经受0000# 钢 丝 棉 ,采用2kg的压力,来回摩擦50次以上,在抗刮层表面没有划痕。因此该无彩虹纹保护膜的防刮耐磨效果极为优异。,下面是一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法专利的具体信息内容。

1.一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,按重量份数,包括以下原料制成:聚丙烯酸酯10~60份、UV稀释单体1~50份、光引发剂0.4~40份、有机流平剂0.01~15份、有机硅耐磨剂0.03~15份、底材附着促进剂0.02~6份、溶剂0~
90份。
2.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述保护膜还包括纳米化锆、纳米氧化锌、纳米氧化或纳米氧化硅中的一种或几种。
3.根据权利要求2所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述纳米氧化锆为0.1~3.5份、纳米氧化锌为0.1~1.5份、纳米氧化钛0.01~2份、纳米氧化硅0.1~3.5份。
4.根据权利要求2所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述纳米氧化硅粒径在30~200纳米之间。
5.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。
6.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述UV稀释单体为ACMO、TMPTA、TPGDA或HDDA中的一种。
7.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述光引发剂为光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂TPO、光引发剂907中的一种或几种。
8.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述有机硅流平剂为
Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378或BZ-624中的一种
或几种。
9.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,其特征在于,所述有机硅耐磨剂包括:
中的一种或几种。
10.权利要求1-9任一项所述的高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)按照上述质量份数,将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液,分散速度1500~2000转/min,温度控制在45~65℃之间;搅拌12~72小时,使胶液的分散粒径在1um以下,胶液粘度控制在1~50mpa.s之间;
2)在PET薄膜表面预先涂布一层0.1~5μm的胶液得到微结构树脂涂层,再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.1~5μm的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。

说明书全文

一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法

技术领域

[0001] 本发明属于保护膜技术领域,具体涉及一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法。

背景技术

[0002] 所谓的“彩虹纹现象”是因为基材在进行硬化处理的时候需要过一次高温,而在高温处理中,基材表面分子结构不均匀产生散射情况。越高强度的硬化处理,彩虹纹越难控制。彩虹纹的存在会影响透光度以及视觉效果。彩虹纹多出现在手机保护膜上,例如是高透、高清的手机保护膜,彩虹纹造成屏幕不美观,而且会影响人地视。优质的保护膜材料在贴膜以后很难用肉眼看出彩虹纹。
[0003] 所以彩虹纹其实是硬化处理的产物,越高强度的硬化处理,就意味着保护膜材料的彩虹纹越厉害,也就是说彩虹纹与硬化处理成正比的。在不影响视觉效果的前提下,达到最佳的硬化处理效果一般只会到3.5H至3.8H之间。超过这个值的,要么是虚报耐磨度、硬度、要么就是彩虹纹突出。

发明内容

[0004] 发明目的:针对现有技术的不足,本发明的第一个目的是提供一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。本发明的第二个目的是提供上述保护膜的制备方法。
[0005] 技术方案:为实现上述目的,本发明通过下述技术方案实现:一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜,按重量份数,包括以下原料制成:聚丙烯酸酯10~60份、UV稀释单体1~50份、光引发剂0.4~40份、有机流平剂0.01~15份、有机硅耐磨剂0.03~15份、底材附着力促进剂0.02~6份、溶剂0~90份。
[0006] 其中,上述保护膜还包括纳米化锆、纳米氧化锌、纳米氧化或纳米氧化硅中的一种或几种。
[0007] 其中,上述纳米氧化锆为0.1~3.5份、纳米氧化锌为0.1~1.5份、纳米氧化钛0.01~2份、纳米氧化硅0.1~3.5份。
[0008] 其中,上述纳米氧化硅粒径在30~200纳米之间。
[0009] 其中,上述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。
[0010] 其中,上述UV稀释单体为ACMO、TMPTA、TPGDA或HDDA中的一种。
[0011] 其中,上述光引发剂为光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂TPO、光引发剂907中的一种或几种。
[0012] 其中,上述有机硅流平剂为Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378 或
BZ-624中的一种或几种。
[0013] 其 中 , 上 述 有 机 硅 耐 磨 剂 包 括 :中的一种或几
种。
[0014] 本发明的底材附着力促进剂为3M出品的非离子含氟表面活性剂FC-430;硅烷偶联剂VAS(乙烯基三乙酰氧基硅烷);Degussa出品的LTH树脂; Bayer出品的含有异氰酸酯基团(NCO)的聚氨酯丙烯酸酯低聚物与含羟基的聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、PP-603等。
[0015] 一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜的制备方法,包括以下步骤:
[0016] 1)按照上述质量份数,将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液,分散速度1500~2000转/min,温度控制在45~65℃之间;搅拌12~72小时,使胶液的分散粒径在1um以下,胶液粘度控制在1~50mpa.s之间;
[0017] 2)在PET薄膜表面预先涂布一层0.1~5μm的胶液得到微结构树脂涂层,再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.1~5μm的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。
[0018] 有益效果:与现有技术相比,本发明的优点如下:本发明不但可以消除硬化薄膜表面的彩虹纹现象,而且可以使薄膜表面的硬化层达到3~9H,耐磨可以经受0000#,采用2kg的压力,来回摩擦50次以上,在抗刮层表面没有划痕。因此该无彩虹纹保护膜的防刮耐磨效果极为优异。

具体实施方式

[0019] 下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本发明,但不以任何方式限制本发明。
[0020] 本发明所采用的在PET薄膜等材料都是市面上购买。
[0021] 实施例1
[0022] 聚氨酯丙烯酸酯10份、UV稀释单体TMPTA1份、纳米氧化锆(折射率2.4)0.1份、纳米氧化锌(折射率2.0)0.1份、纳米氧化钛(折射率2.7)0.01份、光引发剂1840.1份、光引发剂11730.1份、光引发剂TPO0.1份、光引发剂9070.1份、 0.01份、0.03份、FC-4300.02份、溶剂40份。
[0023] 按照上述质量份数,将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液,分散速度1500转/min,温度控制在45℃之间;搅拌12小时,使胶液的分散粒径在1μm以下,胶液粘度控制在1~50mpa.s之间;在PET薄膜表面预先涂布一层0.1μm的胶液得到微结构树脂涂层,再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.1μm的胶液即可得到高硬度、[0024] 超耐磨无彩虹纹的保护膜。
[0025] 实施例2
[0026] 聚氨酯丙烯酸酯60份、UV稀释单体ACMO50份、纳米氧化锆(折射率2.4)3.5份、光引发剂18410份、光引发剂11735份、光引发剂TPO3份、光引发剂9073份、份、 份、 份、 8586N2.5份、 8530、2.5份、底材附着力促进剂PP-6036份、溶剂80。
[0027] 按照上述质量份数,将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液,分散速度2000转/min,温度控制在65℃之间;搅拌72小时,使胶液的分散粒径在1μm以下,胶
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