抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置
阅读：337发布：2020-05-17
专利汇可以提供抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及具有优异的抗反射性和 钢 丝 棉 耐磨性 的抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置，并且因而可以提供包括至少两个或更多个具有不同折射指数的堆叠层的抗反射膜，其中最上层包括： 粘合剂 ，该粘合剂包括通过交联包括光 反应性 含氟化合物A的 聚合物 和包括具有至少一个或多个羟基和两个或更多个光反应性官能团的 单体 B的聚合物而获得的交联产物；分散在粘合剂中的中空 二 氧 化 硅 颗粒；以及光反应性含氟聚合物和具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物，该聚合物分布在最上层表面上。，下面是抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置专利的具体信息内容。
1.一种抗反射膜，包括具有不同折射指数的至少两层，
其中，所述抗反射膜的最上层包括：粘合剂，所述粘合剂包括通过交联包括光反应性含氟化合物A的聚合物和包括具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的单体B的聚合物得到的交联产物；分散在所述粘合剂中的中空二氧化硅颗粒；光反应性含氟聚合物，以及具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物，并且所述具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物与所述光反应性含氟聚合物一起分散在所述最上层的表面上，
所述最上层的折射指数小于约1.310，
所述最上层的表面的光反射率小于约0.20％，
所述最上层的钢丝棉承载能力为约300g/cm2或更高。
2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物是光反应性改性硅酮聚合物。
3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述粘合剂包括聚合物C，所述聚合物C具有以式(1)表示的通过硅氧烷键合的主链b，构成所述通过硅氧烷键合的主链b的单元具有直接连接到硅原子的一个甲氧基和直接连接到所述硅原子的一个甲基，并且所述聚合物C是具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物：
<式1>
(其中n为2至10的整数)。
4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述最上层堆叠在硬涂层上，所述硬涂层的折射指数为约1.500至约1.650。
5.根据权利要求2所述的抗反射膜，其中使用涂层液形成所述最上层，所述涂层液以固体含量计，相比于100质量份的所述涂层液，含有约20质量份至约40质量份的所述光反应性含氟化合物A，约5质量份至约20质量份的具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的所述单体B，约45质量份至约56质量份的所述中空二氧化硅颗粒，约1质量份至约10质量份的所述光反应性含氟聚合物，约1质量份至约3质量份的所述光反应性改性硅酮聚合物，和约1质量份至约5质量份的所述光聚合引发剂。
6.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中所述光反应性含氟聚合物的重均分子量为约
2,000至约10,000且所述光反应性改性硅酮聚合物的重均分子量为约10,000至约50,000。
7.根据权利要求3所述的抗反射膜，其中使用涂层液形成所述最上层，所述涂层液以固体含量计，相比于100质量份的所述涂层液，含有约10质量份至约30质量份的所述光反应性含氟化合物A，约3质量份至约10质量份的具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的所述单体B，约45质量份至约56质量份的所述中空二氧化硅颗粒，约1质量份至约10质量份的所述光反应性含氟聚合物，约5质量份至约15质量份的聚合物C，和约1质量份至约5质量份的所述光聚合引发剂。
8.一种抗反射元件，包括透明基材和形成在所述透明基材上的权利要求1至7任一项所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜包括依次堆叠在所述透明基材上的所述硬涂层和所述最上层。
9.一种偏光板，包括在所述抗反射膜的最上表面上形成的权利要求1至7中任一项所述的抗反射膜。
10.一种包括权利要求9所述的偏光板的显示装置。
抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置
技术领域
[0001] 本发明涉及抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置。
背景技术
[0003] 然而，当光反射率大于1％的典型低反射率膜应用于需要高对比度的产品时，由于反射率的过度增加，该产品的抗反射性可能不足。
[0004] 例如，专利文献1中公开的一种片状低反射率元件，该元件的高钢丝棉承载能力(steel wool load capacity)为500g/cm2，这是钢丝棉耐磨性的一个指数。然而，由于低反射率元件具有大于1％的光反射率，因此低反射率元件存在抗反射性不足的问题。
[0005] 另一方面，与光反射率大于1％的低反射率膜相比，光反射率小于0.3％的低反射率膜具有更差的钢丝棉耐磨性。专利文献2中公开的一种抗反射元件，通过三层具有不同折射率的层压，该元件具有小于0.3％的光反射率。然而，抗反射元件具有200g/cm2的低钢丝棉承载能力。因此，传统的抗反射元件在光反射率和钢丝棉耐磨性之间存在取舍关系，因而在光反射率和钢丝棉耐磨性方面不能同时达到良好的性能。
[0006] <现有文献>
[0007] <专利文献>
[0008] <专利文献1>专利公开号5723625
[0009] <专利文献2>专利公布的公开号2015-227934
发明内容
[0010] 技术问题
[0011] 本发明的目的是提供抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置，该抗反射膜、抗反射元件、偏光板和显示装置具有良好的抗反射性和钢丝棉耐磨性。
[0012] 技术方案
[0013] 本发明的一个方面涉及一种抗反射膜，该抗反射膜包括具有不同折射指数的至少两层，其中该抗反射膜的最上层包括：粘合剂，该粘合剂包括通过交联包含光反应性含氟化合物A的聚合物和包含具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的单体B的聚合物得到的交联产物；分散在该粘合剂中的中空二氧化硅颗粒；光反应性含氟聚合物，以及具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物，并且该具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物与该光反应性含氟聚合物一起分散在最上层的表面上。
[0014] 在一个实施方案中，具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物可以是光反应性改性硅酮聚合物。
[0015] 在一个实施方案中，该粘合剂可以包括聚合物C，该聚合物C具有以式(1)表示的通过硅氧烷键合的主链b，构成该通过硅氧烷键合的主链b的单元可以具有直接连接到硅原子的一个甲氧基和直接连接到该硅原子的一个甲基，并且该聚合物C可以是具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物。
[0016] 式1
[0017]
[0018] (其中n为2至10的整数)
[0019] 在一个实施方案中，该最上层的折射指数可以小于约1.310。
[0020] 在一个实施方案中，该最上层的表面的光反射率可以小于约0.20％。
[0021] 在一个实施方案中，该最上层的钢丝棉承载能力可以是约300g/cm2或更高。
[0022] 在一个实施方案中，该最上层可以堆叠在硬涂层上，且该硬涂层的折射指数可以是约1.500至1.650。
[0023] 本发明的另一个方面涉及一种抗反射元件，其包括透明基材和在透明基材上形成的上述抗反射膜，其中该抗反射膜包括依次堆叠在透明基材上的硬涂层和最上层。
[0024] 本发明的又一个方面涉及一种偏光板，该偏光板包括如上所述的抗反射膜或如上所述在其最上层的抗反射元件。
[0025] 本发明的再一个方面涉及包括如上所述偏光板的显示装置。
[0026] 有益效果
[0028] 图1是根据本发明第一实施方案的抗反射膜的截面图。
[0029] 图2是根据本发明第二实施方案的抗反射膜的截面图。
[0030] 图3是根据本发明第三实施方案的抗反射膜的截面图。
[0031] 图4是根据本发明第四实施方案的抗反射元件的截面图。
[0032] 图5是根据本发明第四实施方案的偏光板的截面图。
[0033] 图6是根据本发明第六实施方案的显示装置的截面图。
[0034] 图7是根据本发明第七实施方案的显示装置的截面图。
具体实施方式
[0035] 在下文中，将参考附图描述本发明的实施方案。
[0036] [实施方案1]
[0037] (抗反射膜)
[0038] 在下文中，将参考附图描述根据第一实施方案的抗反射膜1。图1是根据本发明第一实施方案的抗反射膜的截面图。
[0039] 参考图1，抗反射膜1包括硬涂层(高折射率层)2和低折射率层3，它们具有不同的折射指数并按上述顺序依次堆叠。在抗反射膜1中，低折射率层3作为最上层。
[0040] 作为最上层的低折射率层3含有粘合剂4、中空二氧化硅颗粒5、光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7。
[0041] 中空二氧化硅颗粒5分散在粘合剂4中。光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7分布在低折射率层4的表面(最上表面)3a上。
[0042] 低折射率层3中的粘合剂4包括通过交联包括光反应性含氟化合物A的聚合物和包括单体B的聚合物所获得的交联产物。单体B包括至少一个羟基和至少两个光反应性官能团。
[0043] 光反应性含氟聚合物6具有连接到粘合剂4的近端和延伸到相对于粘合剂4的低折射率层3之外的远端。此外，光反应性改性硅酮聚合物7具有与粘合剂4连接的近端和延伸到相对于粘合剂4的低折射率层3之外的远端。更具体地，光反应性含氟聚合物6分布在低折射率层3的表面3a上，与存在于低折射率层3的表面3a之外的氟原子(F)相似。同样，光反应性改性硅酮聚合物7分布在低折射率层3的表面3a上，与存在于低折射率层3的表面3a之外的硅原子(Si)相似。此外，光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7基本上均匀分布在低折射率层3的表面3a上。通过低折射率层3中的光反应性含氟聚合物6的含量，可以适当调节低折射率层3的表面3a上的光反应性含氟聚合物6的含量。此外，通过低折射率层3中的光反应性改性硅酮聚合物7的含量，可以适当调节低折射率层3的表面3a的表面3a上的光反应性改性硅酮聚合物7的含量。
[0044] 通过以下方法，可以测定光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7在低折射率层3的表面3a上的分布。例如，可以使用俄歇电子能谱(AES)和氩(Ar)离子蚀刻的方法。具体地，使用氩离子蚀刻法将低折射率层3从表面3a蚀刻到硬涂层2(在厚度方向上)。在低折射率层3的蚀刻过程中，通过俄歇电子能谱分析低折射率层3中氟和硅原子在其厚度方向上的分布。作为该分析的结果，如果分布满足以下条件，则确定光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7分布在低折射率层3的表面3a上。分析结果表明，低折射率层3的表面3a附近分布有较多的氟和硅原子，而到硬涂层2上分布有较少氟和硅原子。
[0045] 低折射率层3可以具有小于约1.310，更优选为约1.300或更低的折射指数。当低折射率层3的折射指数小于约1.310时，抗反射膜1具有足够的抗反射性以应用于需要高对比度的显示装置。
[0046] 可以通过以下方法测量低折射率层3的折射指数。
[0047] 1)将黑色油墨沉积在基材(抗反射元件，包括其上形成的抗反射膜1)的后表面(其上未形成抗反射膜1的表面)上，以去除从抗反射元件的后表面反射的光。或者，通过透明粘合剂等，黑色元件可以结合到抗反射元件的后表面。
[0049] 3)例如，市售分光光度计可以是CM-2600d或CM-3600A(Konica Minolta公司)。利用该分光光度计，可以得到D光源下2度入射时的镜面反射率Y值(SCI)和漫反射率Y值(SCE)，将Y＝SCI-SCE所需的值定义为光反射率的值。
[0051] 低折射率层3的表面3a可具有小于约0.20％，优选约0.19％或更低，更优选约0.17％或更低的光反射率。光反射率是指在XYZ比色法中，与制品颜色亮度(Y)相对应的反射率。此外，低折射率层3的表面3a的光反射率是抗反射膜1的表面1a的光反射率。当低折射率层3的光反射率小于0.20％时，抗反射膜1具有足够的抗反射率以应用于需要高对比度的显示装置。
[0052] 可以通过以下方法测量低折射率层3的表面3a的光反射率。
[0053] 1)将黑色油墨沉积在基材(抗反射元件，包括其上形成的抗反射膜1)的后表面(其上未形成抗反射膜1的表面)上，以去除从抗反射元件的后表面反射的光。或者，通过透明粘合剂等，黑色元件可以结合到抗反射元件的后表面。
[0054] 2)用市售分光光度计，8度入射的漫射光聚焦在抗反射元件表面，测量8度接收光束，获得380nm至740nm波长处的镜面反射率和漫反射率。
[0055] 3)例如，市售分光光度计可以是CM-2600d或CM-3600A(Konica Minolta公司)。利用该分光光度计，可以得到D光源下2度入射时的镜面反射率Y值(SCI)和漫反射率Y值(SCE)，将Y＝SCI-SCE所需的值定义为光反射率的值。
[0056] 优选地，低折射率层3的钢丝棉承载能力可以是约300g/cm2或更高。由于低折射率2
层3的钢丝棉承载能力是约300g/cm 或更高，因此，应用于显示装置的抗反射膜1可以充分保护显示装置的显示表面。具体地，低折射率层3的钢丝棉承载能力可以是约300g/cm2至约
400g/cm2，或约350g/cm2至约400g/cm2。
层3的钢丝棉承载能力是约300g/cm 或更高，因此，应用于显示装置的抗反射膜1可以充分保护显示装置的显示表面。具体地，低折射率层3的钢丝棉承载能力可以是约300g/cm2至约
400g/cm2，或约350g/cm2至约400g/cm2。
[0057] 可以通过以下方法测量低折射率层3的钢丝棉承载能力。#0000：在低折射率层3上1cm2接触面积和100mm滑动距离内，钢丝棉以100mm/s的滑动速度往复运动10次。将钢丝棉在低折射率层3上往复运动后，用肉眼观察低折射率层3的表面。这里，导致在低折射率层表面产生少于10个划痕的最大载荷被定义为钢丝棉承载能力。
[0059] 中空二氧化硅颗粒5的平均初级颗粒直径是约50nm至约100nm，优选约60nm至约90nm。当中空二氧化硅颗粒5的平均初级颗粒直径为50nm或以上时，低折射率层3可以形成具有小于约1.310的折射指数而中空二氧化硅颗粒5的折射指数不会过度增加。另一方面，平均初级颗粒直径为约100nm或更小，中空二氧化硅颗粒5可防止强度的过度下降。因此，低折射率层3不会遭受钢丝棉耐磨性或铅笔硬度的恶化。因此，低折射率层3可以形成约100nm的厚度。
[0060] 根据中空二氧化硅颗粒5的扫描电子显微镜(SEM)，可以获得其平均初级颗粒直径。
[0061] 在低折射率层3中，中空二氧化硅颗粒5的量优选为约45质量份至约56质量份。当中空二氧化硅颗粒5的量为约45质量份或更多时，低折射率层3的折射指数可以小于约1.310，并且光反射率小于约0.20％。另一方面，当中空二氧化硅颗粒5的含量小于或等于约
56质量份时，没有在低折射率层3中粘合剂4含量过度降低的问题。因此，在保证足够的低折射率层3的强度同时保证足够的钢丝棉耐磨性。
56质量份时，没有在低折射率层3中粘合剂4含量过度降低的问题。因此，在保证足够的低折射率层3的强度同时保证足够的钢丝棉耐磨性。
[0064] 随着硬涂层2的折射指数增加，低折射率层3的表面3a的光反射率降低。然而，硬涂层2折射指数的增加可以导致硬涂层2强度的降低。硬涂层2中高折射率材料含量的增加可导致制造成本的增加。因此，根据这些因素调节硬涂层2的折射指数。
[0065] 根据这一实施方案的抗反射膜1，在其中低折射率层3堆叠在硬涂层2上的双层结构中，硬涂层2的折射指数优选为约1.500至约1.650。更优选地，硬涂层2的折射指数为约1.550至约1.650。当硬涂层2的折射指数约为1.500或更高时，低折射率层3的折射指数可以
2
小于约1.310。另外，低折射率层3的钢丝棉承载能力可以为约300g/cm 或更多。另一方面，当硬涂层2的折射指数为约1.650或更低，可以防止低折射率层3的表面3a在低波长和高波长处遭受反射率的增加。因此，可以防止低折射率层3的表面3a反射的光呈现颜色。
2
小于约1.310。另外，低折射率层3的钢丝棉承载能力可以为约300g/cm 或更多。另一方面，当硬涂层2的折射指数为约1.650或更低，可以防止低折射率层3的表面3a在低波长和高波长处遭受反射率的增加。因此，可以防止低折射率层3的表面3a反射的光呈现颜色。
[0066] 优选地，硬涂层2的厚度为约1μm至约10μm，但并不限于此。
[0067] 根据该实施方案的抗反射膜1由具有不同折射率的硬涂层2和低折射率层3堆叠形成。或者，作为最上层的低折射率层3含有粘合剂4、中空二氧化硅颗粒5、光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7。此外，中空二氧化硅颗粒5分散在粘合剂4中。而且，光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7分布在低折射率层3的表面(最上表面)3a上。因此，低折射率层3的表面3a是可滑动的，从而使抗反射膜在钢丝棉耐磨性和抗反射率方面具有良好的性能。
[0068] (制造抗反射膜的方法)
[0069] 接下来，将描述根据第一实施方案制造抗反射膜1的方法。
[0070] 根据第一实施方案制造抗反射膜1的方法至少包括工艺A、工艺B、工艺C和工艺D。
[0071] 工艺A是制备用于形成低折射率层3的涂层溶液的工艺。
[0072] 工艺B是使用工艺a中制备的涂层溶液形成作为低折射率层3前体的涂层的工艺。
[0073] 工艺C是干燥工艺B中形成的涂层的工艺。
[0074] 工艺D包括在工艺C中干燥的涂层中包含的光反应性含氟化合物A和单体B的聚合工艺。此外，工艺D包括交联包括光反应性含氟化合物A的聚合物和包括单体B的聚合物的工艺。
[0075] 在工艺A中，通过均匀搅拌和混合预定内容物(混合比)中涂层液的成分，制备涂层液。
[0076] 涂层液含有光反应性含氟化合物A、单体B、中空二氧化硅颗粒5、光反应性含氟聚合物、光反应性改性硅酮聚合物、溶剂和光聚合引发剂。
[0077] 光反应性含氟化合物A可以是含氟单体、含氟低聚物或含氟聚合物，其含有30质量％至60质量％的氟和光反应性基团。在此范围内，可制备合适混合比的光反应性含氟化合物A的涂层液。光反应性含氟化合物A分布在整个最上层，即整个低折射率层。
[0078] 光反应性含氟化合物A的量可以是相对于以固体含量计的100质量份的涂层液约20质量份至约40质量份，具体约25质量份至约35质量份。当光反应性含氟化合物A的量是约
20质量份或更多时，可形成低折射率层3，其折射指数小于约1.310。结果，低折射率层3可以具有小于约0.20％的光反射率。另一方面，在光反应性含氟化合物A的量为约40质量份或更少下，可防止低折射率层3由于氟成分过度增加而导致表面硬度恶化。结果，低折射率层不会遭受钢丝棉耐磨性或铅笔硬度的恶化。此外，不存在与其他形成低折射率层3的成分相容性恶化的问题。
20质量份或更多时，可形成低折射率层3，其折射指数小于约1.310。结果，低折射率层3可以具有小于约0.20％的光反射率。另一方面，在光反应性含氟化合物A的量为约40质量份或更少下，可防止低折射率层3由于氟成分过度增加而导致表面硬度恶化。结果，低折射率层不会遭受钢丝棉耐磨性或铅笔硬度的恶化。此外，不存在与其他形成低折射率层3的成分相容性恶化的问题。
[0079] 光反应性含氟化合物A不同于下文所述的光反应性含氟聚合物。光反应性含氟化合物A可以是单体。
[0080] 具有至少一个羟基和至少两个光反应性官能团的单体B的示例可包括2-羟基-1,3-二甲基丙烯酰氧基丙烷、二季戊四醇六丙烯酸酯、环氧基化二季戊四醇六丙烯酸酯、丙氧基化二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、环氧基化季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧基化季戊四醇三丙烯酸酯、异氰脲基二丙烯酸酯等。具体地，可以使用异氰脲基二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等。
[0081] 单体B的量可以为相对于以固体含量计的100质量份的涂层液约5质量份至约20质量份，具体约5质量份至约15质量份，或约5质量份至约10质量份，或约10质量份至约20质量份。当单体B的量为5质量份或更多时，可以形成具有足够强度的低折射率层3。此外，光反应性含氟聚合物6和光反应性改性硅酮聚合物7可以充分分布在低折射率层3的表面3a上。结果，低折射率层3的表面3a可以具有足够的平滑度。另一方面，当单体B的量是约20质量份或更少时，可形成低折射率层3，其折射指数小于约1.310。结果，低折射率层3的光反射率可以小于约0.20％。
[0082] 中空二氧化硅颗粒5的量可以为相对于以固体含量计的100质量份的涂层液约45质量份至约56质量份，具体约45质量份至约55质量份，约45质量份至约50质量份，或约50质量份至约55质量份。当中空二氧化硅颗粒5的量为约45质量份或更多时，低折射率层3的折射指数可以小于约1.310。结果，低折射率层3的光反射率可以小于约0.20％。另一方面，中空二氧化硅颗粒5的量为约56质量份或更少时，可防止低折射率层3遭受粘合剂4的含量过度降低同时保证其具有足够的强度。此外，可以保证足够的钢丝棉耐磨性。
[0083] 光反应性含氟聚合物可以是包括重均分子量约为2,000至约10,000且作为主链的全氟聚醚的聚合物。包括作为主链的全氟聚醚的聚合物在其一端或两端具有末端官能团。光反应性含氟聚合物的官能团为光反应性基团。该光反应性含氟聚合物仅分布在作为最上层的低折射率层的表面上。
[0084] 光反应性含氟聚合物的量可以是相对于以固体含量计的100质量份的涂层液约1质量份至约10质量份，具体约1质量份至约5质量份，或约5质量份至约10质量份。当光反应性含氟聚合物的量为约1质量份或更多时，低折射率层3的表面3a可以具有足够的平滑度并改进钢丝棉耐磨性。另一方面，在光反应性含氟聚合物的量为约10质量份或更少下，可防止低折射率层3由于氟成分过度增加而导致表面硬度的降低。此外，可以保证足够的钢丝棉耐磨性。
[0085] 光反应性改性硅酮聚合物可以是包括作为主链a的重均分子量约为10,000至约50,000且具有至少一个光反应性官能团的二甲基硅氧烷的聚合物。换句话说，光反应性改性硅酮聚合物是具有通过硅氧烷键合的主链a的聚合物。优选地，光反应性改性硅酮聚合物的官能团不仅提供给末端(边)而且提供了主链a的侧链。光反应性改性硅酮聚合物的官能团为光反应性基团。
[0086] 以固体含量计，相对于100质量份的涂层液，光反应性改性硅酮聚合物的量可以为约1质量份至约3质量份。当光反应性改性硅酮聚合物的量为约1质量份或更多时，低折射率层3可以具有足够的钢丝棉耐磨性。另一方面，当光反应性改性硅酮聚合物的量为3质量份或更少时，可防止低折射率层3雾度(haze)的增加。
[0087] 溶剂的示例可以包括甲基异丁基酮(MIBK)、甲基乙基酮(MEK)、异丙醇(IPA)、丙二醇单甲醚(PGME)、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)等。这些溶剂可以单独使用或作为其混合物一起使用。溶剂的选择应考虑其他材料的分散性或与其他材料形成低折射率层3的相容性。
[0088] 在涂层液中，调整溶剂的混合比以达到适合于涂布设备或涂布速率的固体浓度。例如，在狭缝涂布中，根据涂层液的100质量％，可以调节溶剂的混合比至约1质量％至约3质量％。结果，低折射率层3可以形成约100nm的厚度。
[0089] 光聚合引发剂的示例包括2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙炔基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮，2-甲基-1-(4-甲基噻吩基)-2-吗啉丙烷-1-酮，1-羟基-环己基-苯基酮等。
[0090] 优选地，以固体含量计，相对于100质量份的涂层液，光聚合引发剂的量可以为约1质量份至约5质量份。
[0091] 当光聚合引发剂的量为约1质量份或更多时，包括光反应性含氟化合物A的聚合物和包括单体B的聚合物可以充分交联。结果，低折射率层3可以具有足够的钢丝棉耐磨性。另一方面，当光聚合引发剂的量是约5质量份或更少时，可形成低折射率层3，其折射指数小于约1.310。结果，低折射率层3的光反射率可以小于约0.20％。
[0092] 例如，在工艺B中，通过将涂层液涂覆在形成于透明基材上的硬涂层2上形成与低折射率层3的前体相对应的涂层。将涂层液均匀涂覆在硬涂层2上，使硬涂层2上形成的涂层厚度均匀。
[0093] 例如，可以使用微凹版涂布、狭缝涂布、刀涂布或喷涂涂布而不限于雨此对涂层液进行涂布。
[0094] 在工艺C中，干燥涂层以蒸发涂层中的溶剂。根据溶剂种类等适当确定溶剂充分蒸发的干燥温度(加热温度)和干燥时间(加热时间)。例如，干燥温度可设定在约30℃至约150℃的范围内，干燥时间可设定在约20秒至约5min的范围内。可以通过自然干燥或加热干燥对涂层进行干燥。
[0095] 此外，在工艺C的涂层干燥过程中，光反应性含氟聚合物和光反应性改性硅酮聚合物分布在涂层的表面。另一方面，假设光反应性含氟聚合物和光反应性改性硅酮聚合物在涂层表面的分布原因如下。这些聚合物表现出相对的疏水性，并且具有低比重。因此，这些聚合物和粘合剂之间发生相分离，该粘合剂由包括具有亲水性的羟基的光反应性含氟化合物A的聚合物和包括单体B的聚合物构成。结果，这些聚合物很可能浮在粘合剂上。
[0096] 在工艺D中，用光辐照干燥的涂层，以聚合涂层中的光反应性含氟化合物A和单体B。另外，在工艺D中，包括光反应性含氟化合物A的聚合物与包括单体B的聚合物交联以形成低折射率层3。另一方面，光反应性含氟聚合物和光反应性改性硅酮聚合物在干燥后分布在涂层表面。结果，光反应性含氟聚合物和光反应性改性硅酮聚合物分布在低折射率层3的表面3a上。
[0098] 例如，采用如高压汞灯、低压汞灯、碳弧、氙灯、金属卤化物灯等光源，可以使用紫外光辐照涂层。此外，例如，紫外线辐照量是指在波长365nm处的累积照射量，并且可以在约100mJ/cm2到约1,000mJ/cm2的范围内。
[0099] 另外，为了防止氧固化时恶化，涂层的辐照优选在约1,000ppm或更低的氮气环境中进行。
[0100] 通过这些工艺，可以得到根据这一实施方案的抗反射膜1。
[0101] [实施方案2]
[0102] (抗反射膜)
[0103] 接下来，将参考附图描述根据第二实施方案的抗反射膜10。图2是根据本发明第二实施方案的抗反射膜10的截面图。在图2中，与根据图1所示的第一实施方案的抗反射膜1的成分相比，抗反射膜的相同成分用相同的引用数字进行表示并省略对其的重复描述。
[0104] 参考图2，抗反射膜10包括硬涂层2和低折射率层3，它们按上述顺序依次堆叠。在抗反射膜10中，低折射率层3作为最上层。作为最上层的低折射率层3含有粘合剂4、中空二氧化硅颗粒5、光反应性含氟聚合物6。中空二氧化硅颗粒5分散在粘合剂4中。光反应性含氟聚合物6分布在低折射率层3的表面(最上表面)3a上。
[0105] 低折射率层3中的粘合剂4包括与第一实施方案相同的交联产物和具有通过硅氧烷键合的主链b的聚合物C，如式(1)所示。换句话说，粘合剂4由交联产物的混合物组成，该交联产物是通过将包括光反应性含氟化合物A的聚合物与包含单体B的聚合物和聚合物C交联而成。此外，聚合物C与具有光反应性的含氟聚合物6一起构成了低折射率层3的最上层。
[0106] 聚合物C具有通过硅氧烷键键合的式(1)所示的主链b，和直链结构、三维结构或其组合。另一方面，通过硅氧烷键合的式(1)中的主链b是括号中所示的结构。
[0107] 式(1)中，n为2至10，优选3至5的整数。
[0108] 式(1)中，构成主链的单元具有一个直接连接到硅原子的甲氧基和一个直接连接到硅原子的甲基。式(1)中，构成主链的单元为括号中的结构。
[0109] 具体地，聚合物C可能是硅氧烷化合物，其中n代表式(1)括号中结构的聚合度，其范围为3至4、5或9。
[0110] 聚合物C比包括单体B的聚合物具有更低的折射指数。因此，通过在粘合剂4中加入聚合物C以降低粘合剂4中单体B的含量，可以进一步降低低折射率层3的折射指数。
[0111] 聚合物C可以提高钢丝棉耐磨性同时通过降低折射指数降低光反射率。
[0112] 在根据该实施方案的抗反射膜10中，构成低折射率层3的粘合剂4包括与第一实施方案的粘合剂相同的交联产物和聚合物C。此外，聚合物C与具有光反应性含氟聚合物6一起构成了低折射率层3的最上层。因此，尽管低折射率层3的表面3a是可滑动的，可以获得钢丝棉耐磨性和抗反射率方面具有良好的性能的抗反射膜。根据该实施方案的抗反射膜10可以比具有三层结构、无机沉积膜或无机溅射膜的抗反射膜1更容易制造，并且可以以较低的制造成本保证低折射指数。
[0113] (制造抗反射膜的方法)
[0114] 接下来，将描述根据第二实施方案制造抗反射膜10的方法。
[0115] 根据第二实施方案制造抗反射膜10的方法与根据第一实施方案制造抗反射膜1的方法相同，但制备涂层液的工艺A除外。
[0116] 在工艺A中，通过均匀搅拌和混合预定内容物(混合比)中涂层液的成分，制备涂层液。涂层液含有光反应性含氟化合物A、单体B、中空二氧化硅颗粒5、光反应性含氟聚合物、溶剂和光聚合引发剂。
[0117] 根据这一实施方案，涂层液中的光反应性含氟化合物A、单体B和聚合物C的混合比例与根据第一实施例的涂层液的混合比例不同。另一方面，根据本实施方案的涂层液中其他成分的混合比例与根据第一实施方式的涂层液的混合比例相同。
[0118] 光反应性含氟化合物A的量可以是相对于以固体含量计的100质量份的涂层液约10质量份至约30质量份，具体约15质量份至约30质量份，或约20质量份至约30质量份。当光反应性含氟化合物A的量是约10质量份或更多时，可形成低折射率层3，其折射指数小于约
1.310。结果，低折射率层3的光反射率可以小于约0.20％。另一方面，在光反应性含氟化合物A的量为约30质量份或更少下，可防止低折射率层3由于氟成分过度增加而导致表面硬度的恶化。结果，低折射率层不会遭受钢丝棉耐磨性的恶化。另外，不存在与其他形成低折射率层3的成分相容性恶化的问题。
1.310。结果，低折射率层3的光反射率可以小于约0.20％。另一方面，在光反应性含氟化合物A的量为约30质量份或更少下，可防止低折射率层3由于氟成分过度增加而导致表面硬度的恶化。结果，低折射率层不会遭受钢丝棉耐磨性的恶化。另外，不存在与其他形成低折射率层3的成分相容性恶化的问题。
[0119] 单体B的量可以是相对于以固体含量计的100质量份的涂层液约3质量份至10质量份，具体约3质量份至约5质量份。当单体B的量为3质量份或更多时，可以形成具有足够强度的低折射率层3。此外，光反应性含氟聚合物6在低折射率层3的表面3a上充分分布，由此聚合物C可充分暴露于低折射率层3的表面3a。结果，低折射率层3的表面3a可以具有足够的平滑度。另一方面，当单体B的量是约10质量份或更少时，可形成低折射率层3，其折射指数小于约1.310。结果，低折射率层3的光反射率可以小于约0.20％。
[0120] 聚合物C的量可以是相对于以固体含量计的100质量份的涂层液(约5质量份至15质量份，具体约5质量份至约10质量份。当聚合物C的量为5质量份或更多时，可以形成具有足够强度的低折射率层3。此外，光反应性含氟聚合物6在低折射率层3的表面3a上充分分布，同时聚合物C充分暴露于低折射率层3的表面3a。结果，低折射率层3的表面3a可以具有足够的平滑度。另一方面，当聚合物C的量是约15质量份时，可形成低折射率层3，其折射指数小于约1.310。结果，低折射率层3的光反射率可以小于约0.20％。
[0121] 根据上述实施方案通过上述工艺，使用上述涂层液，可以制造抗反射膜10。
[0122] [实施方案3]
[0123] (抗反射膜)
[0124] 接下来，将参考附图描述根据第三实施方案的抗反射膜20。
[0125] 图3是根据本发明第三实施方案的抗反射膜20的截面图。在图3中，与根据图1所示的第一实施方案的抗反射膜1的成分相比，抗反射膜的相同成分用相同的引用数字进行表示并省略对其的重复描述。
[0126] 参考图3，抗反射膜20包括硬涂层2，高折射率层21，和低折射率层3，它们具有不同的折射指数并按上述顺序依次堆叠。
[0127] 在根据这一实施方案的抗反射膜20的三层结构中，高折射率层21的折射指数为约1.650至约1.800，优选约1.700至约1.750。
[0128] 当高折射率层21的折射指数在约1.650至约1.800的范围内时，可能获得最佳条件，其中抗反射膜20基于其三层的厚度或折射率确定的具有最低反射率。另一方面，在此折射指数范围内，很难形成光反射率小于0.2％的抗反射膜20。
[0129] 高折射率层21由具有氟主链或高折射率纳米颗粒(如氧化锆和氧化钛)的有机高折射率材料与丙烯酸树脂的混合物形成。
[0130] 高折射率纳米颗粒的平均初级粒子直径可以为约3nm至30nm。
[0131] 例如，高折射率层21的厚度可以为约130nm至约160nm。当高折射率层21的厚度在约130nm至约160nm的范围内时，抗反射膜可以具有进一步降低的反射率，并且由抗反射膜反射的光基本上无颜色。
[0132] 根据这一实施方案，在具有包括高折射率层21的三层结构的抗反射膜20中，形成高折射率层21，其折射指数高于双层结构的折射指数。因此，可以降低低折射率层3的表面3a的光反射率。
[0133] 另一方面，根据第一实施例的抗反射膜1或根据第二实施例的抗反射膜10，可以实现低折射率层3。
[0134] [实施方案4]
[0135] (抗反射元件)
[0136] 接下来，参考附图描述根据第四实施方案的抗反射元件30。
[0137] 图4是根据本发明第四实施方案的抗反射元件30的截面图。在图4中，与根据图1所示的第一实施方案的抗反射膜1的成分相比，抗反射元件的相同成分用相同的引用数字进行表示并省略对其的重复描述。
[0138] 参考图4，抗反射元件30为片状或板状元件，该抗反射元件包括透明基材31和在透明基材31上形成的抗反射膜1。
[0139] 在抗反射元件30中，硬涂层2和低折射率层3依次按所述顺序堆叠在透明基材31上。
[0140] 透明基材31由如三乙酰纤维素(TAC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、环烯烃聚合物(COP)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)等树脂形成。
[0141] 例如，透明基材31的厚度可以为约20μm至约200μm，但并不限于此。
[0142] 根据这一实施方案，抗反射元件30包括上述抗反射膜1。因此，与抗反射膜1中一样，低折射率层3的表面3a是可滑动的，可以获得钢丝棉耐磨性和抗反射率方面具有良好的性能的抗反射元件。
[0143] 另一方面，根据这一实施方案的抗反射元件30可以使用根据第二实施方案的抗反射膜10而不是抗反射膜1。
[0144] [实施方案5]
[0145] (偏光板)
[0146] 接下来，参考附图描述根据第五实施方案的偏光板40。图5是根据本发明第五实施方案的偏光板40的截面图。在图5中，与根据图1所示的第一实施方案的抗反射膜1的成分相比，偏光板的相同成分用相同数字进行表示并省略对其的重复描述。
[0147] 参考图5，偏光板40包括偏光板体41和在偏光板体41表面形成的抗反射膜1。
[0148] 偏光板体41可以是普通的视角改善的偏光板或圆形偏光板，但并不限于此。
[0149] 此外，根据这一实施方案的偏光板40可以使用根据第二实施方案的抗反射膜10或根据第四实施例的抗反射元件30而不是抗反射膜1。
[0150] 根据上述的抗反射膜1，根据这一实施方案的偏光板40可以具有适用于需要高对比度的显示装置的足够的抗反射率。
[0151] [实施方案6]
[0152] (显示装置：液晶显示器)
[0153] 接下来，参考附图描述根据第六实施方案的显示装置50。图6是根据本发明第六实施方案的显示装置50的截面图。在图6中，与根据图1所示的第一实施方案的抗反射膜1和根据图5所示的第五实施方案的偏光板40的成分相比，显示装置的相同成分用相同的引用数字进行表示并省略对其的重复描述。
[0154] 作为根据这一实施方案的显示装置50，将通过示例方式描述液晶显示器。
[0155] 参考图6，显示装置50包括液晶显示装置51、偏光板(第一偏光板)40和偏光板(第二偏光板)52，它们结合在液晶显示装置51的两侧。偏光板40设置到液晶显示装置51的显示表面51a侧，使得偏光板40的偏光板体41邻接显示表面。
[0156] 液晶显示装置51可以是典型的液晶显示装置，而不限于特定的液晶显示装置。
[0157] 偏光板52可以是典型的圆偏光板，而不限于特定的圆偏光板。
[0158] 根据这一实施方案的显示装置50包括偏光板40，从而得到具有优异的抗反射率的液晶显示器。
[0159] [实施方案7]
[0160] (显示装置：有机EL显示器)
[0161] 接下来，参考附图描述根据第七实施方案的显示装置60。图7是根据本发明第六实施方案的显示装置60的截面图。在图7中，与根据图1所示的第一实施方案的抗反射膜1和根据图5所示的第五实施方案的偏光板40的成分相比，显示装置的相同成分用相同的引用数字进行表示并省略对其的重复描述。
[0162] 作为根据这一实施方案的显示装置60，将通过示例方式描述有机EL显示器。
[0163] 参考图7，显示装置60包括有机EL装置61和设置在有机EL装置61上的偏光板40。偏光板40是具有λ/4延迟的圆偏光板，并提供给有机EL装置61的显示表面61a，使得偏光板体41邻接显示表面。
[0164] 有机EL装置61可以是典型的有机EL装置，但不限于特定的有机EL装置。
[0165] 根据这一实施方案的显示装置60包括偏光板40，从而得到具有优异的抗反射率的有机EL显示器。
[0166] 在下文中，将参考实施例和比较实施例更详细地描述本发明。然后，应该理解本发明并不限于此。
[0167] [实施例1]
[0168] 混合光反应性含氟化合物A、单体B、中空二氧化硅颗粒、光反应性含氟聚合物、光反应性改性硅酮聚合物和光聚合引发剂。按照固体含量比(质量比)混合这些成分，如表1所示。
[0169] 然后向混合物中加入溶剂，与溶剂均匀搅拌和混合，从而制备实施例1的涂层液。
[0170] 根据100质量％涂层液，加入97质量％的溶剂。
[0171] 作为光反应性含氟化合物A(表1中的“氟化合物A”)，使用含50质量％氟的产物(AR-110，DAIKIN)。
[0172] 作为单体B，使用了异氰尿酸二丙烯酸酯。
[0173] 作为中空二氧化硅颗粒，使用了平均初级颗粒直径为75nm的产物(Thrulya 5320，JGC Catalyses and Chemicals公司)。
[0174] 作为光反应性含氟聚合物(表1中的“氟聚合物”)，使用了重均分子量为5,000的产品(KY-1203，Shin-Etsu Chemical公司)。
[0175] 作为光反应性改性硅酮聚合物(表1中的“硅氧烷聚合物”)，使用了重均分子量为30,000的产物(TEGORad2700，EVONIK)。
[0176] 作为光聚合引发剂，使用了2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(产品名称：IRGACURE 127,BASF)。
[0177] 作为溶剂，使用甲基异丁基酮。
[0178] 然后，制备了包括由TAC形成的透明基材和在透明基材上形成的硬涂层在内的硬涂层基材。硬涂层主要由透明的丙烯酸树脂构成，折射指数为1.580，厚度为5μm。硬涂层基材的总透光率为91.9％，雾度为0.30％。
[0179] 将涂层液涂层在硬涂层基材的硬涂层上，形成厚度为3.3μm的涂层。
[0180] 此后，将涂层在80℃烘箱中干燥2min，以蒸发涂层中的溶剂。
[0181] 此后，用紫外光辐照干燥的涂层，使光反应性含氟化合物A和单体B聚合。此外，包括光反应性含氟化合物A的聚合物与包括单体B的聚合物交联以形成低折射率层。结果，获得实施例1的抗反射元件。
[0182] 在约200mJ/cm2的累积辐射，365nm波长处，进行紫外辐射。
[0183] [实施例2]
[0184] 除了使用二季戊四醇六丙烯酸酯作为单体B外，通过与实施例1相同的方法获得实施例2的抗反射元件。
[0185] [实施例3]
[0186] 除了使用季戊四醇三丙烯酸酯作为单体B外，通过与实施例1相同的方法获得实施例3的抗反射元件。
[0187] [比较实施例1]
[0188] 除了使用三羟甲基丙烷丙烯酸酯代替异氰脲基二丙烯酸酯外，采用与实施例1相同的方法获得比较实施例1的抗反射元件。
[0189] [比较实施例2]
[0190] 除光反应性含氟化合物a按35质量份混合、异氰脲基二丙烯酸酯按15质量份混合、中空二氧化硅颗粒按40质量份以固体含量计混合外，通过实施例1相同的方法得到比较实施例2的抗反射元件，如表1所示。
[0191] [比较实施例3]
[0192] 除光反应性含氟化合物a按20质量份混合、异氰脲基二丙烯酸酯按10质量份混合、中空二氧化硅颗粒按60质量份以固体含量计混合外，通过实施例1相同的方法得到比较实施例3的抗反射元件，如表1所示。
[0193] [比较实施例4]
[0194] 除了使用重均分子量为9000的产物(CN990，ARKEMA)作为光反应性改性硅酮聚合物外，通过与实施例1相同的方法获得比较实施例4的抗反射元件。
[0195] [比较实施例5]
[0196] 除了使用重均分子量为800的产物(Solvay,MT70)作为光反应性改性硅酮聚合物外，通过与实施例1相同的方法获得比较实施例5的抗反射元件。
[0197] [评估]
[0198] (1)低折射率层的折射指数
[0199] 测量了实施例1至3和比较实施例1至5的每个抗反射元件的低折射率层的折射指数。可以通过以下方法测量低折射率层的折射指数。
[0200] 1)将黑色油墨沉积在基材(抗反射元件，包括其上形成的抗反射膜)的后表面(其上未形成抗反射膜的表面)上，以去除从抗反射元件的后表面反射的光。
[0201] 2)用市售分光光度计，8度入射的漫射光聚焦在抗反射元件表面，测量8度接收光束，获得380nm至740nm波长处的镜面反射率和漫反射率。
[0202] 3)作为市售分光光度计，使用分光光度计CM-2600d(Konica Minolta)。
[0203] 利用该分光光度计，可以得到D光源下2度入射时的镜面反射率Y值(SCI)和漫反射率Y值(SCE)，将Y＝SCI-SCE所需的值定义为光反射率的值。
[0204] 4)调节薄层的厚度和折射指数，以获得具有相同曲率半径的光反射率光谱和膜光学计算的反射光谱，并定义为低折射率层的折射指数。结果如表2所示。
[0205] (2)低折射率层表面的光反射率
[0206] 测量了实施例1至3和比较实施例1至5的每个抗反射元件的低折射率层表面的光反射率。可以通过以下方法测量低折射率层的光反射率。
[0207] 1)将黑色油墨沉积在基材(抗反射元件，包括其上形成的抗反射膜)的后表面(其上未形成抗反射膜1的表面)上，以去除从抗反射元件的后表面反射的光。
[0208] 2)用市售分光光度计，8度入射的漫射光聚焦在抗反射元件表面，测量8度接收光束，获得380nm至740nm波长处的镜面反射率和漫反射率。
[0209] 3)作为市售分光光度计，使用分光光度计CM-2600d(Konica Minolta)。
[0210] 利用该分光光度计，可以得到D光源下2度入射时的镜面反射率Y值(SCI)和漫反射率Y值(SCE)，将Y＝SCI-SCE所需的值定义为光反射率的值。结果如表2所示。
[0211] (3)低折射率层的钢丝棉承载能力
[0212] 测量了实施例1至3和比较实施例1至5的每个抗反射元件的低折射率层表面的钢丝棉承载能力。可以通过以下方法测量低折射率层的钢丝棉承载能力。#0000：在低折射率层上1cm2接触面积和100mm滑动距离内，钢丝棉以100mm/s的滑动速度往复运动10次。将钢丝棉在低折射率层上往复运动后，用肉眼观察低折射率层的表面。这里，导致在低折射率层表面产生少于10个划痕的最大载荷被定义为钢丝棉承载能力。结果如表2所示。
[0213] [表1]
[0214]
[0215] [表2]
[0216]
[0217] 如表2所示的结果，分析了实施例1至3在钢丝棉耐磨性和抗反射率方面表现出良好性能的抗反射元件。
[0218] 另一方面，分析了三羟甲基丙烷丙烯酸酯代替异氰脲基二丙烯酸酯导致钢丝棉耐磨性恶化的比较实施例1的抗反射元件。
[0219] 以固体含量计使用35质量份的光反应性含氟化合物A、15质量份的二丙烯酸异氰脲酯和40质量份的中空二氧化硅颗粒，获得比较实施例2的抗反射元件。结果，比较实施例2的抗反射元件在低折射率层的折射指数和低折射率层表面的光反射率方面恶化。
[0220] 分析了使用不在本发明范围内的组合物获得并且在钢丝棉耐磨性恶化的比较实施例3的抗反射元件。
[0221] 分析了使用重均分子量为9,000的光反应性改性硅酮聚合物获得并且在钢丝棉耐磨性恶化的比较实施例4的抗反射元件。
[0222] 分析了使用重均分子量800的光反应性含氟聚合物获得并且在钢丝棉耐磨性恶化的比较实施例5的抗反射元件。
[0223] [实施例4]
[0224] 混合了光反应性含氟化合物A、单体B、聚合物C、中空二氧化硅颗粒、光反应性含氟聚合物和光聚合引发剂。按照固体含量比(质量比)混合这些成分，如表3所示。
[0225] 然后向混合物中加入溶剂，与溶剂均匀搅拌和混合，从而制备实施例4的涂层液。
[0226] 根据100质量％涂层液，加入97质量％的溶剂。
[0227] 作为光反应性含氟化合物A(表3中的“氟化合物A”)，使用含50质量％氟的产物(AR-110，DAIKIN)。
[0228] 作为单体B，使用了异氰尿酸二丙烯酸酯。
[0229] 作为聚合物C，使用了硅氧烷化合物(KR-515,Shin-Etsu Chemical公司)，其中n表示为式(1)括号内的结构的聚合度，范围为3至4。
[0230] 作为中空二氧化硅颗粒，使用了平均初级颗粒直径为75nm的产物(Thrulya 5320，JGC Catalyses and Chemicals公司)。
[0231] 作为光反应性含氟聚合物(表3中的“氟聚合物”)，使用了重均分子量为5,000的产物(FS-7024，Fluoro Technology)。
[0232] 作为光聚合引发剂，使用了2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(产品名称：IRGACURE 127,BASF)。
[0233] 作为溶剂，使用甲基异丁基酮。
[0234] 此后，通过与实施例1中相同的方法获得实施例4的抗反射元件。
[0235] [实施例5]
[0236] 作为光反应性含氟聚合物(表3中的“氟聚合物”)，使用了重均分子量为5,000的产物(KY-1203,Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.)。通过与实施例4中相同的方法制备涂层液。
[0237] 然后，制备了包括由TAC形成的透明基材，在透明基材上形成的硬涂层，和在在硬涂层上形成的硬高折射率层的硬涂层基材。
[0238] 硬涂层主要由透明的丙烯酸树脂构成，折射指数为1.580，厚度为5μm。
[0239] 通过交联氧化锆颗粒和丙烯酸树脂粘合剂形成高折射率层，其折射指数为1.73且厚度为150nm。硬涂层基材的总透光率为91.9％，雾度为0.50％。此后，通过与实施例1中相同的方法获得实施例5的抗反射元件。
[0240] [比较实施例6]
[0241] 除了如表3中所列改变抗反射元件的成分之外，通过与实施例4中相同的方法获得抗反射元件。
[0242] [比较实施例7]
[0243] 除了如表3中所列改变抗反射元件的成分之外，通过与实施例4中相同的方法获得抗反射元件。
[0244] [比较实施例8]
[0245] 除了如表3中所列改变抗反射元件的成分之外，通过与实施例4中相同的方法获得抗反射元件。
[0246] [评估]
[0247] (1)低折射率层的折射指数
[0248] 测量了实施例4至5和比较实施例6至8的每个抗反射元件的低折射率层表面的折射指数。
[0249] 通过与实施例1至3和比较例1至5中相同的方法测量低折射率层的折射指数。结果如表4所示。
[0250] (2)低折射率层表面的光反射率
[0251] 测量了实施例4至5和比较实施例6至8的每个抗反射元件的低折射率层表面的光反射率。通过与实施例1至3和比较例1至5中相同的方法测量低折射率层的光反射率。结果如表4所示。
[0252] (3)低折射率层的钢丝棉承载能力
[0253] 测量了实施例4至5和比较实施例6至8的每个抗反射元件的低折射率层表面的钢丝棉承载能力。通过与实施例1至3和比较例1至5中相同的方法测量低折射率层的钢丝棉承载能力。结果如表4所示。
[0254] [表3]
[0255]
[0256] [表4]
[0257]
[0258]
[0259] 从表4的结果可以看出，分析表明实施例4和5的抗反射元件具有比实施例1至3的抗反射元件更好的抗反射性。
[0260] 此外，分析表明实施例5的抗反射元件具有比实施例1至3的抗反射元件更好的抗反射性。
[0261] (附图标记列表)
[0262] 1：抗反射膜，
[0263] 2：硬涂层，
[0264] 3：低折射率层
[0265] 4：粘合剂，
[0266] 5：中空二氧化硅颗粒，
[0267] 6：光反应性含氟聚合物，
[0268] 7：光反应性改性硅酮聚合物，
[0269] 10：抗反射膜，
[0270] 20：抗反射膜，
[0271] 21：高折射率层，
[0272] 30：抗反射元件，
[0273] 31：透明基材，
[0274] 40：偏光板，
[0275] 41：偏光板体，
[0276] 50：显示装置，
[0277] 51：液晶显示装置，
[0278] 52：偏光板，
[0279] 60：显示装置，
[0280] 61：有机EL装置。
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