专利汇可以提供Glass mask for semiconductor integrated circuit专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE: To evade the defect occurrence of an IC pattern due to the fine dust by forming a pattern in a fixed shape on a glass sustrate and then by bonding a transparent film of different-material glass on it.
CONSTITUTION: Between light source 1 such as a mercury lamp and photosensitive resin 4 bonded to IC wafer 5, optical system 2, a mask and optical system 3 are arranged. In this constitution, the mask is composed of glass plate 11, IC pattern 12, and transparent film surface 13 of glass of a different material stacked. Then, a projection type exposure unit is used to expose resin 4, but even if the dusts 6 and 7 stick to the glass mask by static electricity, focal blurring never occurs on resin 4 by adjusting optical systems 2 and 3. Further IC pattern 12 is damaged when those dusts 6 and 7 are removed.
COPYRIGHT: (C)1979,JPO&Japio,下面是Glass mask for semiconductor integrated circuit专利的具体信息内容。
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