技术领域
[0001] 本
发明涉及一种 立体栽培方法，尤其是一种立体种植体的喷雾式立体栽培方法及 实现该方法的系统。
背景技术
[0002] 传统农业是基于太阳光照与
土壤基质而进行的自然生产方式的农业，产品的产量 和产品
质量受到种植面积和自然环境条件的制约，很难满足人们对食品数量和质量的要 求。
[0003]
温室栽培在一定程度上摆脱了环境对农业生产的限制，人们可以在任何时间吃到 各种蔬菜或
水果。温室
无土栽培技术是随着温室生产发展而研究采用的一种最新栽培方 式。无土栽培大体上分为基质栽培和无基质栽培两大类。基质栽培，即作物根系固定在基 质中，植株通过基质吸收
营养液，主要栽培方式有袋培、岩
棉培和营养液膜法。而无基质栽 培一般称为
水培，即根系直接和营养液
接触，水培系统中，比较先进的营养液供给形式为浅 液流供给方式，即
植物的根部位于较浅的以一定速率流动的营养液中。
[0004]
植物工厂是继温室栽培之后发展的一种高度专业化、现代化的设施农业。它与温 室生产不同点在于，完全摆脱大田生产条件下自然条件和
气候的制约，应用近代先进技术 设备，完全由人工控制环境条件，全年均衡供应农产品。目前，高效益的植物工厂在某些发 达国家发展迅速，实现了工厂化生产蔬菜、食用菌和名贵花木等。植物工厂的最主要特点之 一是营养液栽培技术，如日本营养液栽培的方法有许多种，如NFT、湛液培、固体基质培（包 括
岩棉培、砾培、砂培等），其中以岩棉培和NFT为主，而岩棉培更是占到营养液栽培面积的 近50%。典型的营养液栽培装置有以下几种形式：①三水式NFT装置——栽培床用
泡沫制 成，有一定的斜度（1/80-1/100)，底部营养液呈
薄膜状缓缓流动，可以自动供肥，还设有杀 菌装置；②协和式——使用成型
塑料栽培床，分成若干单元，适用于果菜栽培；③M式—— 栽培槽用“U”型泡沫制作的成型产品连接而成，定植板也用泡沫做成，里面铺聚乙烯薄膜， 适于叶菜特别是鸭儿芹栽培；④新和式等量交换装置——其主要特征是栽培槽分成两部 分，相互间进行营养液的等量交换，以补给根系充足的
氧气（②、③、④均属于湛液栽培装 置）；⑤诚和式——这是一种循环式岩棉栽培装置，在栽培槽中央安装
排水管，从下到上依 次铺放粒状岩棉垫、岩棉
块和定型灌水管，采用
滴灌方式，多余的营养液经排水管流回集水 槽供循环使用。植物工厂中多采用移动栽培装置，主要有平面式、立体式和倾斜式三种，通 过合理密植，提高了有效栽培面积。上述栽培方式，植物的根部在大部分时间均位于营养液 中，不能为植物提供更佳的呼吸环境，直接影响了植物新陈代谢的速率。
[0005]
专利号为ZL96105058. 6、授权公告日为2000年4月19日的中国发明专利-植物 的营养液雾化培养反应器，采用了营养液的雾化供给方式，但是该反应器用于培养植物组 织，必须为密闭的玻璃罐体，而且玻璃罐体内需要保证一定的
温度，罐体内从上至下设置有 多层用于放置组织块的不锈
钢网，由于该反应器采用多层状结构，喷出的营养液需要在螺 旋桨的带动下在整个反应器中循环，进而充满整个反应器，使位于不同层上的组织块均可以吸收到营养液。另外，由于该营养液雾化培养反应器为密闭形式，因此，需要在停雾期间 进行通气，不仅结构复杂，成本高，也不适于栽培植物。
[0006] 另外，由于植物工厂系统可以实现自动化种植，不仅节省人
力，也可以缩短植物的 栽培时间，因此，日本、以色列等国家也在不断地发展植物工厂系统，但是目前在发展中的 植物工厂系统对
硬件要求均比较严格，各种配置的结构也相对复杂，如种植体本身，实现成 本比较高，不适于大范围的推广应用。如，日本专利公开了一种超高
密度植物垂直气雾水耕 系统，其国际公开号为W000/44220，国际公开日为2000年8月3日，该系统采用多层种植 架种植蔬菜，这种装置只能种植叶菜类蔬菜，不能种植果菜类植物，因为果菜类蔬菜一般需 要较大的生长空间，特别是如甜瓜、黄瓜等藤蔓类蔬菜；另外，这种装置虽然实现了高密度 种植，能提高产品的产量，但过度密植会产生一系列的问题，比如需要人工光照，对环境的 要求很高，如果在普通大棚的环境下设置该装置，就会有各种病虫害，如果在无菌的环境下 设置，生产成本会大幅度升高。因此，目前的植物工厂系统所种植的蔬菜只适合高端消费人 群，不能使普通的广大消费者也享用由植物工厂系统种植的蔬菜。
发明内容
[0007] 本发明的一个目的是提供一种结构简单、成本低的立体种植体的喷雾式立体栽培 方法，通过该种栽培方法可以得到气生根。
[0008] 本发明所采用的技术方案为：一种立体种植体的喷雾式立体栽培方法，该方法包 括，
[0009] (1)在立体种植体的每个种植孔的附着体上均植入一粒
种子或者一颗种苗，放置 所述立体种植体时使营养液气雾式供给系统的喷头位于立体种植体的内部空间中；
[0010] (2)自动控制所述喷头将经高压处理的营养液或者水以气雾态的形式直接喷射到 所述附着体上，直至种子或者种苗长出的根部穿过所述附着体伸入立体种植体的内部，则 所述喷头将营养液或者水直接喷射至植物的根部，直至植物成熟可以采摘为止。
[0011] 优选地，所述立体种植体的纵向截面为三
角形，在所述立体种植体的位于上部的 种植孔中植入果菜类的种子或者种苗，在位于下部的种植孔中植入叶菜类的种子或者种 苗；当果菜类的种子生根发芽，长出藤之后，将藤挂在设置于所述立体种植体上方的藤架 上。
[0012] 优选地，所述立体种植体的纵向截面为梯形，在所述立体种植体的位于顶部的种 植孔中植入果菜类的种子或者种苗，在位于
侧壁上的种植孔中植入叶菜类的种子或者种 苗；当果菜类的种子生根发芽，长出藤之后，将藤挂在设置于所述立体种植体上方的藤架 上。
[0013] 优选地，所述立体种植体的纵向截面为圆柱形，在所述立体种植体的位于顶部的 种植孔中植入果菜类的种子或者种苗，在位于侧壁上的种植孔中植入叶菜类或者根茎类的 种子或者种苗；当果菜类的种子生根发芽，长出藤之后，将藤挂在设置于所述立体种植体上 方的藤架上。
[0014] 优选地，所述立体种植体由两个平面种植体搭接而成，每个平面种植体上均设置 有所述的种植孔，所述种子或者种苗在搭接立体种植体之前植入每个平面种植体的每个种 植孔的附着体内。[0015] 优选地，所述立体种植体由三个平面种植体搭接而成，每个平面种植体上均设置 有所述的种植孔，所述种子或者种苗在搭接立体种植体之前植入每个平面种植体的每个种 植孔的附着体内。
[0016] 优选地，所述平面种植体通过植物自动
播种方法植入种子，所述植物自动播种方 法包括以下工序，
[0017] (1)上
挡板被自动移送到位，使上挡板上的装有种子的每个凹槽分别与位于其上 方的
吸嘴板上的每个吸嘴组件一一对应；
[0018] (2)自动向下移送吸嘴板，直至所述吸嘴板上的每个吸嘴组件分别进入与各自相 对应的凹槽；
[0019] (3)控制所有吸嘴组件中的每个吸嘴各吸住一粒种子；之后，自动带动所述吸嘴 板向上移动，使所有吸嘴均退出所述上挡板上的凹槽；
[0020] (4)自动移送所述上挡板，使位于上挡板上方的每个吸嘴将与或者与被输送到位 的一块平面种植体上的每个种植孔彼此直通；
[0021] (5)自动向下移送所述吸嘴板，直至所述吸嘴板上的每个吸嘴到达此时已被自动 输送到位的平面种植体的与各自相对应的种植孔处；
[0022] (6)控制每个吸嘴将各自吸住的一粒种子放置在与各自相对应的种植孔的附着体 上。
[0023] 优选地，在附着体上直接植入种子时，当外界温度高于或者等于25°C时，则所述 立体种植体直接放置在栽培区域，通过栽培区域内设置的所述喷头进行营养液或者水的喷 射；当外界温度低于25°C时，则立体种植体先放置在育苗房内1至3天，育苗房的温度在 25°C至30°C之间，通过育苗房内设置的所述喷头进行水的喷射，之后，再放置在练苗区域2 至3天，练苗区域的温度在育苗房的温度与外界温度之间逐天递减，通过练苗区域内设置 的所述喷头对植物的根部进行营养液或者水的喷射；最后将所述立体种植体放置在栽培区 域，通过所述栽培区域内设置的所述喷头进行营养液或者水的喷射，直至植物成熟可以采 摘为止。
[0024] 优选地，所述喷头喷出的营养液预先经2万高斯至4万高斯的强
磁场进行处理，将 以分子团结构存在的营养液切割为以单个分子结构存在的营养液。
[0025] 优选地，经所述喷头喷出的营养液一部分被吸收，另一部分依靠重力形成回流营 养液，所述回流营养液依次经过回流过滤处理和回流杀菌处理后进行循环使用。
[0026] 优选地，所述营养液回流时，在进行回流杀菌的
位置处通过高于其两侧地势的缓 冲壁进行缓冲和沉淀，以降低营养液的流速，并沉淀杂质。
[0027] 优选地，所述喷头喷射营养液或者水时，采用间歇式喷射的方式，每隔5-60分钟 喷射一次，每次喷射不超过30秒钟。
[0028] 本发明的另一个目的是提供一种能够实现上述立体种植体的喷雾式立体栽培方 法的系统。
[0029] 本发明采用的技术方案为：一种立体种植体的喷雾式立体栽培系统，包括营养液 气雾式供给系统和具有内部空间的立体种植体；所述营养液气雾式供给系统包括喷头
支架 和多个喷头，所述喷头的连接管均依附在所述喷头支架上；营养液池，用于存储培养植物的 营养液；高压水
泵，对营养液进行加高压处理；所述立体种植体上设置有彼此间隔设置的种植孔，所述种植孔上设置有供种子附着的附着体。
[0030] 优选地，所述营养液气雾式供给系统还包括磁化装置，设置在营养液池至高压水 泵之间，用于对营养液进行磁化处理，所述磁化装置提供2万高斯至4万高斯的强磁场。
[0031] 优选地，所述营养液气雾式供给系统还包括过滤营养液中杂质的
过滤器，所述过 滤器设置在所述高压水泵的输出端口与喷头之间；回流槽，倾斜地设置在立体种植体的底 面上，待回流的营养液通过所述回流槽依次通过分别对回流营养液进行过滤和杀菌的回流 过滤器和回流杀菌装置流回至所述营养液池。
[0032] 优选地，所述营养液气雾式供给系统还包括缓冲沟槽，其设置在临近所述营养液 池的位置上，并与所述营养液池连通；所述缓冲沟槽的内部设置有减缓回流营养液流速的 缓冲壁；所述回流杀菌装置为紫外线
灯管，所述紫外线灯管安装在所述缓冲沟槽的上部或 者内壁上。
[0033] 优选地，所述立体种植体为圆柱形，其顶部上设置的种植孔作为果菜类种植区，侧 壁上设置的种植孔作为叶菜类或者根茎类种植区。
[0034] 优选地，所述立体种植体的纵向截面为三角形，其上部设置的种植孔作为果菜类 种植区，下部设置的种植孔作为叶菜类种植区。
[0035] 优选地，所述立体种植体的纵向截面为梯形，其顶部上设置的种植孔作为果菜类 种植区，腰部上设置的种植孔作为叶菜类种植区。
[0036] 本发明的有益效果为：营养液液以气雾态的形式提供给植物，更有利于植物进行 吸收，如果使营养液经过磁化处理，将原本以分子团结构存在的营养液切割为单个分子结 构存在的营养液，配合气雾态的供给形式，可以使植物直接吸收，而无需先通过植物本体内 的
微生物进行分解后再进行吸收，一方面可以加快吸收速度，另一方面可以在供给相同营 养液成分的情况下，植物的营养成分也相对较高。在采用立体种植体种植植物的情况下，气 雾态的营养液将弥漫整个立体种植体的内部，而位于立体种植体内部的根部可以直接吸收 营养液内的营养成分，有利于提高植物所含营养成分的含量；另外，植物的根部可以真正地 完全裸露在空气中，利于根部呼吸氧气，可以加快植物的新陈代谢，进而促进植物的生长， 一般在1个月左右，植物即可进行收割。采用本发明所述三角形立体种植体的喷雾式立体 栽培方法，本发明所述的三角形立体种植体的喷雾式立体栽培系统除基本的要求外，无特 殊的硬性要求，如所述立体种植体无需密封，只需不至于使喷出的营养液向外飞溅，浪费营 养液即可，而立体种植体本身的材质也无特殊要求，如可以使用普通的泡沫板、有支架
支撑 的薄膜等，因此，本发明所述的三角形立体种植体的喷雾式立体栽培系统具有结构简单、成 本低的特点，有利于农业工厂化技术的推广，易于使农民转型为蓝领工人；最后，本发明所 述三角形立体种植体的喷雾式立体栽培系统，其立体种植体上的种植孔可以采用合理的密 度，如搭接立体种植体的平面种植体的尺寸为60cmX 180cm,则可以在其上设置6 X 18个矩 阵式种植孔，该密度可以在同一立体种植体上同时种植蔬菜和果菜类，无需增设人工光照 系统，在普通大棚内即可实现植物工厂化种植，并且种植出的瓜果和叶菜类可以维持在较 低的价位，真正做到使普通消费者受益。
附图说明
[0037] 图1为平面种植体的立体结构示意图；[0038] 图2为图1中A-A向的剖视图；
[0039] 图3为纵向截面为三角形的立体种植体的结构示意图；
[0040] 图4为营养液气雾式供给系统的结构示意图；
[0041] 图5为实施植物自动播种方法的自动播种系统的主视图；
[0042] 图6为本发明所述缓冲沟槽的结构示意图；
[0043] 图7为本发明所述上挡板的俯视图；
[0044] 图8为图7中所示上挡板的剖视图；
[0045] 图9为图5所示吸嘴板的仰视图；
[0046] 图10为纵向截面为梯形的立体种植体的结构示意图；
[0047] 图11为圆柱形的立体种植板的结构示意图。
具体实施方式
[0048] 现参照附图，对本发明所述立体种植体的喷雾式立体栽培方法及系统进行具体说 明。
[0049] 一种立体种植体的喷雾式立体栽培方法，该方法包括：
[0050] (1)在立体种植体的每个种植孔的附着体上均植入一粒种子或者一颗种苗，在放 置立体种植体时，使营养液气雾式供给系统的喷头54位于所述立体种植体的内部空间中； 在此处，植物的种子或者种苗直接植入附着体内即可，无需任何附加的工序，也无需在附着 体内加入任何基质，操作非常简单。
[0051] 其中，如图3所示，纵向截面为三角形的立体种植体51-1可以由两个如图1和2 所示的平面种植体511搭接而成，如图10所示，纵向截面为梯形的立体种植体51-2可以由 三个如图1和2所示的平面种植体511搭接而成。平面种植体511上设置有彼此间隔的种 植孔512，如呈规则的矩阵式排列，每排种植孔512的底部外侧固定一条用于附着种子的附 着体513，附着体513的宽度大于或等于种植孔的直径；其中，附着体513可以为较薄的海 绵。采用平面种植体511搭接立体种植体的形式，便于通过植物自动播种方法播种种子。
[0052] 植物自动播种方法包括以下工序，
[0053] ①通过如图5所示的上挡板驱动件30带动上挡板20沿上挡板
导轨70移动到位， 使上挡板20上的装有种子的每个凹槽分别与位于其上方的吸嘴板40上的每个吸嘴组件 一一对应，每个吸嘴组件包括多个吸嘴41 ；
[0054] ②通过吸嘴板驱动件50带动吸嘴板40沿着吸嘴板导轨60向下移动，直至所述吸 嘴板40上的每个吸嘴组件分别进入与各自相对应的凹槽；
[0055] ③通过吸嘴
控制器控制所有吸嘴组件中的每个吸嘴各吸住一粒种子，吸嘴可以是
气动吸嘴；之后，吸嘴板驱动件50带动吸嘴板40向上移动，使所有吸嘴41均退出所述上挡 板上的凹槽；
[0056] ④上挡板驱动件30移送所述上挡板20，使位于上挡板20上方的每个吸嘴41将 与或者与被自动输送装置80输送到位的一块平面种植体511上的每个种植孔512彼此直 通；
[0057] ⑤吸嘴板驱动件50向下移送所述吸嘴板，直至所述吸嘴板40上的每个吸嘴41到 达此时已被自动输送装置80输送到位的平面种植体511的与各自相对应的种植孔512处；9[0058] ⑥吸嘴控制器控制每个吸嘴41将各自吸住的一粒种子放置在与各自相对应的种 植孔512的附着体513上。
[0059] 其中，如图7和8所示，所述上挡板20上可以设置有多个用于放置种子的凹槽21 和直通孔22。其中，凹槽21和直通孔22的设置方式与所述平面种植体200的种植孔202 的设置方式相对应，如种植孔202采用如图5和6所示的规则的矩阵排列方式，则上挡板20 上的凹槽21和直通孔22均纵向、且彼此间隔设置，当然也可以均横向、且彼此间隔设置。
[0060] 如图9所示的吸嘴板40，其上设置有与上挡板20上的每个凹槽21 —一对应的吸 嘴组件42，如上挡板20的凹槽21是纵向设置，则每个吸嘴组件42则包括位于一纵列上的 多个吸嘴41 ；如上挡板20的凹槽21是横向设置，则每个吸嘴组件应当包括位于一横排上 的多个吸嘴41。
[0061] 如果采用如图7和8所示的上挡板20的结构，则在上述步骤④中，上挡板驱动件 30自动移送上挡板20，使所有吸嘴组件42中（一纵列吸嘴41)至少部分吸嘴组件42通过 与各自相对应的直通孔，和与该部分吸嘴组件42相对应的种植孔202直通。如通过控制上 挡板20向左侧移动一个凹槽21宽度的距离，即可使除最右侧一吸嘴组件42外（可以直 接向下移动），其余所以吸嘴组件42均可穿过与各自相对应的直通孔22向下移动；或者所 有的吸嘴组件42均可穿过与各自相对应的直通孔22向下移动；如此，上挡板20采用如图 7和8所示的结构可以极大地减小上挡板需要移动的距离，不仅节约了
能源，也降低了对于 上挡板驱动件30的要求，以及上挡板导轨70的设计长度也可以相应地减小。
[0062] 如图11所示的圆柱形的立体种植体51-3设置种植孔和附着体的形式与平面种植 体511的原理相同，在此不再赘述，其中，侧壁上的每条附着体可以与每圈种植孔相对应， 顶面上的每条附着体可以与一排或者一列种植孔相对应。
[0063] (2)自动控制所述喷头54将经高压处理的营养液或者水以气雾态的形式直接喷 射到所述附着体上，直至种子长出的根部穿过所述附着体伸入立体种植体的内部，则所述 喷头将营养液或者水直接喷射至植物的根部，直至植物成熟可以采摘为止；其中，营养液或 者水可以采用间歇式喷射的方式，每隔5-60分钟喷射一次，每次喷射不超过30秒钟，并可 根据所栽培植物的种类、外部环境、植物根系的发育情况等通过控制系统进行调整。所述喷 头54的喷射
频率及所喷射营养液的浓度均可以按照本领域内技术人员所掌握的情况，根 据种植不同植物的需求进行设定，并在植物的不同生长阶段进行调整，对于所喷射营养液 的浓度，最基本的要求是植物分别处于生长期、成熟期和收割期时，成熟期所使用的营养液 浓度最高，收割期次之，生长期最低。
[0064] 起初，当营养液或者水经过高压水泵3的加高压处理后通
过喷头54以气雾态喷出 时，营养液或者水将渗过附着体滋润种子，当种子发芽向如图3、10和11的立体种植体的内 部长出根部52后，营养液或者水便可以直接喷射至根部52上，为植物提供营养，当植物逐 渐长大，根部52越来越发达后即可将附着体撑破，而使其掉落在地面上，该种营养液供给 方式可以真正得到气生根。将营养液以气雾态喷出，将弥漫于立体种植体51-1的整个内 部空间，即可以弥漫于植物的整个根系空间，让植物即可获取矿质营养，又能从空气中吸收 更多的氧气，所以根系生长特别发达，植株生长速度是水培植株和陆陪植株的生长速度的3 至5倍。如果菜类，通过本发明所述的植物营养液气雾式供给系统可以使其藤在1个月的 时间长出2至3米，根部长出2至3米。[0065] 如果在附着体513上直接植入种子，则当外界温度高于或者等于25°C时，所述立 体种植体直接放置在栽培区域，通过栽培区域内设置的所述喷头54进行营养液或者水的 喷射；当外界温度低于25°C时，则立体种植体先放置在育苗房内1至3天，育苗房的温度需 要保持在25°C至30°C之间，通过育苗房内设置的所述喷头54进行水的喷射，使种子生根发 芽，之后，再放置在练苗区域2至3天，练苗区域的温度在育苗房的温度与外界温度之间逐 天递减，如外界温度为0°C，育苗房的温度为28°C，如果在练苗区域放置3天，则第一天的温 度为21°C，第二天的温度为14°C，第三天的温度为7°C，通过练苗区域内设置的所述喷头对 植物的根部进行营养液或者水的喷射；最后将所述立体种植体放置在栽培区域，通过所述 栽培区域内设置的所述喷头54进行营养液或者水的喷射，直至植物成熟可以采摘为止。
[0066] 另外，在所述立体种植体上可以植入不同植物的种子，如图3所示的纵向截面为 三角形的立体种植体51-1，可在位于其上部的种植孔中植入果菜类的种子或者种苗，在位 于其下部的种植孔中植入叶菜类的种子或者种苗，即立体种植板51-1的上部可以为果菜 类种植区，下部为叶菜类种植区；如图10所示的纵向截面为梯形的立体种植体51-2，可在 位于其顶部的种植孔中植入果菜类的种子或者种苗，在位于其腰部的种植孔中植入叶菜类 的种子或者种苗，即立体种植体51-2的顶部可以为果菜类种植区，腰部可以为叶菜类种植 区；如图11所示的圆柱形立体种植体51-3，可在位于其顶部的种植孔中植入果菜类的种子 或者种苗，在位于其侧壁上的种植孔中植入叶菜类或者根茎类的种子或者种苗，即立体种 植体51-3的顶部可以为果菜类种植区，侧壁可以为叶菜类或者根茎类的种植区；另外，立 体种植体51-3的侧壁也可分上下部分别种植叶菜类植物和根茎类植物。
[0067] 当果菜类中藤类的种子生根发芽，长出藤之后，可将其藤挂在位于所述立体种植 体上方的藤架上，如此，位于下方的叶菜，尤其是根茎类植物，如
马铃薯等，可以依靠藤架遮 阳。通过本发明所述的营养液气雾式供给系统，可以使果菜类的藤在1个月的时间长出2 至3米，根部长出2至3米。
[0068] 所述喷头54喷出的营养液可以预先经2万高斯至4万高斯的强磁场进行处理，可 以将以分子团结构存在的营养液切割为单个分子结构存在的营养液，使营养液可以不经过 植物体内的微生物进行分解而直接被吸收，
加速了植物的生长速度。
[0069] 经所述喷头喷出的营养液一部分被吸收，另一部分依靠重力可以回流营养液，所 述回流营养液依次经过回流过滤处理和回流杀菌处理后可以进行循环使用。
[0070] 一种立体种植体的喷雾式立体栽培系统，包括营养液气雾式供给系统和上述的立 体种植体。
[0071] 所述营养液气雾式供给系统包括如图4所示的营养液池1，用于存储培养植物的 营养液，当然也可以根据需要储存水，其中所述营养液可以为液体的有机
肥料。为了使营养 液可以通过喷头以气雾态的形式喷出，需要通过高压水泵3对从营养液池1的输出管道流 出的营养液进行加高压处理，即高压水泵3的输入端口与营养液池1的输出管道连通，高压 水泵3的输出端口与设置在植物生长区5内的喷头连通，其中对高压水泵3的选择需要使 经过加高压处理的营养液到达喷头时能以气雾态喷出，兼顾成本及效果，高压水泵3的选 择可以使到达喷头出的营养液的压力达到1至5公斤即可，其中，高压水泵3与喷头之间的 输送管路越长，对高压水泵3的要求越高。
[0072] 所述营养液气雾式供给系统包括设置在植物生长区5内的如图3、10和11所示的喷头54，图3中仅示出与一块立体种植体对应的喷头，在植物生长区5内设置有多个共同由 同一套营养液气雾式供给系统进行控制的立体种植体。直接与喷头54连接的连接管55可 以依附在喷头支架53上，所述喷头54可以一部分直接安装在喷头支架53上，也可以根据 需要通过其连接管55的可定型性悬置在空中，通过连接管55可以调整喷头54距离立体种 植体的距离。如图3和10所示的立体种植体51-1和立体种植体51-3，可在将其放置在植 物生长区5的喷头54的外部后，通过塑料布等
覆盖物覆盖在立体种植体51-1和立体种植 板51-2的两个敞开的面上，防止喷头54喷出的营养液向立体种植体外部飞溅，在覆盖过程 中无需要求密闭性，只要不至于浪费营养液即可。另外，可以将多个立体种植体51-1或者 多个立体种植体51-2并排排列，则可以只在位于最外侧的两个立体种植体51-1或者立体 种植体51-2的外侧的面使用覆盖物进行覆盖即可。即使是通过立体种植体51-1进行种植 也可以使种植面积增加3倍以上，有效利用紧张的土地资源。
[0073] 可以在营养液池1至高压水泵3的输出管道上设置磁化装置2，所述磁化装置2可 以包括两块吸合在一起的强磁
铁，提供2万高斯至4万高斯的强磁场，磁化装置2可以将流 经的营养液的分子团结构切割为单个分子结构，以单个分子结构存在的营养液可以被根部 52直接吸收，无需通过自身的微生物进行分解。
[0074] 另外，在所述高压水泵3的输出端口与喷头54之间可以设置用于过滤营养液中杂 质的过滤器4，避免在长期使用过程中，发生堵塞喷头54的现象。
[0075] 由于在立体种植体中喷出的营养液，只有一部分被根部52吸收，另一部分会经由 根部52滴落或者直接落到地面上，为了减少浪费，可以在立体种植体的底面上设置倾斜的 回流槽56，将待回流的营养液通过所述回流槽56依次经过回流过滤器6对其进行过滤，经 过回流杀菌装置7进行杀菌后回流至所述的营养液池1，以待进一步循环使用。其中，所述 回流杀菌装置可以为紫外线灯管，回流过滤器6和回流杀菌装置7优选为设置在临近营养 液池1的位置上。由于通过紫外线灯管对回流营养液进行杀菌需要限定回流营养液的流 速，如果流速过快，则起不到杀菌的效果，为此，可以通过一种简单的方式解决该问题，即在 所述营养液池1旁边设置如图6所示的缓冲沟槽10，缓冲沟槽10的内部设置有缓冲壁14， 缓冲壁14的高度低于缓冲沟槽10的高度，所述缓冲壁14将缓冲沟槽10分成两部分，分别 为缓冲前区101和缓冲后区102，缓冲后区102与所述营养液池1之间设置有连通区15，如 连通孔。回流营养液进入缓冲沟槽10的缓冲前区101后，需要越过缓冲壁14进入缓冲后 区102，进而降低了回流营养液在缓冲沟槽10内的流速。所述回流杀菌装置7，如紫外线灯 管，可以安装在缓冲沟槽10的上部或者内壁上，如设置在缓冲沟槽的位于缓冲前区101的 上部或者内壁上。另外，也可以通过更简单的方式降低回流营养液的流速，即限制缓冲沟槽 与营养液池1之间的连通区15的横截面积等。另外，缓冲沟槽10还具有在经缓冲壁14减 速过程中沉淀杂质的作用。
[0076] 另外，在冬天，外界的温度比较地，在采用有土栽培时，由于土壤具有一定的保温 功能，对植物的根部具有一定的保护作用，但在本发明中，为了实现气生根的生长方式，植 物的根部完全裸露在空气中，为此，可以对营养液进行加温处理，如在营养液池1增加电热 丝，对营养液进行加温处理，使其达到5°C至30°C之间，可以对外界温度的影响进行补偿， 当然也可以通过控制系统调整大棚内的温度进行补偿，还可通过控制系统，根据植物的蒸 腾作用规律调整根部的
含水量和湿度，更有效的促进了作物潜力的生长。12[0077] 上述的本发明的实施方式为非限制性实施方式，凡本领域的技术人员在本发明的 实质内容
基础上进行的修饰和变型，均属于本发明保护的范围内。
