【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なシクロヘキサントリオール誘導体に関する。 さらに詳しくは、各種の１α
−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、殊に２β−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、例えば２
β−ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃などを合成するための重要なＡ−環合成部分(keyA-ring synthons)として有用な１α，２β，３β
−シクロヘキサントリオール誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ビタミンＤ研究の進展に伴い、上記の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を始め、数多くの１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体が医薬品として開発されてきているが、これらの製造だけでなく医薬品として開発する上で必須となる代謝物や分解物あるいは標識化合物を合成するためにはコンバージェントな合成法が有用である。

【０００３】血中持続性の高い骨粗鬆治療薬としてその実用化が期待されている２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃は、従来、ステロイド化合物を出発原料に用い、そのＡ環部分をエポキシ化した後に開環することによって２位にヒドロキシアルコキシ基を導入する方法で合成することが提案されているが［例えばUSPatent No. ４,６６６,６３４（＝
特開昭６１−２６７５４９号公報）参照］、原料の入手が困難であること、最終工程が収率の低い光反応であることなどの欠点がある。

【０００４】また、コンバージェントな１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成法としては、例えば、（Ｓ）
−（＋）−カルボンを原料とする方法［J. Org. Chem.
１９８６，５１，３０９８−３１０８参照］、（Ｒ）−
（−）−カルボンを原料とする方法［J. Org. Chem. １
９８９，５４，３５１５−３５１７参照］、シクロヘキセンジカルボン酸エステルを用いる方法［Tetrahedron
Letters, Vol. ３１，NO.１１，pp１５７７−１５８
０，１９９０参照］などにより１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体のＡ−環構成部分(A-ring synthons)を合成し、ＣＤ環構成部分（ＣＤ−ring synthons）と結合させる方法が報告されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これらの方法は出発原料が高価であること、工業上入手が困難又は使用に制限がある化合物の使用を必要とすること、
重要な中間体までの合成ルートが長く及び／または煩雑であること、等の欠点があり、工業的に実施する上で必ずしも満足できるものではない。

【０００６】しかも、上記文献に記載の方法はいずれも２−位に置換基を有しない１α−ヒドロキシビタミンＤ
誘導体の合成に関するものであり、従来、２β−ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ
₃のように２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成に適用可能なＡ−環構成部分は知られていない。

【０００７】しかして、本発明の目的は、入手容易で安価な原料を出発原料として用い、比較的短工程で製造することができる、１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、
殊に２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成に際してＡ−環構成部分として有用な新規なシクロヘキサントリオール誘導体を提供するにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式

【０００９】

【化２】

【００１０】式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² 、およびＲ ³は同一または相異なり、各々水素原子または水酸基の保護基を表し、
Ｘは酸素原子、＝ＣＨＣＨ ₂ ＯＲ ⁴基、＝ＣＨＣＨＯ基または＝ＣＨＣＯ ₂ Ｒ ⁵基を表し、Ｙは水素原子を表し且つＺは−ＯＲ ⁶基を表すか又はＹとＺは一緒になって単結合を表し；或いはＸとＺは一緒になって＝ＮＯ−基、＝
ＣＨＣＨ（ＯＲ ⁷ ）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ ₂ −基を表し且つＹは水素原子を表し、Ｒ ⁴およびＲ ⁶は水素原子または水酸基の保護基を表し、Ｒ ⁵は低級アルキル基を表し、Ｒ ⁷は水素原子または低級アルキル基を表す、で示されるシクロヘキサントリオール誘導体が提供される。

【００１１】本発明により提供される上記式（Ｉ）のシクロヘキサントリオール誘導体は、血中持続性の高い骨粗鬆治療薬としてその臨床応用が期待されている２β−
ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃の合成中間体(A-ringsynthons)として有用であり、さらにまた、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、二次性副甲状腺機能亢進症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有効とされている１α−
ヒドロキシビタミンＤ ₃ 、１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃ 、１α−ヒドロキシビタミンＤ ₂ 、２４−エピ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₂などの１α−
ヒドロキシビタミンＤ誘導体、および乾癬等の皮膚疾患や骨髄性白血病などの細胞分化機能に異常をきたした疾患の治療に効果が期待されている１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ ₃ 、２２−オキサ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃ 、２２−デヒドロ−２６，２７−シクロ−１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ ₃などの１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成中間体としても極めて有用である。

【００１２】本明細書において、「低級」なる語は、この語が付された基又は化合物の炭素数が６個以下、好ましくは４個以下であることを意味するために用いる。

【００１３】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ ¹ 、Ｒ ² 、Ｒ
³ 、Ｒ ⁴および／またはＲ ⁶によって表されうる水酸基の保護基は、分子の他の部分に実質的に悪影響を及ぼすことなく、例えば加水分解、加水素分解などの保護基離脱手段によって除去しうる任意の保護基であることができ、具体的には例えば次のものが挙げられる。

【００１４】（ｉ） 式Ｒ ^a ＣＯ−で示されるアシル基［ここで、Ｒ ^aは水素原子、Ｃ ₁ 〜Ｃ ₈アルキル基、Ｃ ₁ 〜
Ｃ ₄ハロアルキル基、アリール基を表わす］：例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、カプロイル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル基など； （ii） 式Ｒ ^b ＯＣＯ−で示されるアルコキシカルボニル基［ここで、Ｒ ^bは低級アルキル基、低級アルケニル基、Ｃ ₇ 〜Ｃ ₉アラルキル基、アリール基を表わす］：例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル基など；

₇ 〜Ｃ

₉アラルキル基を表わす］：例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリベンジルシリル基など； 宜低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルキル基を表わし、Ｒ

^g及びＲ

^g ′は各々水素原子または低級アルキル基を表わす］：例えば、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチル、メトキシイソプロピル基など； （ｖ） 式

【００１５】

【化３】

【００１６】で示される２−オキサシクロアルキル基［ここで、ｎは３〜６の整数である］：例えばテトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル基など。 また、Ｒ
¹とＲ ²又はＲ ²とＲ ³は一緒になって式

【００１７】

【化４】

【００１８】で示されるアセタール基［ここで、Ｒ ^h及びＲ ⁱは同一もしくは相異なり、各々水素原子、低級アルキル基、アリール基又はＣ ₇ 〜Ｃ ₁₁アラルキル基を表わす］、例えば、エチリデン、イソプロピリデン、ベンジリデン基などを形成していてもよい。

【００１９】しかして、水酸基の保護基として好適なものは、Ｒ ¹およびＲ ³の場合は、アセチル、ピバロイル、
ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチルまたはテトラヒドロピラニル基であり；Ｒ ²の場合は、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル基であり；Ｒ ⁴の場合は、テトラヒドロピラニル、エトキシエチルまたはメトキシイソプロピル基であり；そしてＲ ⁶の場合は、１−エトキシエチル、テトラヒドロピラニル、メトキシイソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルまたはトリエチルシリル基である。 また、Ｒ ¹
とＲ ²は一緒になってイソプロピリデン基を形成することもできる。

【００２０】より好適な水酸基の保護基としては、Ｒ ¹
の場合は、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基であり；Ｒ ²
の場合は、アセチル又はメトキシカルボニル基であり；
Ｒ ³の場合は、アセチル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル又はｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ ⁴の場合は、
テトラヒドロピラニル基であり、そしてＲ ⁶の場合は、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基である。 また、Ｒ ¹
とＲ ²は一緒になってイソプロピリデン基を形成することもできる。

【００２１】一方、Ｒ ⁵およびＲ ⁷が表しうる低級アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基などを挙げることができ、中でも、メチル、エチル、イソプロピル基が好適である。

【００２２】しかして、前記一般式（Ｉ）で示される化合物の中、好適なものとしては、同式中、Ｒ ¹が水素原子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチルまたはテトラヒドロピラニル基を表わし；Ｒ ²が水素原子、
アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル基を表すか、或いはＲ ¹とＲ ²は一緒になってイソプロピリデン基を表わし；Ｒ ³は水素原子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチルまたはテトラヒドロピラニル基を表わす化合物が挙げられる。 さらに好適な化合物としては、一般式(I)においてＲ ¹が水素原子、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表わし；Ｒ ²が水素原子、アセチル又はメトキシカルボニル基を表わすか、或いはＲ ¹とＲ ²は一緒になってイソプロピリデン基を表わし；Ｒ ³は水素原子、アセチル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を表わす化合物が挙げられる。

【００２３】本発明の化合物は、その置換基の種類に応じて次の３つのグループに大別することができる。

【００２４】グループ１：ＸとＺが一緒になって＝ＮＯ
−基を表わしそしてＹが水素原子である場合の式（Ｉ）
の化合物、すなわち下記式

【００２５】

【化５】

【００２６】で示される化合物； グループ２：ＸとＺが一緒になって＝ＣＨＣＨ（Ｏ
Ｒ ⁷ ）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ ₂ −基を表わし、そしてＹ
が水素原子である場合の式（Ｉ）の化合物、すなわち下記式

【００２７】

【化６】

【００２８】で示される化合物； グループ３：Ｘが酸素原子、＝ＣＨＣＨ ₂ ＯＲ ⁴基、＝Ｃ
ＨＣＨＯ基又は＝ＣＨＣＯ ₂ Ｒ ⁵基を表わし、そしてＹが水素原子を表し且つＺが−ＯＲ ⁶基を表わすか、又はＹ
とＺが一緒になって単結合を表わす場合の式（Ｉ）の化合物、すなわち、下記式

【００２９】

【化７】

【００３０】で示される化合物。

【００３１】下記反応工程Ａにおける式（Ｉ−１）の化合物がグループ１に、式（Ｉ−６）及び（Ｉ−７）の化合物がグループ２に、そして式（Ｉ−２）、（Ｉ−
３）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）、（Ｉ−８）、（Ｉ−
９）及び（Ｉ−１０）の化合物がグループ３に属する。

【００３２】本発明のシクロヘキサントリオール誘導体は、安価なマンニトールを原料にして以下に示す反応工程Ａに従って工業的に実施するのに容易な反応で製造することができる。

【００３３】

【化８】

【００３４】上記各式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² 、Ｒ ³ 、Ｒ ⁴ 、Ｒ ⁵ 、
Ｒ ⁶およびＲ ⁷は前記の意味を有し、Ｒは水酸基の保護基を表し、Ｒ'はアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、オクチル基など）又は置換もしくは未置換のアリール基（例えば、フェニル基、ｐ‐トリル基、ｐ-クロルフェニル基、ナフチル基など）を表わす。

【００３５】上記反応工程Ａに示す各工程の反応について以下さらに詳しく説明する。

【００３６】マンニトール（Ｘ）から常法に従いその３，４，５，６−位の水酸基が保護されたジオール（Ｉ
Ｘ）を合成し、次いで該ジオール（ＩＸ）と該ジオールに対し１〜２０倍モルのジメチルホルムアミドジメチルアセタール、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルなどと酸触媒の存在下または不存在下に室温ないし約２００
℃の温度に加熱することにより環状オルトエステルを得る。 これに必要に応じて１〜１０倍モルの無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を加えて室温ないし約２００℃の温度に加熱することにより、水酸基が保護された５−ヘキセン−１，２，３，
４−テトラオール誘導体（ＶＩＩＩ）を得る。 水酸基が保護された５−ヘキセン−１，２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩＩ）を常法に従い脱保護反応に付し、３，４−位のみが保護された５−ヘキセン−１，
２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）を得る。

【００３７】３，４−位のみが保護された５−ヘキセン−１，２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）は、
ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基の存在下に、１
〜５倍モルのｐ−トルエンスルホニルクロリド、メタンスルホニルクロリドなどのスルホニル化剤と、不活性溶媒の存在下または不存在下に約−３０〜約８０℃の温度で反応させることにより、３、４−位のみが保護された２，３，４−トリヒドロキシ−５−ヘキセン−１−イル モノスルホナート誘導体（ＶＩ）に変換する。

【００３８】モノスルホナート（ＶＩ）は常法に従いエポキシドに変換する。 例えば、該モノトシラートをメタノール、エタノール、テトラヒドロフランなどの不活性溶媒に溶解し、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウムなどの塩基を作用させることにより、３、４−位が保護された１，２−エポキシ−５−ヘキセン−３，４−ジオール誘導体（Ｖ）を得ることができる。 また、１,２−エポキシ−５−ヘキセン−３,４−ジオール誘導体（Ｖ）はＤ−ジギトキソース又は酒石酸を原料とする公知の方法[U. Kuefner et a
l., Liebig′s Ann.Chem., １９８６, １６００−１６
０９など参照］によっても得ることができる。

【００３９】エポキシド（Ｖ）は常法に従いニトリルに変換する。 例えば、該エポキシドをメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなどの不活性溶媒に溶解し、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化マグネシウムなどのシアノ化剤と反応させ、必要に応じて水酸基の保護、脱保護を行うことにより、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテニトリルおよびその水酸基保護体（ＩＶ）を得ることができる。

【００４０】得られるニトリル（ＩＶ）を必要に応じて水酸基を保護した後、常法に従い水素化ジイソプロピルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどで還元し、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナールおよびその水酸基保護体（ＩＩＩ）とする。

【００４１】アルデヒド（ＩＩＩ）を、常法に従い、ヒドロキシルアミンと反応させ、オキシム（ＩＩ）とする。

【００４２】このようにして得られる水酸基が保護された３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナールオキシム（ＩＩ）を塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トルエン、ジオキサンなどの不活性溶媒に溶解し、トリエチルアミン、ピリジンなどの触媒の存在下または不存在下、該オキシムに対し１〜２０倍モルの次亜塩素酸ナトリウム水溶液、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチルなどの酸化剤を約−２０〜約３０℃で反応させることにより、生成したニトリルオキシドが１，３−双極子付加し環化したシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−１）
を得ることができる。

【００４３】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
１）は、メタノール、エタノール、テトラヒドロフランなどの不活性溶媒またはその水との混合溶媒中で、必要に応じてホウ酸、酢酸などの酸の存在下に、ラネーニッケル、パラジウム−炭素、酸化白金などの水素化触媒とともに、水素雰囲気下で加水素分解し、そして必要に応じて水酸基を保護することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−２）を得ることができる。

【００４４】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）は常法に従い脱水することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−３）に導くことができる。

【００４５】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
３）は常法に従い、例えばウィティッヒ・ホーナー反応等によりアルコキシカルボニルメチレン基を導入し、次いで二重結合の立体をトランスからシスへと光増感反応等により異性化することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−４）を得ることができる。

【００４６】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
４）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチルアルミニウムなどで還元することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−５）を得ることができる。

【００４７】さらに、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−４）またはシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ
−５）を水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ビスメトキシエトキシアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムトリイソブチルアルミニウムなどで還元し、必要に応じて水酸基を保護することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−８）を得ることができる。

【００４８】一方、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−２）の側鎖水酸基をホスフィノ酢酸と例えばジシクロヘキシルカルボジイミドなどを縮合剤としてエステル化した後、分子内ウィティッヒ・ホーナー反応を行うことにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）を得ることができる。

【００４９】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチルアルミニウムなどで還元し、必要に応じて低級アルコールを用いてアセタール化することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−７）を得ることができる。

【００５０】シクロヘキサントリオール（Ｉ‐７）はテトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノールなどの水溶性溶媒と水の混合溶媒中、ｐ‐トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸などの存在下、脱水することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐５）とすることができる。

【００５１】さらに、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐６）は、低級アルコール中、水酸化ナトリウム、
水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどの塩基を作用させ、必要に応じエステル化、水酸基の保護、脱保護を行うことにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐９）を得ることができる。

【００５２】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐
９）は、常法に従い脱水することによりシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐４）を得ることができる。 この脱水反応はスルホニル化、ハロゲン化を経由する一般的な方法でも行うことができるが、有機セレン化合物を経由する方法［テトラヘドロン レタース（Ｔetrahedron
Ｌetters）第３１巻第１５７７〜１５８０頁（１９９０
年）参照］により好ましく行うことができる。

【００５３】また、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−９）は、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）にシリル酢酸エステルを反応させ、次いでPeterson
脱離反応に付すことによっても得ることができる。

【００５４】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
９）は、常法に従いエステル部分を水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの錯金属水素化物で還元し、必要に応じて生成物中の水酸基を保護することにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−１０）を得ることができる。

【００５５】このようにして得られるシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ）［前記反応工程Ａにおける式（Ｉ
−１）ないし（Ｉ−１０）の化合物］の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われている単離・精製方法と同様にして行われる。 例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、必要に応じて再結晶、クロマトグラフィなどにより精製し、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ）を得ることができる。

【００５６】かくして得られるシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−８）は、２−位の水酸基をトリエチルアミン、ピリジンなどの存在下、塩化メタンスルホニル、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニルなどでスルホニル化した後、水素化リチウムアルミニウム、水素化トリエチルホウ素リチウムなどで還元することにより、シクロヘキサンジオール誘導体（ＸＩ）にすることができる。 このシクロヘキサンジオール誘導体は１α−ヒドロキシビタミンＤ化合物の製造のためのＡ−
環構成部分として公知のものであり、それ自体既知の方法により［例えば、EG Baggiolini et al., J. Am.
Chem. Soc., １０４ ，２９４５−２９４８（１９８２）
参照］により薬理学的活性をもつ前述した如き各種の１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体に導くことができる。

【００５７】しかも、本発明のシクロヘキサントリオール誘導体は、１,３−位のみならず２−位にも水酸基を有しているので、この２−位の水酸基を利用して２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を製造するためのＡ−環構成部分として有利に利用することができる。 例えば、本発明のシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−８）の２−位の水酸基に３−ヒドロキシプロピル基を導入することにより下記式

【００５８】

【化９】

【００５９】で示される化合物を合成し、次いでこの化合物を必要に応じ水酸基を保護した後、それ自体既知の方法［例えば、EG Baggiolini et at., J. Am. Che
m. Soc., １０４ ，２９４５−２９４８（１９８２）参照］に準拠した方法により１α−ヒドロキシビタミンＤ
₃のＣＤ環部分を結合することによって、前述したように高い血中持続性を有する骨粗鬆治療薬としてその実用化が期待されている下記式

【００６０】

【化１０】

【００６１】で示される２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α,２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃を製造することができる。

【００６２】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例により本発明は何ら制限されるものではない。

【００６３】参考例 １ ［１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセンの合成］３，４：５，６‐Ｏ‐ジイソプロピリデン‐Ｄ‐マンニトール１２８．５ｇにＮ，Ｎ‐
ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２００ｍｌを加え、１００℃に加熱してメタノールを留去した。 １０
０℃で１時間加熱を続け、薄層クロマトグラフィによりほぼ原料が消失していることを確認した後、１７０℃に加熱して過剰量のＮ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを約１時間かけて留去した。 留出物がなくなった後、１５０℃にし、無水酢酸１００ｍｌを少しづつ加え、留出温度約９０℃前後の留出物を留去させた。
得られた反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテルを加え、有機層を食塩水で洗浄した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記の物性を有する１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセンを６０．７ｇ得た（収率５
４％）。

【００６４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ）
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７，１０．２，
１７．２Ｈｚ）、５．１３〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、
４．３７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝０．９，５．７，７．６
Ｈｚ）、３．８〜４．２（ｍ，３Ｈ）、３．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６，７．６Ｈｚ）、１．４１（ｓ，
９Ｈ）、１．３４（ｓ，３Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ２９８４、２９３２、２８８０、１４５５、１３７８、
１２５０、１２１４、１１５４、１１２０、１０６５、
９９３、９２４、８４６、５１２ 旋光度 ［α］ _D ＝４．１８°（ｃ＝２．００，ＣＨＣl ₃ ） 参考例 ２ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセン‐１,２‐ジオールの合成］参考例１により得られた１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン３６．８ｇに氷酢酸３００ｍｌおよび水６
０ｍｌを加え、室温で１４時間撹拌した後、反応液を氷の入った５０％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌに少しずつ加えた。 生成した酢酸ナトリウムの結晶を濾過し、結晶を塩化メチレンで洗浄した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記の物性を有する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセン‐１,２‐ジオールを１３．５ｇ得た（収率４４％）。

【００６５】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ）
δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，９．１，１
５．３Ｈｚ）、５．１７〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．
４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，６．４Ｈｚ）、３．５
〜３．９（ｍ，４Ｈ）、３．０〜３．４（ｂｒｓ，２
Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ３４１４、２９８４、２９３０、２８７８、１７２７、
１６４５、１４５５、１４２８、１４０７、１３７１、
１２５０、１２１４、１１６８、１１２０、１０５５、
９２５、８７４、８１２、７７９、７３４、６６４、６
２１、５１１ 旋光度 ［α］ _D ＝＋４．６６°（ｃ＝１．０７，ＣＨＣl ₃ ） 参考例 ３ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐２‐ヒドロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イル ｐ‐トルエンスルホナートの合成］３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン‐１，２‐ジオール９．７７ｇをピリジン１５５ｍｌ、クロロホルム５２ｍｌと混合し、０℃で塩化ｐ‐トルエンスルホニル１１．３９ｇを４回に分けて少しずつ加えた。 ０℃で６時間撹拌し、氷の入った６Ｎ
の塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。 抽出液を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、下記の物性を有する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐２‐ヒドロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イル） ｐ‐トルエンスルホナートを１７．８８ｇ得た。

【００６６】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ）
δ：７．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、５．８７（ｄｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．４，８．９，１７．３Ｈｚ）、５．１５〜
５．４９（ｍ，２Ｈ）、３．５８〜４．５０（ｍ，５
Ｈ）、２．４５（ｓ，３Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ３５０８、３０８４、３０６４、２９８４、２９３２、
２８８２、１６４７、１５９７、１４９４、１４５３、
１３６９、１３０８、１２９１、１２１３、１１７４、
１１１８、１０９６、１０６３、９８０、９３０、８９
６、８７３、８３４、８１４、６９１、６６４、５５
２、５１４ 参考例 ４ １，２‐エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセンの合成］３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐２‐ヒドロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イル ｐ‐トルエンスルホナート１７．８８ｇをメタノール８０ｍｌに溶解し、室温で無水炭酸ナトリウム１７．
１１ｇを加えて１５分間撹拌した。 反応液をセライトを通して濾過し、ジエチルエーテルで結晶を洗浄した。 濾液を濃縮した後、シリカゲルカラムを通して固形物を除去した。 減圧下に濃縮し、下記の物性を有する１，２‐
エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５
‐ヘキセンを７．８７ｇを得た。

【００６７】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ）
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７，９．８，１
７．２Ｈｚ）、５．２〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．３
６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝５．４，６．７Ｈｚ）、３．６１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１，５．４Ｈｚ）、３．０９
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．１，４．９Ｈｚ）、
２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１，４．９Ｈｚ）、
２．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．９Ｈｚ）、
１．４４（ｓ，６Ｈｚ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ３５２０、２９８４、２９２８、１７２５、１６５９、
１５９７、１４９４、１４５４、１３５８、１３０６、
１２９０、１２５０、１２１２、１１８８、１１７６、
１１２０、１０９５、１０７１、１００３、９１９、８
７６、８３６、８１６、７７８、７１３、６９０、６６
３、５７１、５５４ 参考例 ５ ［４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐ヒドロキシ‐６‐ヘプテンニトリルの合成］飽和硫酸マグネシウム水溶液５０ｍｌを１０℃に冷却し、シアン化ナトリウム１０．２３ｇを発熱させないように少しずつ加えた。 １０℃で４５分間撹拌した後、１，２‐エポキシ‐
３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセン７．６１ｇをメタノール３０ｍｌに溶解し、発熱しない程度に少しずつ加えた。 室温で２時間撹拌した後、反応液を酢酸エチルで抽出した。 抽出液を食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記の物性を有する４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐ヒドロキシ‐６‐ヘプテンニトリルを２．１１ｇ得た。

【００６８】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ）
δ：５．９４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，１０．７，
１８．３Ｈｚ）、５．２５〜５．５５（ｍ，２Ｈ）、
４．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，８．０Ｈｚ）、
４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．７６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．８，７．７Ｈｚ）、２．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．
９Ｈｚ）、２．６３（ｄ，１Ｈ，６．４Ｈｚ）、２．４
６（ｂｒｓ，１Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ３４４６、３０８６、２９８６、２９３４、２９８２、
２２５０、１６４５、１４５６、１４１１、１３７２、
１２１５、１１６８、１１２１、１０６８、９９１、９
３３、８７３、８１０、５１１ 参考例 ６ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテンニトリルの合成］４，５−
（ジメチルメチレンジオキシ）−３−ヒドロキシ−６−
ヘプテンニトリル２．１１ｇにジイソプロピルエチルアミン９ｍｌを加え、ついで０℃でメトキシメチルクロリド２ｍｌを少しずつ加えた。 ０℃で１６時間撹拌した後、ジエチルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、
飽和重曹水、食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムで濾過して下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテンニトリルを２．２８ｇ得た（収率８８％）。

【００６９】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．３， １
０．２， １７．３Ｈｚ），５．１６〜５．５２（ｍ，
２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），４．３５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．６， ７．３Ｈ _Z ），３．７８〜４．００
（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），２．６０〜２．
８０（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ２９８６，２９３４，２８９６，２８２６，２２４８，
１６４４，１４５５，１４１４，１３８０，１３７２，
１２４５，１２１６，１１５４，１１０６，１０６２，
１０３９，９９２，９２０，８７５，８０９，５１２ 参考例 ７ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオキシムの合成］４，５
−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテンニトリル１５９.８ｍｇを乾燥トルエンに溶解し、−７８℃にて０．５Ｎ−水素化ジイソプロピルアルミニウム１．６ｍｌを加えた。 −７８℃で２時間撹拌し、−４０℃で３０分間撹拌し、ついで０℃にて５％希硫酸を少しずつ加えた。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテナールを９１．１ｍｇ得た。

【００７０】上記により得られた４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナール９１．９ｍｇをピリジン１ｍｌに溶解し、室温でヒドロキシルアミン塩酸塩４５ｍｇを加えた。 室温で８
時間撹拌し、得られた反応液をジエチルエーテルで希釈した。 反応液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオキシムを８９．５ｍｇ得た（収率５２％）。

【００７１】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
１ ₄ ）δ：８．０２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．６２（ｂ
ｓ，１Ｈ），７．４９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），
６．９３（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．６４〜
６．１０（ｍ，２Ｈ），５．１６〜５．００（ｍ４
Ｈ），４．５６〜４．９０（ｍ，４Ｈ），４．２４〜
４．４８（ｍ，２Ｈ），３．７２〜４．１０（ｍ，４
Ｈ），３．３９（ｓ，６Ｈ），２．６７（ｔ，２Ｈ，Ｊ
＝５．７Ｈｚ），２．５０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈ
ｚ），１．４２（ｓ，１２Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ３３７９，３０８８，２９８４，２８９２，２８２６，
１７２７，１６４７，１４５３，１４２７，１３８０，
１３７１，１２４４，１２１４，１１５２，１１００，
１０３２，９９１，９２０，８７６，８１３，７０５，
６６５，５１２，４５３ 参考例 ８ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルの合成］４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−
ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル２．１１ｇとイミダゾール２．０ｇおよび塩化メチレン５０ｍｌからなる溶液に０℃でｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２．０ｇ
を少しずつ加えた。 室温で１６時間撹拌した後、ジエチルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、飽和重曹水、食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製して下記の物性を有する４，
５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを２．
６３ｇ得た（収率７９％）。

【００７２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ３１１ 参考例 ９ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキシムの合成］参考例７において、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテンニトリル１５９．８ｍｇのかわりに４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２０６．２ｍｇを用いた以外は参考例７と同様に反応および分離精製を行うことにより、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキシムを１６７ｍｇ得た（収率７７％）。

【００７３】参考例１０ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリルの合成］窒素雰囲気下、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル３.５４ｇを塩化メチレン５０mlに溶解し、氷冷下に触媒量のｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩を加え、ついでエチルビニルエーテル２.５７mlを滴下した。 ２時間撹拌したのち、反応液を飽和重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。 得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）
−６−ヘプテンニトリルを４.４１ｇを得た（収率９１
％）。

【００７４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：５.７−６.１（ｍ，１Ｈ），５.１−５.５
（ｍ，２Ｈ），４.９７，４.９０（ｑ，Ｊ＝５，１Ｈ
ｚ，１Ｈ），４.３５（ｑ，Ｊ＝６，２Ｈｚ，１Ｈ），
３.４−４.１（ｍ，２Ｈ），３.６０（ｑ，Ｊ＝６.９Ｈ
ｚ，２Ｈ），２.６−２.８（ｍ，２Ｈ），１.４２
（ｓ，６Ｈ），１.３４，１.３２（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈ
ｚ，３Ｈ），１.２１（ｔ，Ｊ＝７，７Ｈｚ） 参考例１１ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシムの合成］４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１
−エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリル１.４０
ｇを乾燥トルエン１３mlに溶解し、−７８℃にて２Ｎ−
水素化ジイソブチルアルミニウム２.０mlを滴下した。
−７８℃で１００分間撹拌し、ついで０℃まで昇温したのち、１０％希硫酸を少しずつ加えた。 反応液をエーテルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールを２.６１ｇ得た。

【００７５】得られた４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールを窒素下でピリジン２mlに溶解し、０℃でヒドロキシルアミン塩酸塩４４２mgを加えた。 室温で４時間撹拌し、得られた反応液をエーテルで希釈した。 反応液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮することにより、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−
６−ヘプテナールオキシムを１.００ｇ得た。

【００７６】参考例１２ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルの合成］参考例８において、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２.０ｇの代わりにｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド３.６５ｇを用いた以外は参考例７と同様に反応及び分離精製を行うことにより、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを得た。

【００７７】参考例１３ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキシムの合成］参考例７において、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテンニトリル１５９.８mgの代わりに４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２８８mgを用いた以外は参考例７と同様に反応及び分離精製を行うことにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシムを２０５mg得た。

【００７８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４５３ 実施例１ ４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐メトキシメトキシ‐６‐ヘプテナールオキシム８９．５ｍｇを塩化メチレン４ｍｌに溶解し、０℃でトリエチルアミン０.０３５ｍｌを加えた。 ０℃で１０％次亜塩素酸ナトリウム水溶液２．６ｍｌを加え、０℃で５７時間撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘキサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾールを５０．
０ｍｇを得た（収率５６％）。

【００７９】 ¹ Ｈ‐ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，Ｃ
Ｃl ₄ ，ＴＭＳ） ４．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６６
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６３（ＡＢＸ，１
Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、４．４１（ｄｄｄ，
１Ｈ，Ｊ＝２．３，２．４，３．３Ｈｚ）、４．１３
（ＡＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、３．９
８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５，１０．０Ｈｚ）、３．６
３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，９．５Ｈｚ）、３．５６
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，８．５，１０．０Ｈ
ｚ）、３．３９（ｓ，３Ｈ）、３．０５（ＡＢＸ，１
Ｈ，Ｊ＝２．４，１５．７Ｈｚ）、２．４１（ＡＢＸ
Ｙ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，３．３，１５．７Ｈｚ）、１．
４５（ｓ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，３Ｈ） ¹³ Ｃ―ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ） １５４．７、１１１．４、９６．１、８０．６、７６．
２、６８．８、５５．６、５３．５、２９．６、２７．
０、２６．６ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ３５２２、２９８２、２９３２、２８９２、２８２４、
１７２０、１６３２、１４５５、１３８１、１３７１、
１３３３、１３０６、１２６６、１２３１、１１５１、
１０８９、１０３８、９８８、９１８、８７０、８３
２、７９４、７８０、６７２、５９０、５１８ 実施例２ ラネーニッケルＷ‐２（川研ファインケミカル株式会社製、ＮＤＨＦ‐９０）５５０ｍｇを水、メタノールで１
回ずつデカンテーションした。 ホウ酸４８ｍｇを加え、
アルゴン置換した後、水素で置換した。 メタノール１．
５ｍｌおよび水０．３ｍｌを加えてホウ酸を溶解させ、
次いで４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘキサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾール８０ｍｇ
をメタノール３．５ｍｌに溶解して得られた溶液を室温にて加え、５時間撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、フロリジルを通して濾過した。 濾液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン４９ｍｇを得た（収率６１％）。

【００８０】 ¹ Ｈ‐ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，Ｃ
Ｃl ₄ ，ＴＭＳ） ４.５２‐４．８８（ｍ，２Ｈ）、４．３８‐４．５０
（ｍ，１Ｈ）、３．８０‐４．３０（ｍ，４Ｈ）、３．
３６（ｓ，３Ｈ）、２．３２‐２．８８（ｍ，４Ｈ）、
１．５０（ｓ，３Ｈ），１．４６（ｓ，３Ｈ） ¹³ Ｃ‐ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ） ２０７．８、１１２．３、９６．２、８０．４、７２．
８、６８．７、５９．５、５６．６、５５．６、４６．
０、２７．２、２６．６、１４．７ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ３４９４、２９８２、２９３０、２８９２、１７１３、
１６４４、１４５５、１３８３、１３７１、１３２５、
１２２８、１１６９、１１５０、１１００、１０３８、
９９９、９１８、８５１、８０３、７８７、６９３、５
２７、５０６、４３９ 旋光度 ［α］ _D ＝−７．３５°（ｃ＝０．１４，ＣＨＣl ₃ ） 実施例３ ２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン２２ｍｇにピリジン０．５ｍｌを加え、次いで０℃で塩化メタンスルホニル０．１ｍｌを加えて２時間撹拌した。 反応液を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。 抽出液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する２‐メチレン‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン１．８ｍｇを得た（収率８．８％）。

【００８１】ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，ＣＣ
l ₄ ，ＴＭＳ） ５．９５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，２．７５Ｈ
ｚ）、５．４９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，２．７
５Ｈｚ）、４．８８８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．７５，１
０．０８Ｈｚ）、４．８３１（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．６
５ＨＺ）、４．６９３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．６５Ｈ
ｚ）、４．４５６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３７，２．
２９，１８．１９Ｈｚ）、３．８１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝２．２９，１０．０８Ｈｚ）、３．３８７（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝０．９１Ｈｚ）、２．８１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ
＝１．３７，１８．７８Ｈｚ）、２．６１２（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５．０４，１８．７８Ｈｚ）、１．５２２
（ｓ，３Ｈ）、１．５０７（ｓ，３Ｈ）ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ２９８４、２９２８、１７０２、１６３６、１４５４、
１３８０、１３７２、１２３２、１１５４、１１４３、
１１０３、１０６４、１０３８、１００３、９７７、９
４６、９１９、８６０、８３８、８０６ 実施例４ （１） 窒素雰囲気下、２‐ヒドロキシメチル‐３，４
‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン５６．５ｍｇおよびジエチルホスホニル酢酸１１２．３ｍｇを乾燥ジエチルエーテル５
ｍｌに溶解した。 この溶液に０℃でＮ，Ｎ′‐ジシクロヘキシルカルボジイミド８７．９ｍｇを加え、１時間撹拌した。 反応液を酢酸エチルで希釈した。 飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（５，６
‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐４‐メトキシメトキシ‐２‐オキソシクロヘキシル）メチル ジエチルホスホニルアセテートを１０８．２ｍｇを得た（収率１００
％）。

【００８２】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ）
δ：４．８０（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、４．６
３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６.８Ｈｚ）、４．０‐４．５
（ｍ，９Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、２．９７（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝２１．５Ｈｚ）、２．４‐３．０（ｍ，３
Ｈ）、１．１‐１．６（ｍ，１２Ｈ）、 ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ ^-1 ） ２９８２、２９３２、２６２８、２５２４、１７３７、
１６６６、１４７６、１４４５、１３７１、１２４０、
１１６３、１１００、１０２７、９７２、９１７、８４
５、７８７、６８８、６０１、５０５、４３９ （２） 窒素雰囲気下、（５，６‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐４‐メトキシメトキシ‐２‐オキソシクロヘキシル）メチル ジエチルホスホニルアセテート１
３．６ｍｇをアセトニトリル１ｍｌに溶解し、０℃で塩化リチウム８．４ｍｇ次いでジイソプロピルエチルアミン６μｌを加え、室温で１０時間撹拌した。 反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
‐ヘキサヒドロ‐７，８‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐メトキシメトキシ‐３Ｈ‐２‐ベンゾピラン‐３‐オン２．１ｍｇを得た（収率２３％）。

【００８３】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl ₄ ）
δ：５．９（ｂｒｓ，１Ｈ）、３．０‐５．０（ｍ，１
０Ｈ）、２．０‐３．０（ｍ，３Ｈ）、１．３‐１．５
（ｍ，６Ｈ） 実施例５ アルゴン雰囲気下、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２.
１mgのトルエン０.５ml溶液に、−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（０.５Ｎトルエン溶液）１８μ
ｌを加え、２時間撹拌した。 ０℃まで昇温した後、ジエチルエーテルで希釈し、飽和硫酸ナトリウム水溶液を白色沈殿が出るまで加えた。 得られた反応液に酢酸エチルを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−
メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オール３.８mgを得た(収率１００％）。

【００８４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ、ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：５.６２（ｂｒｓ，１Ｈ）、５.２２（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）、４.５−４.８（ｍ，２Ｈ）、３.０−４.５
（ｍ，６Ｈ）、３.３（ｓ，３Ｈ）、１.８−２.７
（ｍ，３Ｈ）、１.４（ｓ，６Ｈ） 実施例６ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オール３.８mgを乾燥メタノール０.６mlに溶解し、室温で触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加えた。 室温で２時間撹拌した後、トリエチルアミンを加え、減圧下水冷しながら濃縮した。 得られた残渣を短いシリカゲルカラムを通して精製することにより、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−６−メトキシメトキシ−３−メトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−７,８−ジオール１.３mgを得た（収率６８％）。

【００８５】ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ、ＣＣｌ
₄ ）δ：５.０−５.６６（ｍ，２Ｈ）、４.５５−４.８
５（ｍ，２Ｈ）、３.１５−４.２５（ｍ，８Ｈ）、３.
３９−３.４３（ｍ，６Ｈ）、１.９５−２.８０（ｍ，
４Ｈ）実施例７ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オン２８.４mgをメタノール５m
lに溶解し、６Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液０.１mlを氷冷下に加え、室温で２時間撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、氷冷下に希塩酸を加えて中和した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 この溶液にジアゾメタンを吹き込み、過剰のジアゾメタンを留去した後、減圧下に溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
下記の物性を有する（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸メチルを２５.４mg得た（収率８０％）。

【００８６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２８４ 実施例８ （２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸メチル３１.６mgおよびｏ−ニトロベンゼンセレネニルシアニド２７.２mgをテトラヒドロフラン５mlに溶解し、トリブチルホスフィン２４.２mgをテトラヒドロフラン５mlに溶解して得られた溶液を加え、室温で１
時間撹拌した。 反応液を減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−
（ｏ−ニトロベンゼンセレネニルメチル−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸メチルを４４０mg得た。 次いでこれをテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下に３０％過酸化水素水１滴（約０.０５ml）を滴下し、室温で３時間撹拌した。 得られた反応液をジエチルエーテルで希釈し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸メチルを１８８mg得た（収率６３％）。

【００８７】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２９８ 実施例９ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶液）を０．４ｍｌ滴下した。 反応液を０℃まで昇温した後、ジエチルエーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで飽和硫酸ナトリウム水溶液を滴下し、セライトを通して濾過した。 濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２
５．４ｍｇ得た（収率９４％）。

【００８８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２７０ 実施例１０ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶液）を０．１５ｍｌ滴下した。 ３０分間撹拌した後、水を加え、ついで反応液を０℃まで昇温した後、ジエチルエーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで飽和硫酸ナトリウム水溶液を滴下し、セライトを通して濾過した。 濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３，
４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンアセトアルデヒドを１５．０
ｍｇ得た（収率５６％）。

【００８９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２６８ 実施例１１ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンアセトアルデヒド２６．８ｍｇをエタノール２ｍｌに溶解し、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム３ｍｇを加えた。
３０分間撹拌した後、ジエチルエーテルおよび希塩酸を加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。 無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−メチレン−
３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２５.４ｍ
ｇ得た（収率９４％）。

【００９０】実施例１２ 実施例１において、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオキシム８９．５ｍｇの代わりに４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシム１１３．７ｍｇを用いた以外は実施例１と同様に反応および分離精製を行うことにより、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−３，３ａ，４，５，６，７−ヘキサヒドロ−２，１−
ベンゾイソオキサゾールを６２．４ｍｇ得た（収率５５
％）。

【００９１】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ３５７ 実施例１３ １，５，６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−７，８−
（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２８４ｍｇをメタノール５０ｍｌと水５ｍｌに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加え、１時間加熱還流した。 冷却後、
反応液を重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥した後、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリヒドロキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オンを１１４ｍｇ得た（収率５
７％）。

【００９２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２００ 実施例１４ １，５，６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８
−トリヒドロキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン１００ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、室温にてピリジン３００ｍｇおよび塩化アセチル３００ｍｇを加え、室温で一夜撹拌した。 反応液を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、１，５，
６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリアセトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを１４３
ｍｇ得た（収率８８％）。

【００９３】実施例１５ ４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール２５７ｍｇをテトヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１ｍｌを加えて室温で４時間撹拌した。 ジエチルエーテルで希釈し、重曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４,５−ジヒドロキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール１６７ｍｇを得た（収率７７％）。

【００９４】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２１７ 実施例１６ ４，５−ジヒドロキシ−６−（メトキシメトキシ）−
３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２１７ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、氷冷下にピリジン１ｍｌ次いでクロル炭酸メチル１００ｍｇを加えた。 室温で３時間撹拌した。 ジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニルオキシ−６−（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾール１３７ｍｇを得た（収率５０
％）。

【００９５】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２７５ 実施例１７ ４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニルオキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２７５ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、イミダゾール２００ｍ
ｇおよびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇ
を加え、室温で一夜撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５−メトキシカルボニルオキシ−
６−（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを２８５
ｍｇ得た（収率７３％）。

【００９６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ３８９ 実施例１８ ４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール３２７
ｍｇをテトヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１ｍｌを加えて室温で４時間撹拌した。 ジエチルエーテルで希釈し、重曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４,５−ジヒドロキシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,
３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを１９６ｍｇ得た（収率６８％）。

【００９７】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２８７ 実施例１９ ４,５−ジヒドロキシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾール２８７ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、氷冷下にイミダゾール２００ｍｇおよびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇを加え、室温で一夜撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５−ヒドロキシ−３,３ａ,
４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを２６５ｍｇ得た（収率６６％）。

【００９８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４０１ 実施例２０ ４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５
−ヒドロキシ−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール４０１ｍｇを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン５ｍｌおよび４−ジメチルアミノピリジン０.５ｇを加えた後、塩化アセチル１００ｍｇを加え、室温で一夜撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する５
−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾールを３５５ｍｇ得た（収率８
０％）。

【００９９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４４３ 実施例２１ 実施例２において、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールの代わりに５−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを用い、実施例２
に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性を有する４−アセトキシ−３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２−ヒドロキシメチルシクロヘキサノンを収率７２％で得た。

【０１００】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４４６ 実施例２２ 実施例４において、２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（メトキシメトキシ）シクロヘキサノンの代わりに４−アセトキシ−３,
５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２−ヒドロキシメチルシクロヘキサノンを用い、実施例４に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性を有する７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを３４％の収率で得た。

【０１０１】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４７０ 実施例２３ 実施例７において、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンの代わりに７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを用い、実施例７に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性を有する（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチル）シクロヘキシリデン酢酸メチルを８１％の収率で得た。 ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４６０ 実施例２４ 実施例８において、（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸メチルの代わりに（３,５
−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチル）シクロヘキシリデン酢酸メチルを用い、実施例８に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性を有する３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを５１％
の収率で得た。

【０１０２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４４２ 実施例２５ ３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−ヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチル４４２ｍｇを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、ピリジンを１ｍｌ、４−ジメチルアミノピリジンを触媒量次いでメタンスルホニルクロリドを１５０ｍｇ加え、室温で４時間撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−（メタンスルホニルオキシ）
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを得た。

【０１０３】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ５２０ 参考例１４ ３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−（メタンスルホニルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチル５２ｍｇをテトラヒドロフラン１
０ｍｌに溶解し、水素化トリイソブチルホウ素リチウムの１Ｍテトラヒドロフラン溶液１ｍｌを滴下し、室温で６時間撹拌した。 得られた反応液に酢酸エチルを徐々に加えた後、希塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。 抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する２−（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エタノールを３５ｍｇ得た。 各種スペクトルデータは文献と一致した。

【０１０４】融点 ６９℃ 施光度 ［α］ ²⁵ _D ＋７.９°（ｃ＝０.４，エタノール） 実施例２６ ４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.００
ｇを塩化メチレン１５mlに溶解し、０℃でトリエチルアミン０.２mlに加えた。 ついで１０％次亜塩素酸ナトリウム水溶液８mlを加え、０℃で１１時間撹拌した。 反応液をエチルエーテルで希釈し、重曹水、食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する４,５−
（メチレンジオキシ）−６−（１−エトキシエトキシ）
−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを５３０mg得た。

【０１０５】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.３８−４.８
（ｍ，２Ｈ）、３.２−４.３８（ｍ，５Ｈ）、３.０
７，３.０８（ｄｄ，１Ｈ，２.６，４.６Ｈｚ）、２.２
−２.６（ｍ，１Ｈ）、１.４４（ｓ，３Ｈ）、１.４２
（ｓ，３Ｈ）、１.３１（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、
１.１９（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２７ フラスコにラネーニッケルＷ−２（川研フアインケミカル株式会社製、ＮＤＨＦ−９０）５.９８ｇをとり、
水、メタノールで１回ずつデカンテーションした。 これにホウ酸８８８mgを加え、アルゴン置換し、ついで水素で置換した。 メタノール２５ml、水６mlを加えてホウ酸を溶解させた。 ４,５−（メチレンジオキシ）−６−
（１−エトキシエトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２.０３ｇ
をメタノール５mlに溶解し、室温で上記懸濁液に加え、
１３時間撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、フロリジルを通して濾過した。 濾液を飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する２−
ヒドロキシメチル−３,４−ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノンを１.３９ｇ得た。

【０１０６】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.４５（ｍ，１
Ｈ）、３.８−４.３（ｍ，４Ｈ）、３.３−３.８（ｍ，
２Ｈ）、２.３−２.９（ｍ，４Ｈ）、１.４９（ｓ，３
Ｈ）、１.３０（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２８ ２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン７６５mgを乾燥塩化メチレン７mlに溶解し、０℃でトリエチルアミン１.２ml、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリジン５５.６mg、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド５
２０mgを加え、０℃で１３時間撹拌した。 得られた反応液を１Ｎ−塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノンを１.０４ｇを得た。

【０１０７】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：４.８−５.０２（ｍ，１Ｈ）、４.３−４.６
（ｍ，２Ｈ）、４.０−４.３（ｍ，１Ｈ）、３.４−４.
０（ｍ，４Ｈ）、２.２−２.９（ｍ，３Ｈ）、１.４９
（ｓ，３Ｈ）、１.４５（ｓ，３Ｈ）、１.２９（ｄ，Ｊ
＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，
３Ｈ）、０.８７（ｓ，９Ｈ）、０.０７（ｓ，６Ｈ） 実施例２９ アルゴン雰囲気下、ジシクロヘキシルアミン０.８０ml
を乾燥テトラヒドロフラン７mlに溶解し、−２０℃でブチルリチウムのヘキサン溶液（１.６３Ｎ，３.９６mmo
l)を加え、３０分間撹拌した。 −７８℃に冷却後、エチルトリメチルシリルアセテート０.７３mlを加え、−７
８℃で１時間撹拌した。 ２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン８０２mgを乾燥テトラヒドロフラン６mlに溶解し、−７
８℃で滴下した。 ２時間撹拌したのち、０℃で５時間撹拌し、反応液を氷の入った１Ｎ−塩酸にあけた。 ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを７０４mg得、原料の２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノンを２２７mg回収した。

【０１０８】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：５.７３（ｓ，１Ｈ）、４.７−５.０（ｍ，１
Ｈ）、４.１４（ｑ，Ｊ＝７.３Ｈｚ，２Ｈ）、３.２−
３.８（ｍ，４Ｈ）、２.６９（ｂｄｄｄ，Ｊ＝１.０，
１.５，６.７Ｈｚ，２Ｈ）、１.４２（ｓ，６Ｈ）、１.
２９（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.２６（ｔ，Ｊ＝
７.３Ｈｚ，３Ｈ）、０.８８（ｓ，９Ｈ）、０.１２
（ｓ，３Ｈ）、０.０５（ｓ，３Ｈ） 実施例３０ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル２ｇ
を乾燥トルエン１０mlに溶解し、−７８℃で水素化ジイソブチルアルミニウム４.７ml（２Ｎ−ヘキサン溶液、
９.４mmol）を加え３時間撹拌した。 ０℃で５分間撹拌したのち、１０％−硫酸水溶液を反応液が白くなるまで徐々に加えた。 ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）エタノールを１.４７ｇ得た。

【０１０９】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ ₄ ）δ：５.６４（ｂｔ，Ｊ＝６.８Ｈｚ，１Ｈ）、４.
７−４.９（ｍ，１Ｈ）、３.０８−４.４（ｍ，７
Ｈ）、３.４８（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ）、２.０−３.
０８（ｍ，３Ｈ）、１.４１（ｓ，６Ｈ）、１.２０
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ）、１.０４−１.４（ｍ，
３Ｈ）、０.９０（ｓ，９Ｈ）、０.０８（ｓ，６Ｈ） 実施例３１ 実施例２６において、４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.００ｇの代わりに４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.５８ｇを用いた以外は実施例２６と同様に反応及び分離精製を行うことにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾールを１.２１ｇ得た。

【０１１０】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４５１ 実施例３２ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.
４７２ｇをテトラヒドロフラン５mlに溶解し、１Ｍ−フツ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶液３mlを加え、室温で一夜撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−ヒドロキシメチル−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを得た。

【０１１１】得られた（２−ヒドロキシメチル−３,４
−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルをピリジン５mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド０.１２ｇを加えて室温で一夜撹拌した。 反応液を減圧下に濃縮し、
ジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.２８２ｇ得た。

【０１１２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ３４０ 実施例３３ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.３４ｇをエタノール５mlに溶解し、
触媒量のピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを加えて室温で１５分間撹拌した。 反応液に重曹水を加え、
ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヒドロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.２０２ｇ
得た。

【０１１３】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ２６８ 実施例３４ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヒドロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチル０.２６８ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イミダゾール０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌した。 反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４５０ｇ得た。

【０１１４】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ５０６ 実施例３５ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.５０６ｇをエタノール１０mlに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加えて室温で５時間撹拌した。 反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレン−
３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４
０５ｇ得た。

【０１１５】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ４６６ 実施例３６ （２−メチレン−３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.４６６ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イミダゾール０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌した。 反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.６６４ｇ得た。

【０１１６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ７０４ 実施例３７ （３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.７０４ｇをトルエン２０mlに溶解し、−７８℃で１Ｎ−水素化ジイソブチルアルミニウム／ヘキサン溶液２.５mlを滴下した。 １時間撹拌したのち、冷希塩酸にあけてジエチルエーテルで抽出した。 抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリデン）エタノールを５１１mg得た。

【０１１７】ＦＤ質量スペクトル［Ｍ］ ⁺ ６６２ 実施例３８ （３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリデン）エタノール６６２mgを塩化メチレン１０mlに溶解し、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを触媒量加えたのち、氷冷下にジヒドロピラン１００mgと塩化メチレン１mlからなる溶液を滴下し、室温で１時間撹拌した。 反応液を重曹水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。 得られた４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メチレン−シクロヘキサノールをテトラヒドロフラン１０
mlに溶解し、水素化ナトリウム２５mgのテトラヒドロフラン５ml懸濁液に滴下した。 ５０℃に加熱したのち、臭化アリル１４５mgを加え、一夜撹拌を続けた。 反応液を氷水にあけてジエチルエーテルで抽出した。 抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。 得られた（４−アリルオキシ−３,５−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン−シクロヘキシリデン）エチルテトラヒドロピラン−２−イルエーテルをテトラヒドロフラン１０mlに溶解し、９−ボラビシクロ［３,３,１］ノナンの１Ｎテトラヒドロフラン溶液１mlを氷冷下に加え、室温で１時間撹拌した。 氷冷下に１Ｎ−水酸化ナトリウム１mlおよび３５％過酸化水素水０.３mlを加え、１時間撹拌した。
反応液をジエチルエーテルで希釈し、水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で順次希釈し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。 減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、３
−（４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メチレンシクロヘキシルオキシ）プロパン−１−オールを４２７mg得た。

【０１１８】上記により得られた３−（４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メチレンシクロヘキシルオキシ）プロパン−１−オール４０
２mgを塩化メチレン１０mlに溶解し、イミダゾール６８
mgを加えたのち、氷冷下でｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド２０６mgを加え、室温で３時間撹拌した。 反応液を濃縮したのち、エタノールおよび希塩酸を加え、１
時間撹拌した。 反応液をジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有する（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エタノールを４０７mg得た。

【０１１９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］ ⁺ ９５８ 参考例１５ Ｎ−クロロコハク酸イミド１４０mgを塩化メチレン１０
mlに懸濁し、０℃でジメチルスルフイド７４mgを加えて撹拌し、−２５℃に冷却して（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エタノール９５８mgを塩化メチレン２mlに溶解した溶液を滴下し、０℃で２時間撹拌した。 反応液に食塩水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。 抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち、減圧下に濃縮して（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エチルクロライドを９３１mg得た。

【０１２０】（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エチルクロライド８７０mgをテトラヒドロフランに溶解し、ジフェニルホスフィンリチウムの０.５Ｎ−テトラヒドロフラン溶液２mgを０℃で滴下し、室温にて１
時間撹拌した。 反応液を減圧下に濃縮し、得られた残渣をクロロホルムに溶解して５％過酸化水素水、ナトリウムサルファイト水溶液、希塩酸、重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、（４−（３−
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,
５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２
−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジフェニルホスフィンオキサイドを８３４mg得た。

【０１２１】参考例１６ （４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジフェニルホスフィンオキサイド５７１mgをテトラヒドロフラン５mlに溶解し、０℃で１Ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン溶液０.５mlを滴下し、１５分間撹拌した。 反応液に１−（１,５−ジメチル−５−トリエチルシリルオキシヘキシル）−７ａ−メチル−２,３,３ａ,４,５,６,
７,７ａ−オクタヒドロインデン−４−オン１９７mgとテトラヒドロフラン２mlからなる溶液を滴下し、室温で一夜撹拌した。 反応液にクロロホルムを加え、重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−（３
−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−
１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−２５−トリエチルシリルオキシ−９,１０−セココレスタ−５,７,１０（１９）−トリエンを５０７mg得た。

【０１２２】（２−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２５−トリエチルシリルオキシ−９,１０−セココレスタ−５,７,１０（１９）−トリエンをテトラヒドロフラン１０mlに溶解し、フツ化テトラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液を加え室温で３時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
２−（３−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃を１７２mg得た。 得られた２−（３
−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒドロキシビタミンＤ ₃の物性値は、文献［特開昭６３−１０７９２
９号公報］と一致した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. ⁵識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/732 Ｚ 9279−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 261/20 311/74 7252−4Ｃ // Ｃ０７Ｄ 317/20 317/46