| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 381 | X線回折装置およびX線回折測定方法 | JP2015545215 | 2015-01-30 | JP5850211B1 | 2016-02-03 | 青山 朋弘; 山田 克己; 野呂 寿人 |
| 本発明の一態様であるX線回折装置(1)は、被検試料(16)のX線回折強度プロファイルを測定する測定ユニット(2)と、被検試料(16)と測定ユニット(2)との間の離間距離(Z)を測定する距離測定部(9)と、X線回折強度プロファイルを補正処理するデータ処理部(10)とを備える。 測定ユニット(2)は、被検試料(16)にX線を照射するX線照射部(3)と、被検試料(16)からの複数の回折X線を1次元検出または2次元検出するX線検出部(6)と、基準面(17)に対して相対的にX線照射部(3)およびX線検出部(6)を固定配置される筐体(8)とを有する。データ処理部(10)は、離間距離(Z)をもとに被検試料(16)の変位(ΔZ)を算出し、算出した変位(ΔZ)に応じて、被検試料(16)の測定点における真のX線回折角度(2θ)を算出し、算出した真のX線回折角度(2θ)をもとに、X線回折強度プロファイルを補正する。 |
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| 382 | 回折環分析方法および回折環分析装置 | JP2014213211 | 2014-10-17 | JP5842242B2 | 2016-01-13 | 宮崎 利行; 佐々木 敏彦 |
| 383 | X線回折装置およびX線回折測定方法 | JP2013243506 | 2013-11-26 | JP2015102432A | 2015-06-04 | 小林 信太郎; 光永 徹; 梶芳 功系兆; 新井 和良 |
| 【課題】後段受光スリットを使用することなく測定分解能を変更可能で、かつ、後段受光スリットを使用する場合には実現不可能な測定分解能の変更にも柔軟に対応可能とする装置を提供する。 【解決手段】X線源で発生させたX線を試料台上の試料に照射し、そこで回折したX線を検出器で検出するもので、仮想マスク設定部26と信号処理部21を備える。検出器は、検出面を形成する複数の検出素子ごとに、検出素子で受光したX線の強度に応じた検出信号を出力する。仮想マスク設定部26は、検出器の検出面に仮想マスク31を設定するとともに、仮想マスク31の開口条件として、少なくとも仮想マスクの開口寸法をX方向とY方向で独立に設定可能である。信号処理部21は、検出器から出力された検出信号を、仮想マスク設定部26で設定された仮想マスクの開口条件に応じて処理する。 【選択図】図3 |
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| 384 | 回折光学素子の製造方法および回折光学素子 | JP2010529180 | 2009-12-24 | JPWO2010073675A1 | 2012-06-07 | 辰敏 末永; 岡田 夕佳; 夕佳 岡田; 村田 晶子; 晶子 村田 |
| 本発明の回折光学素子の製造方法によれば、金型1の成型面2の中心に形成された所定形状のマーカー3と、基材4の回折格子5の形状とに基づいて、成型面2の中心と基材4の中心との位置合わせをする。成型面2と回折格子5との間に、ナノコンポジット材料9を配置し、金型1と基材4とにより材料9を押圧して、回折格子5上に光学調整層10を形成する。 | ||||||
| 385 | Ｘ線回折測定装置及び回折像検出方法 | JP2021208386 | 2021-12-22 | JP7646131B2 | 2025-03-17 | 田中 俊一郎; 内山 宗久; 丸山 洋一 |
| 386 | 光回折素子、及び、光回折素子の位置調整方法 | JP2023500560 | 2021-12-08 | JP7608591B2 | 2025-01-06 | 日下 裕幸; 柏木 正浩 |
| 387 | 回折光学素子及び回折光学素子の製造方法 | JP2023009972 | 2023-01-26 | JP2024105955A | 2024-08-07 | YONEYA KOICHI |
| 【課題】樹脂材料が用いられた回折光学素子において、経年劣化を低減又は防止しつつ、高い光学性能を維持することできる回折光学素子及び回折光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】回折光学素子は、第1の回折格子を有し、第1の樹脂材料からなる第1の樹脂部と、第1の回折格子を覆うように形成された第2の回折格子を有し、第2の樹脂材料からなる第2の樹脂部と、第1の回折格子と第2の回折格子との界面である光学有効面に形成された透明無機膜と、を有し、第1の回折格子の格子先端における透明無機膜の厚さは、第1の回折格子の格子先端以外の格子面における透明無機膜の厚さより厚い。【選択図】図1B | ||||||
| 388 | 回折光学素子、回折光学素子の設計方法 | JP2019204964 | 2019-11-12 | JP7342641B2 | 2023-09-12 | 登山 伸人; 安達 俊; 稲月 友一 |
| 389 | Ｘ線回折測定装置及び回折像検出方法 | JP2021208386 | 2021-12-22 | JP2023093010A | 2023-07-04 | TANAKA SHUNICHIRO; UCHIYAMA MUNEHISA; MARUYAMA YOICHI |
| 【課題】測定対象物が多結晶状態と単結晶状態が混在する結晶状態であっても、測定対象物の特性値を精度よく測定することができるX線回折測定装置を提供する。【解決手段】X線管10における電子を加速するための電圧である管電圧、並びにX線管10から出射されるX線の出射時間又はX線管10における該電子の量である管電流を設定する入力装置92及びコントローラ91と、検出した回折像を、回折像のそれぞれの箇所に回折X線の強度を視覚的に確認できる処置をしたうえで表示するコントローラ91及び表示装置93とを備え、X線回折測定装置1からX線管10の取外しと装着が可能になっている。【選択図】図1 | ||||||
| 390 | Ｘ線回折測定装置及びＸ線回折測定ロボット | JP2021066785 | 2021-04-09 | JP2022161735A | 2022-10-21 | INUI NORIKI; SASAKI TOSHIHIKO; MITSUI SHINGO |
| 【課題】測定対象物と干渉せずに測定する。【解決手段】測定対象物に向けてX線を出射し、一方向が長いX線回折測定装置10であって、X線回折測定装置10の底面において当該X線回折測定装置10の長手方向に並べて設けられ、測定対象物にて回折したX線を検出する検出センサ40と、X線回折測定装置10の長手方向を回転軸としてX線回折測定装置10が短手方向に傾斜するようにX線回折測定装置10を回転移動させる回転手段16と、を備える。【選択図】図5 | ||||||
| 391 | 回折導光板および回折導光板の製造方法 | JP2021506483 | 2020-04-20 | JP2021532420A | 2021-11-25 | ジェヨン・キム; ヨンスク・キム; スンファ・ジュン; ヨンレ・チャン |
| 本発明は、優れた厚さ均一度および平坦度を有すると同時に、ヘイズが低くて視認性に優れ、鉛筆硬度および強度などの機械的特性に優れた回折導光板およびこのような回折導光板を製造する方法に関する。 | ||||||
| 392 | X線回折測定方法およびX線回折測定用試料 | JP2020149616 | 2020-09-07 | JP2021092538A | 2021-06-17 | 押村 信満 |
| 【課題】潮解性を有する試料であってもX線回折測定により精度よく分析する。 【解決手段】粉状または塊状の潮解性試料と、水分を吸収可能な吸水材と、を混合して、混合試料を形成する工程と、混合試料に対してX線回折測定を行う工程と、を有する、X線回折測定方法である。 【選択図】なし |
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| 393 | 回折光学素子、回折光学素子の設計方法 | JP2019204964 | 2019-11-12 | JP2021076779A | 2021-05-20 | 登山 伸人; 安達 俊; 稲月 友一 |
| 【課題】高次回折光を高角度に回折させて0次光を低く抑える場合であっても、高次回折光の回折効率の低下を抑えることができる回折光学素子、回折光学素子の設計方法を提供する。 【解決手段】回折光学素子10は、凸部11を有する高屈折率部と、凸部11よりも屈折率が低い凹部12を有する低屈折率部とを備える凹凸形状が形成された面の法線方向から見て凸部11と凹部12との境界が曲線と複数の線分を繋げた折れ線との少なくとも一方を含むパターンを有する回折格子を有する回折光学素子10であって、凸部11の高さをHとし、凸部11の幅をWPとし、凸部11のアスペクト比をarP=H/WPとすると、3.8 |
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| 394 | X線回折測定装置及びX線回折測定方法 | JP2017192412 | 2017-10-02 | JP2019066336A | 2019-04-25 | 鈴木 哲也 |
| 【課題】 X線回折測定装置の筐体を測定対象物に対して揺動させる機構を設けることなく、X線回折測定装置の筐体を測定対象物に対して揺動させた場合と同様の効果を得るようにする。 【解決手段】 X線出射器10から出射されたX線を貫通孔を通過させて測定対象物OBに照射する構成において、X線出射器10におけるX線発生点の領域を大きくし、測定対象物OBの近傍にX線出射孔51aを配置させる。これにより、X線を微小断面の複数のX線の集合で見たとき、測定対象物OBのX線照射箇所におけるそれぞれの点に達するまでの複数のX線の光路が、可視の平行光が凸レンズにより集光したときと同様の光路になるようにX線を出射する。 【選択図】図6 |
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| 395 | X線回折分析方法及びX線回折分析装置 | JP2017113708 | 2017-06-08 | JP2018205247A | 2018-12-27 | 土井 修一 |
| 【課題】複数の結晶相で形成される複雑な材料について、材料に含まれる物質の結晶相の同定等を迅速に行うことのできるX線回折分析方法を提供する。 【解決手段】試料ステージに試料を設置し、X線の照射角度を固定した状態で、前記試料に前記X線を照射し、前記試料からの2次元のX線回折像を2次元検出器により取得する工程と、前記X線回折像より回折角度の近い回折スポットの集まりを回折スポット群として特定する工程と、前記回折スポット群における所定の強度以上の回折スポットのスポット数を数える工程と、前記スポット数が略同じとなる回折スポット群をグループ分けする工程と、前記グループ分けされた回折スポット群の回折角度に基づき、前記試料に含まれる結晶相を同定する工程と、を有することを特徴とするX線回折分析方法により上記課題を解決する。 【選択図】図3 |
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| 396 | X線回折測定装置及びX線回折測定方法 | JP2017192412 | 2017-10-02 | JP6361086B1 | 2018-07-25 | 鈴木 哲也 |
| 【課題】 X線回折測定装置の筐体を測定対象物に対して揺動させる機構を設けることなく、X線回折測定装置の筐体を測定対象物に対して揺動させた場合と同様の効果を得るようにする。 【解決手段】 X線出射器10から出射されたX線を貫通孔を通過させて測定対象物OBに照射する構成において、X線出射器10におけるX線発生点の領域を大きくし、測定対象物OBの近傍にX線出射孔51aを配置させる。これにより、X線を微小断面の複数のX線の集合で見たとき、測定対象物OBのX線照射箇所におけるそれぞれの点に達するまでの複数のX線の光路が、可視の平行光が凸レンズにより集光したときと同様の光路になるようにX線を出射する。 【選択図】図6 |
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| 397 | X線回折測定方法及び回折環読取装置 | JP2016234724 | 2016-12-02 | JP6308374B1 | 2018-04-11 | 丸山 洋一 |
| 【課題】 測定対象物の内部が極度に狭くない限り測定が可能になるとともに、測定精度が従来と同程度であるX線回折測定方法を提供する。 【解決手段】 放射状に出射されるX線を、角度が可変なモータ27に形成された貫通孔を介して照射し、発生した回折X線によりイメージングプレート15に回折環を撮像する回折環撮像装置本体5により、測定対象物による回折環を撮像する。その後、回折環撮像装置本体5をそのままの状態で回折環読取装置2にセットして回折環の読取りを行い、X線照射点からイメージングプレート15までの距離を測定対象物による回折環撮像時と同じにして、回折環読取装置2内にある標準試料Stによる回折環を撮像し、この回折環の読取りを行う。得られた測定対象物による回折環と標準試料Stによる回折環とから補正を行ったうえで残留応力を計算する。 【選択図】図7 |
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| 398 | Ｘ線回折装置およびＸ線回折測定方法 | JP2015545215 | 2015-01-30 | JPWO2015119056A1 | 2017-03-23 | 朋弘 青山; 克己 山田; 山田 克己; 野呂 寿人; 寿人 野呂 |
| 本発明の一態様であるX線回折装置(1)は、被検試料(16)のX線回折強度プロファイルを測定する測定ユニット(2)と、被検試料(16)と測定ユニット(2)との間の離間距離(Z)を測定する距離測定部(9)と、X線回折強度プロファイルを補正処理するデータ処理部(10)とを備える。測定ユニット(2)は、被検試料(16)にX線を照射するX線照射部(3)と、被検試料(16)からの複数の回折X線を1次元検出または2次元検出するX線検出部(6)と、基準面(17)に対して相対的にX線照射部(3)およびX線検出部(6)を固定配置される筐体(8)とを有する。データ処理部(10)は、離間距離(Z)をもとに被検試料(16)の変位(ΔZ)を算出し、算出した変位(ΔZ)に応じて、被検試料(16)の測定点における真のX線回折角度(2θ)を算出し、算出した真のX線回折角度(2θ)をもとに、X線回折強度プロファイルを補正する。 | ||||||
| 399 | 回折環形成装置及びX線回折測定装置 | JP2015501147 | 2013-02-21 | JP5967394B2 | 2016-08-10 | 丸山 洋一 |
| 400 | 回折光学素子の製造方法及び回折光学素子 | JP2014098526 | 2014-05-12 | JP2015215489A | 2015-12-03 | 山田 篤; 濱野 哲英; 高田 岳志 |
| 【課題】ボトルビームを生成するための回折光学素子の設計を簡易なものにする。 【解決手段】まず、第1の2次元位相分布を取得する(S100)。第1の2次元位相分布は、2点の明点を生成するためのDOEの位相分布を示している。第1の2次元位相分布では、等値線が所定の基準直線に平行かつ線対称に配置されている。次いで、1次元位相分布を生成する(S200)。1次元位相分布は、上記した第1の2次元位相分布を上記した等値線と直交する平面で切った場合に上記した第1の2次元位相分布の断面に現れる分布である。次いで、第2の2次元位相分布を生成する(S300)。第2の2次元位相分布は、上記した1次元位相分布の対称軸を回転軸として上記した1次元位相分布を回転させた場合に現れる回転面である。次いで、上記した第2の2次元位相分布に基づいてDOEを設計する(S400)。 【選択図】図1 |
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