1.一种氧化烷基芳族化合物的方法，其包括：
使烷基芳族化合物、包括至少一种离子液体的前体的溶剂、溴源、催化剂和氧化剂接触以制备氧化产物，该氧化产物包括芳族醇、芳族醛、芳族酮和芳族羧酸中的至少一种。
2.根据权利要求1的方法，其中前体包括阳离子前体，所述阳离子前体包含：咪唑、吡唑、噻唑、异噻唑、氮杂噻唑、氧代噻唑、 嗪、 唑啉、 唑硼杂环戊二烯、二噻唑、三唑、硒唑、氧杂磷杂环戊二烯、吡咯、硼杂环戊二烯、呋喃、噻吩、磷杂环戊二烯、五唑、吲哚、二氢吲哚、 唑、异噻唑、四唑、苯并呋喃、二苯并呋喃、苯并噻吩、二苯并噻吩、噻二唑、吡啶、嘧啶、吡嗪、哒嗪、哌嗪、哌啶、吗啉、吡喃、阿诺啉、酞嗪、喹唑啉、喹喔啉或其组合。
3.根据权利要求1至2中任一项的方法，其中前体包括阴离子前体，所述阴离子前体包含：卤离子、硼离子、磷酸根、砷酸根、锑酸根、乙酸根、羧酸根、唑阴离子、硫酸根、酰基单元、CO32-、NO21-、NO31-、SO42-、PO43-、(CF3)SO31-或其组合。
4.根据权利要求1至2中任一项的方法，其中将至少一种前体与羧酸溶剂或与烷基芳族化合物预混合。
5.根据权利要求1至2中任一项的方法，其中在未预混合的情形下使前体与烷基芳族化合物、溴源、催化剂和氧化剂接触。
6.根据权利要求1至2中任一项的方法，其进一步包括：
使氧化产物的至少一部分和包括离子液体或至少一种离子液体的第二前体的第二溶剂接触，以制备第二氧化产物。
7.根据权利要求6的方法，其中第一接触步骤在第一反应区中实施，且其中第二接触步骤在第二反应区中实施。
8.根据权利要求7的方法，其中第一反应区和第二反应区位于不同反应器中。
9.根据权利要求1至2中任一项的方法，其中溶剂进一步包括羧酸，且其中溶剂具有以重量计在1:16至16:1的范围内的羧酸与离子液体的比率。
10.根据权利要求1至2中任一项的方法，其中氧化产物含有小于2500ppm的4-羧基苯甲醛。