一种釉面砖生产方法

申请号 CN201610594027.7 申请日 2016-07-22 公开(公告)号 CN106272899A 公开(公告)日 2017-01-04
申请人 广东赛因迪科技股份有限公司; 发明人 杨扬; 李松; 叶金伟; 蓝智华;
摘要 本 发明 提供了一种釉面砖生产方法,其生产流程是:(1) 压制成型 ---(2)坯 体素 烧---(3)素坯干抛---(4)施釉和图案装饰---(5)釉烧---设置于 输送机 构上方的多组干抛磨头依次对素坯体进行干抛,干抛为非连续多处曲面磨抛,素坯干抛磨头直径大于砖坯宽度尺寸,干抛磨头只做相对坯体表面的旋转与上下运动,不做横向摆动。本发明能够提升最终的产品釉面 质量 ,通过干抛还可以缩小素烧后坯体的厚度偏差与形状差异,消耗 电能 少且不需要 水 资源,设备简单,噪声污染大大降低。(6)成品。所述素坯干抛为素坯由输送机构输送,
权利要求

1.一种釉面砖生产方法,其特征在于,所述生产方法的流程是:
(1)压制成型---(2)坯体素烧---(3)素坯干抛---(4)施釉和图案装饰---(5)釉烧---(6)成品;
其中,所述素坯干抛为素坯由输送机构输送,设置于输送机构上方的多组干抛磨头依次对素坯体进行干抛,干抛为非连续多处曲面磨抛,素坯干抛磨头直径大于砖坯宽度尺寸,干抛磨头只做相对坯体表面的旋转与上下运动,不做横向摆动。
2.如权利要求1所述釉面砖生产方法,其特征在于,所述素坯干抛磨头组数小于等于4组。
3.如权利要求1所述釉面砖生产方法,其特征在于,所述素坯干抛磨头主轴转速在每分钟1000转以下。
4.如权利要求1所述釉面砖生产方法,其特征在于,所述素坯干抛去料深度在0.4-1mm范围内。

说明书全文

一种釉面砖生产方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种陶瓷釉面砖生产方法,尤其是采用二次烧成生产工艺的陶瓷釉面砖生产方法。

背景技术

[0002] 陶瓷釉面砖由于其色彩图案丰富,防污能强等优点在厂房、公共设施和家居装修等各领域得到广泛应用,是使用最为广泛的建筑材料之一。现有釉面砖生产方法为:1、压制成型---2、坯体素烧---3、施釉和图案装饰---4、釉烧---5、成品。该现有生产方法存在三点不足:一是生坯在素烧后其表面是一个布满细小凹凸和弯曲变形的表面,同时存在落脏等问题,在施釉釉烧后会产生黑点、橘釉、釉坑等缺陷;二是采用多台压机压制同一花色产品时,由于压机设备间的差异性,坯体在成型时常会有0.4mm左右的厚度偏差,烧成时会因为应力不同造成釉烧后砖形的差异;三是施釉量较大,生产成本较高。

发明内容

[0003] 本发明所要解决的技术问题在于提供一种釉面砖生产方法,此方法可减少釉烧后的釉面缺陷,提升釉面质量,并缩小素烧后坯体厚度和形状偏差,减少施釉量,降低生产成本。
[0004] 为了解决上述技术问题,本发明提供了一种釉面砖生产方法,其生产流程是:
[0005] (1)压制成型---(2)坯体素烧---(3)素坯干抛---(4)施釉和图案装饰---(5)釉烧---(6)成品。
[0006] 所述素坯干抛为素坯由输送机构输送,设置于输送机构上方的多组干抛磨头依次对素坯体进行干抛,干抛为非连续多处曲面磨抛,素坯干抛磨头直径大于砖坯宽度尺寸,干抛磨头只做相对坯体表面的旋转与上下运动,不做横向摆动。
[0007] 作为本发明方法的优选实施方式,素坯干抛磨头组数小于等于4组。
[0008] 作为本发明方法的优选实施方式,素坯干抛磨头主轴转速在每分钟1000转以下。
[0009] 作为本发明方法的优选实施方式,素坯干抛去料深度在0.4-1mm范围内。
[0010] 对本发明一种釉面砖生产方法的过程结果分析如下所述:
[0011] 在本发明一种釉面砖生产方法的流程中,粉料在经过(1)压制成型与(2)坯体素烧后,得到了厚度有所差异,表面不平整的素坯体,在经过(3)素坯干抛去除一定厚度后,素坯体表面变得平滑,厚度与形状偏差也得到缩小。进一步,利用低摩擦系数的平滑表面在流程中减少表面施釉量,可降低生产成本。结果,厚度与形状趋于统一的素坯体以(4)施釉和图案装饰后,在(5)釉烧中,由坯体本身差异性与釉坯应力差异性引起的变形变小,以至(6)成品质量得以提升。
[0012] 由于在釉面砖生产流程(4)施釉和图案装饰之前,采取了(3)素坯干抛工艺,素烧后坯体表面将得到平整,坯体的厚度和形状偏差也会进一步缩小,产生以下具体的良好效果和收益:
[0013] 1、通过对素烧后的坯体进行干抛,可以消除素烧产生的落脏及一些表面缺陷,提升最终的产品釉面质量。
[0014] 2、干抛后素坯体表面凸起被去除,得到光滑的坯体表面从而增加釉面在坯体上的流动性,使得釉面更加平整,从而减少釉烧后的釉坑、针孔等釉面缺陷,提升釉面质量。
[0015] 3、通过干抛还可以缩小素烧后坯体的厚度偏差与形状差异,较统一稳定的坯形可以减少施釉量,薄釉层不仅降低了生产成本同时也有利于提高坯釉适应性,提升产品质量。
[0016] 4、釉烧前对素坯坯体进行处理,此时坯体硬度低,消耗电能少且不需要资源,设备简单,噪声污染大大降低。附图说明
[0017] 图1为本发明一种釉面砖生产方法的流程图
[0018] 图中,S101-压制成型,S102-坯体素烧,S103-素坯干抛,S104-施釉和图案装饰,S105-釉烧,S106-成品。

具体实施方式

[0019] 下面结合附图和实施方式对本发明作进一步具体的说明:
[0020] 在图1中,公开了本发明一种釉面砖生产方法,包括如下流程步骤:
[0021] (1)压制成型S101---(2)坯体素烧S102---(3)素坯干抛S103---(4)施釉和图案装饰S104---(5)釉烧S105---(6)成品S106。
[0022] 所述流程(3)素坯干抛S103为素坯由输送机构输送,设置于输送机构上方的多组干抛磨头依次对素坯体进行干抛,干抛为非连续多处曲面磨抛,素坯干抛S103磨头直径大于砖坯宽度尺寸,干抛磨头只做相对坯体表面的旋转与上下运动,不做横向摆动。
[0023] 经过反复的技术分析和操作试验,素坯干抛S103需要去除的厚度有一个适当的范围,选定当素坯干抛S103去料深度在0.4-1mm范围内,施釉量减少10-15g为优先实施例
[0024] 又经过另外的技术分析和操作试验,作为本发明方法的优选实施方式素坯干抛S103磨头组数小于等于4组,同时素坯干抛S103磨头主轴转速在每分钟1000转以下。此时坯体硬度低,消耗电能少且不需要水资源,设备简单,噪声污染大大降低。
[0025] 以上所述是本发明一种釉面砖生产方法的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本方法发明的前提下,还可以做出若干改进,这些也视为本方法发明的保护范围。
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