具有抗静电性能的地板厚涂层

申请号 CN200780011572.8 申请日 2007-04-03 公开(公告)号 CN101410474B 公开(公告)日 2012-07-25
申请人 建筑研究和科技有限公司; 发明人 C·克劳施; 王慧敏; S·桑德; M·希勒; P·卡瓦勒罗;
摘要 一种新型的具有抗静电性能地板厚涂层,其作为抗静电成分含有在离子性液体中的金属盐的溶液。这类地板厚涂层特别适宜用于建筑化学领域和尤其用于 电子 -和电气工业的工业建筑,其由于静电负荷而置于危险中。这种厚涂层可以不超过最高2.0cm的层厚度涂覆,其中在抗静电组分方面以厚涂层配制剂计0.1和30重量%之间的用量。
权利要求

1.具有抗静电性能的地板厚涂层,其特征在于,所述地板厚涂层含有作为抗静电成分的金属盐在离子性液体中的溶液,其中
(A)所述离子性液体由以下组成
(a)至少一种通式(I)的阳离子
1 2 3 4 +
RRRRN(I)
1 2 3 4
其中R、R、R 和R 相同或不同地表示氢、具有1-30个原子的直链或支化的任选地
5 6
含有双键的脂族残基,或根据-(R-O)n-R 嵌段形式地或统计学地构成的聚醚,
其中
5
R 为含有2-4个碳原子的直链或支化的烃残基,
n为1-100,和
6
R 为氢、具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基,
或通式(V)、(VI)、(VII)的至少一种阳离子,
其中R是氢、具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基,具有
5-40个碳原子的环脂族的任选地含有双键的烃残基,具有6-40个碳原子的芳族烃残基或具有7-40个碳原子的烷基芳基残基和
1 2
R 和R 具有前述的含义和
1
X为原子、硫原子或NR,
其中所述通式(V)、(VI)、(VII)的所述阳离子衍生自下组化合物:吡咯烷、二氢吡咯、吡咯、咪唑啉、 唑啉、 唑、噻唑啉、噻唑、异 唑、异噻唑、吲哚、咔唑、哌啶、吡啶、异构的甲基吡啶和二甲基吡啶、喹啉和异喹啉、吡唑,3,5-二甲基吡唑,咪唑,苯并咪唑,N-甲基咪唑,二氢吡唑,吡唑烷,吡嗪,哒嗪,嘧啶,2,3-、2,5-和2,6-二甲基吡嗪,奇莫林,酞嗪,喹唑啉,吩嗪和哌嗪,和
(b)至少一种选自下组的阴离子:卤化物,双(全氟烷基磺酰基)酰胺或者双(全氟烷基磺酰基)亚胺,烷基甲苯磺酸根和芳基甲苯磺酸根,全氟烷基甲苯磺酸根,硝酸根,硫酸根,硫酸氢根,烷基硫酸根和芳基硫酸根,聚醚硫酸根和聚醚磺酸根,全氟烷基硫酸根,磺酸根,烷基磺酸根和芳基磺酸根,全氟烷基磺酸根和全氟芳基磺酸根,烷基羧酸根和芳基羧酸根,全氟烷基羧酸根,高氯酸根,四氯酸根,糖精酸根,化合物二氰胺、硫氰酸盐、异硫氰酸盐、四苯基酸盐、四(五氟苯基)硼酸盐、四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、聚醚磷酸盐和磷酸盐的阴离子,
(B)所述金属盐是以下阴离子的金属盐:双(全氟烷基磺酰基)酰胺或者双(全氟
烷基磺酰基)亚胺、烷基甲苯磺酸根和芳基甲苯磺酸根、全氟烷基甲苯磺酸根、硝酸根、硫酸根、硫酸氢根、烷基硫酸根和芳基硫酸根、聚醚硫酸根和聚醚磺酸根、全氟烷基硫酸根、磺酸根、烷基磺酸根和芳基磺酸根、全氟烷基磺酸根和全氟芳基磺酸根、烷基羧酸根和芳基羧酸根、全氟烷基羧酸根、高氯酸根、四氯铝酸根、糖精酸根,化合物硫氰酸盐、异硫氰酸盐、二氰胺、四苯基硼酸盐、四(五氟苯基)硼酸盐、四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、磷酸盐和聚醚磷酸盐的阴离子。
2.根据权利要求1所述的地板厚涂层,其特征在于,n为2-60。
3.根据权利要求1所述的地板厚涂层,其特征在于,所述双(全氟烷基磺酰基)亚胺为双(三氟甲基磺酰基)亚胺。
4.根据权利要求1所述的地板厚涂层,其特征在于,所述离子性液体由通式(VIII)的阳离子组成
其中
8 9 10 11 12
R、R、R 、R 、R 相同或不同地表示氢、具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基。
5.根据权利要求1所述的地板厚涂层,其特征在于,所述离子性液体含有至少一种选自下组的阳离子:1,3-二烷基咪唑 -、1,2,3-三烷基咪唑 -、1,3-二烷基咪唑 -和
1,2,3-三烷基-咪唑啉 阳离子,和至少一种选自下组的阴离子:卤化物、双(三氟甲基磺酰基)亚胺、全氟烷基甲苯磺酸根、烷基硫酸根和烷基磺酸根、全氟烷基磺酸根和全氟烷基硫酸根、全氟烷基羧酸根、高氯酸根、二氰胺、硫氰酸根、异硫氰酸根、四苯基硼酸根、四(五氟苯基)硼酸根、四氟硼酸根、六氟磷酸根、无环的季铵根。
6.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述离子性液体含有至少一种以改进阳离子的溶解性化合物形式的添加剂,或以络合剂形式的添加剂。
7.根据权利要求6所述的地板厚涂层,其特征在于,所述离子性液体含有冠醚或其穴状配体和/或EDTA。
8.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,至少一种盐溶解于所述离子性液体中,所述盐选自以下阴离子的碱金属盐:双(全氟烷基磺酰基)酰胺或者双(全氟烷基磺酰基)亚胺、烷基甲苯磺酸根和芳基甲苯磺酸根、全氟烷基甲苯磺酸根、硝酸根、硫酸根、硫酸氢根、烷基硫酸根和芳基硫酸根、聚醚硫酸根和聚醚磺酸根、全氟烷基硫酸根、磺酸根、烷基磺酸根和芳基磺酸根、全氟烷基磺酸根和全氟芳基磺酸根、烷基羧酸根和芳基羧酸根、全氟烷基羧酸根、高氯酸根、四氯铝酸根、糖精酸根,化合物硫氰酸盐、异硫氰酸盐、二氰胺、四苯基硼酸盐、四(五氟苯基)硼酸盐、四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、磷酸盐和聚醚磷酸盐的阴离子。
9.根据权利要求8所述的地板厚涂层,其特征在于,所述双(全氟烷基磺酰基)亚胺为双(三氟甲基磺酰基)亚胺。
10.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,涂层基质由至少一种聚酯、环氧树脂、聚酯树脂、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或乙烯基酯组成。
11.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述涂层基质含有填料和/或颜料。
12.根据权利要求11所述的地板厚涂层,其特征在于,所述填料和/或颜料是具有导电性能的填料和/或颜料。
13.根据权利要求11所述的地板厚涂层,其特征在于,所述填料和/或颜料是用赋予其导电性能的组分涂覆的填料和/或颜料。
14.根据权利要求11所述的地板厚涂层,其特征在于,所述填料和/或颜料是碳纤维石墨炭黑、金属氧化物、合金氧化物。
15.根据权利要求11所述的地板厚涂层,其特征在于,所述填料和/或颜料是用碳纤维、石墨、炭黑、金属氧化物、合金氧化物涂覆的填料和/或颜料。
16.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述涂层以0.01和30重量%之间的量含有所述抗静电成分。
17.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述涂层以0.1和20重量%之间的量含有所述抗静电成分。
18.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述涂层具有不超过
2.0cm的层厚度。
19.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述涂层具有不超过
1.0cm的层厚度。
20.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述涂层具有不超过
6mm的层厚度。
21.根据权利要求1-5任一项所述的地板厚涂层,其特征在于,所述涂层具有2和4mm之间的层厚度。
22.根据权利要求1-20任一项所述的地板厚涂层在建筑化学领域中的用途。
23.根据权利要求22所述的用途,其特征在于,所述地板厚涂层用于装配车间和电子工业和电气工业的工业建筑以及由于静电负荷而置于危险的建筑物和应用领域。

说明书全文

具有抗静电性能的地板厚涂层

技术领域

[0001] 本发明的主题是一种具有抗静电性能的地板厚涂层。

背景技术

[0002] 通常涂层材料为电绝缘体,在其上在生产、加工和使用时由此所制备的物品可负载高的表面电荷。
[0003] 静电负荷导致不希望的影响和严重的危险情形,所述危险情形由吸引灰尘,粘附卫生方面顾虑的杂质,通过火花击穿破坏电子元件,生理上不愉快的电击,点燃在容器或管道中的可燃液体(在所述容器或管道中所述液体被搅拌、被灌注、被输送和被储存),直到粉尘爆炸(例如在转注填充有灰尘的大型容器时)而引起。在涂层材料表面上所述不希望的灰尘的静电积聚可在机械负载的作用下导致更快的划伤和因此导致更短的消费物品的使用寿命。
[0004] 因此,存在大的兴趣,即避免所述涂层的静电负荷或将所述静电荷减少到不危险的程度。
[0005] 通常所应用的使引走电荷成为可能和使静电荷最小化的方法是使用抗静电剂,即非离子的或离子的表面活性的化合物和特别是铵盐和金属盐,其中所述抗静电剂主要以外和内抗静电剂的形式使用。
[0006] 将外抗静电剂作为溶液和醇溶液通过喷洒、涂抹或浸渍和随后的空气干燥涂覆到涂层材料的表面上。残余的抗静电的薄膜几乎在所有的表面上是有效的,但具有缺点,即所述薄膜通过摩擦或液体非常容易和无意地再次被除去。
[0007] 与具有从硬化的涂层材料内部后迁移出的(nachmigrierend)抗静电分子的内抗静电剂相反,外抗静电剂由于缺少储存效应而不具有长时间的作用。因此,优选使用内抗静电剂,将其以尽可能纯的形式 或以浓缩的配制剂的形式添加到所述涂层材料中。在所述涂层材料固化后,所述内抗静电剂均匀分布,以便所述内抗静电剂在最终形成的硬化的层中到处发挥它们的作用且不仅存在于对空气的界面上。
[0008] 根据当今的,通过试验证明的介绍,所述分子由于其有限制的不相容性持续地迁移到涂层材料的表面并负载在那里,或者代替损失的部分。疏水的部分残留在涂层中,亲水的部分与在大气中存在的水结合并形成导电层,其可将已经处在数十或数百伏特且还未处在危险的数千伏特的电荷引到大气中。以这种方式保证在较长的时间段内在所述表面上存在有效量的抗静电剂。
[0009] 但迁移率(扩散速度)在这方面是关键的因素:
[0010] 如果迁移率过高,则可形成低能量的(例如晶体)结构,其丧失结合湿气的能,并由此明显地降低抗静电效果并在表面上产生不希望的滑膜(Schmierfilme),所述滑膜具有所有与之相关的美学的和加工技术的缺点,而且还危害有效性。
[0011] 如果所述迁移率过低,则没有或在符合实际的恰当时间内没有达到足够的效果。 [0012] 因此,已经使用由快迁移性和慢迁移性的抗静电剂构成的组合,从而在足够快的初始效果的情况下也达到数周和数月的持续的长时间的效果。
[0013] 典型的、硬化的涂层材料具有在1014至1011欧姆的范围内的表面电阻,并因此可形成不超过15.000伏特的电压。因此,有效的抗静电剂应能够将涂层材料的表面电阻降低到10
10 欧姆。
[0014] 此外还要考虑的是,抗静电剂可影响所述硬化的涂层材料的物理的和技术的性能,例如表面轮廓、基材可润湿性、基材粘附性、密封能力和热稳定性。为了将影响降低到最小程度,因此所述抗静电剂应在低的浓度下已经起效。典型的当今使用的抗静电剂的用量为0.01-3重量%,以涂层物质的总量计。
[0015] 金属盐是已知的和有效的抗静电剂。但它们具有缺点,即为了均匀地分布在涂层物质中必须在应用前将它们溶解。通常地溶剂是醇、 醚、酯、聚醚、环醚、环酯、酰胺、环酰胺、芳族化合物或完全一般的有机溶剂
[0016] 但溶解性有时是非常低的,以致于为了足够有效的使用浓度必须使用大量的溶剂。
[0017] 只要抗静电剂配制剂在透明的涂层材料中使用,所述配制剂具有缺点,即所述配制剂可消极地影响最终产物的光学性能。
[0018] 在反应性的多组分系统中,例如在制备反应性的聚酯涂层时,溶剂的或者其它抗静电剂配制剂成分的任选存在的反应性基团可不希望地参与反应并因此特别是改变最终产物的物理性能。因此,在实践中将所述金属盐优选地在所述配制剂成分的一种中溶解,在聚氨酯的情况下所述成分通常是醇组分,即在二元或多元醇中溶解,其此后与异氰酸酯组分反应生成聚合物基体。由于可使用的多元醇繁多,则必须随后提供相应繁多的溶液。因此经常将所述抗静电剂/金属盐在溶剂中溶解,所述溶剂为整个配制剂的成分,例如乙二醇、丙二醇或其它的反应性有机溶剂。在此缺点是,即通常这些配制剂组分的部分,其不仅作为反应性成分在聚氨酯配制剂中使用,而且或者附加地或者也仅作为溶剂在所述抗静电配制剂中使用,在聚氨酯配制剂中总量上不允许比未添加抗静电配制剂的情况更高,以使物理性能尽可能不改变。
[0019] 已经尝试提供用于金属盐的溶剂,其是普遍地可使用的且具有对于多数金属盐的高溶解能力。此外所述溶剂应相对反应组分是尽可能惰性的,或所述溶剂是所述配制剂的组分并且不具有在最终产物的物理性能方面的消极影响。该新型溶剂应该附加地具有针对金属盐的改进的溶剂特性,其中由溶剂和金属盐生成的溶液在涂层材料中应具有更良好的抗静电性能。
[0020] 为了这个目的使用特定的离子性液体,其与上述的二元和多元醇和常用的有机溶剂相比,对于许多金属盐是更良好的溶剂。用于制备有效的抗静电剂配制剂,应该需要明显更少量的溶剂,以便引入有效量的金属盐用于改进涂层材料的导电性(WO 2008/006422)。在该文中虽然在先描述了离子性液体作为金属盐的溶剂的用途,但其中
[0021] 可向这种混合物中附加地添加有机溶剂或分散剂,以尽可能调节出高的导电盐的含量。在先所描述的也是,所述的体系在涂层材料、印刷油墨和/或印刷漆料中使用。然而,与此相关地所提到的涂层材料仅是低粘性的体系,其在薄层中大多以染料或漆料的形式施用。既未在说明书中也未在实施例中给出暗示,即这类抗静电剂-体系也用于厚涂层中,其具有根本上不同的构造且还用于具有不同要求的其它应用领域中。
[0022] 电导出性地板必须能够将静电负荷有目的地导出,因此通常使用特殊的体系构造,其主要成分除了底漆外为高导电性导电漆和电通导性的( )覆盖涂层。所述要求的电通导性主要通过使用纤维来实现。最后,所述导电漆必须接地。 [0023] 所谓的ESD-地板是这样设计的,尽可能避免和特定地导出静电负荷。该功能的可检测性除了传统的电极测量外额外地通过测量人体电负荷(身体电压产生)、人体电导出性,借助人//地板/地面的系统测量,以及通过时间上有限的人体放电过程(衰减时间)进行。对此有关的标准为例如:CEI IEC 61340-5-1、IEC 61340-4-1以及IEC61340-4-5。
这种ESD-地板是如所述的电导出性体系那样构造的,此外还设有至少一层薄层的表面导电的密封层。额外的表面导电的覆盖涂层的使用也是可能的,其中在这种情况下通过使用导电性填料和颜料调节所述表面导电性。但这种体系通常是非常昂贵的。此外,所述涂层的层厚可接受性是非常受限的,且其中也使用的季铵化合物是不够有效的。
[0024] 不同的粘合剂体系作为聚合物基体不仅用于电导出性地板而且用于所述ESD-地板。最常用的是胺-固化的环树脂,芳族的和脂肪族的聚氨酯体系,自由基交联的甲基丙烯酸酯(PMMA-地板)以及乙烯基酯。为了达到所希望的ESD-性能,促使应用成本提高,其中一般必须涂覆昂贵的覆盖层
[0025] 由所描绘的现有技术的缺点提出了对于本发明的任务,即提供具有抗静电性能的地板厚涂层。这应该在不使用额外的密封剂的情况下 完成,在没有所述作为不利因素已知的层厚敏感性情况下,且当然地在经济上有利的条件下,其中特别是应该使用便宜的原材料。
[0026] 该任务通过一种地板厚涂层解决,其作为抗静电组分含有在离子性液体中的金属盐溶液。
[0027] 令人惊奇的是已经得出,用这种体系可以完全满足所述任务的需要,其中可以特别是完全地避免取决于在每种情况下选择的层厚的分散性电导出性值。此外,以往伴随增加的层厚而出现的增加的导电空穴部分(“死点”)没有出现。因此可以用本发明的地板厚涂层避免以往不利的层厚敏感性。此外不期望的是,所建议的地板厚涂层可以同时地在仅仅单一的层中不仅满足电导出性的要求而且满足ESD-体系的要求。以这样的方式是可能的,以相对廉价的方法制备地板厚涂层,其不再负载静电荷,其中还可能的是,取决于各应用领域将本发明实质的抗静电组分与另外的导电性的组分组合,以调节涂层产物的性能。这特别是在电子工业中是有利的,因为在该特殊的应用领域中至今仅仅可使用薄层体系,其除了只能非常昂贵地实现外,还在其耐久性方面明显是不利的。
[0028] 本发明的涂层体系基于离子性液体作为溶剂(兼容剂)用于金属盐(导电盐),特别是碱金属盐的用途,其中可向这样的混合物中添加另外的有机溶剂或分散剂,以尽可能地调节出高的导电盐含量。
[0029] 离子性液体(“ionic liquids”)是指一般在低温下(<100℃)下熔化的盐,其是具有非分子的、离子的特征的新型液体种类。与传统的盐熔液不同,所述盐熔液是高熔点的、高粘性的和非常腐蚀性的介质,离子性液体在低温下已经是液态的且相对低粘性的(K.R.Seddon,J.Chem.Technol.Biotechnol.1997,68,351-356)。
[0030] 离子性液体大多由阴离子例如卤化物、羧酸根、磷酸根、硫氰酸根、异硫氰酸根、二氰胺、硫酸根、烷基硫酸根、磺酸根、烷基磺酸根、四氟酸根、六氟-磷酸根或还有双(三氟甲基磺酰基)亚胺与例如经取代的铵-、磷鎓-、吡啶鎓-或咪唑鎓-阳离子结合,其中前述的阴离子和阳离子是从庞大数目的可能的阴离子和阳离子中的小 选择,因此应该没有提出全面的要求或甚至做出限定。
[0031] 在离子性液体方面由本发明可以共同包括一种变化方案,其中这种离子性液体为了改进阳离子的溶解性而含有添加剂,其也可作为络合剂起作用。与此相关地特别是考虑冠醚或其穴状配体和有机的络合剂,例如EDTA。从可以考虑的一系列冠醚中证明这些是适宜的,其具有4和10之间的氧值。同样可以考虑的冠醚的特别形式,即所述所谓的穴状配体,是特别对于选择性的具有碱金属离子或碱土金属离子的络合剂是适宜的。
[0032] 根据本发明所共同使用的离子性液体由至少一种季铵化合物和/或季鏻化合物和至少一种阴离子组成,且其熔点在约+250℃以下,优选在约+150℃以下,特别是在约+100℃以下。所述离子性液体和溶剂的混合物在室温下是液态的。
[0033] 所述在本发明的地板厚涂层中优选使用的离子性液体由至少一种通式的阳离子组成:
[0034] R1R2R3R4N+ (I)
[0035] R1R2N+=CR3R4 (II)
[0036] R1R2R3R4P+ (III)
[0037] R1R2P+=CR3R4 (IV)
[0038] 其中R1、R2、R3、R4相同或不同地表示氢、具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族残基、具有5-40个碳原子的任选地含有双键的环脂族烃残基、具有6-40个碳原子的芳族烃残基、具有7-40个碳原子的烷基芳基残基、具有2-30个碳原子的通过一个或多个杂原子(氧、NH、NR′,其中R′为任选地含有双键的C1-C30-烷基残基,特别是-CH3)中断的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基、具有2-30个碳原子的通过一个或多个选自下组的官能团:-O-C(O)-、-(O)C-O-、-NH-C(O)-、-(O)C-NH、-(CH3)N-C(O)-、-(O)C-N(CH3)-、-S(O2)-O-、-O-S(O2)-、-S(O2)-NH-、-NH-S(O2)-、-S(O2)-N(CH3)-、-N(CH3)-S(O2)-中断的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基、具有1-30个碳原子的末端OH、OR′、NH2、N(H)R′、 N(R′)2(R′为任选地含有双键的C1-C30-烷基残基)官能化的5 6
直链或支化的任选地含有双键的脂族或环脂族烃残基或根据-(R-O)n-R 嵌段形式地或统
5
计学地构成的聚醚,其中R 为含有2-4个碳原子的直链或支化的烃残基,n为1-100,优选
6
2-60,且R 为氢、具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基、具有
5-40个碳原子的任选地含有双键的环脂族烃残基、具有6-40个碳原子的芳族烃残基、具有
7 7
7-40个碳原子的烷基芳基残基或残基-C(O)-R,其中R 是具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基,是具有5-40个碳原子的任选地含有双键的环脂族烃残基,是具有6-40个碳原子的芳族烃残基、是具有7-40个碳原子的烷基芳基残基。 [0039] 作为阳离子将其它的离子考虑在内,所述离子衍生自饱和或不饱和的环状化合物以及衍生自具有每种情况下在4-10,优选5-6元杂环芳族的化合物中的至少一个三价的氮原子的芳族化合物,所述杂环任选地是可以经取代的。这样的阳离子通过下列的通式(V)、(VI)和(VII)而得到简化地描述(即,未说明分子中双键的准确位置和数目),其中所述杂环可任选地还含有更多的杂原子。
[0040]1 2
[0041] R 和R 在此具有前述的含义,R是氢、具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基,具有5-40个碳原子的环脂族的任选地含有双键的烃残基,具有6-40个碳原子的芳族烃残基或具有7-40个碳原子的烷基芳基残基。
[0042] 所述环状的通式(V)、(VI)和(VII)的氮化合物可以是不饱和的(R=H),通过R残基单重或多重取代,其中在通过R的多重取代的情况下,单个的残基R可以是不同的;X1
是氧原子、硫原子或经取代的氮原子(X=O、S、NR)。
[0043] 前述种类的环状的氮化合物的实例是吡咯烷、二氢吡咯、吡咯、咪唑啉、噁唑啉、噁唑、噻唑啉、噻唑、异噁唑、异噻唑、吲哚、咔唑、哌啶、吡啶、异构的甲基吡啶和二甲基吡啶、喹啉和异喹啉。
[0044] 作为阳离子进一步考虑这样的离子,即衍生自饱和的无环的、饱和或不饱和的环状的化合物的离子,以及衍生自具有每种情况下在4-10,优选5-6元杂环中的多于一个三价氮原子的芳族化合物的离子。所述化合物可以或者在碳原子上或者在氮原子上被取代。此外,它们可以通过任选地经取代的苯环和/或环己烷环在形成多核结构的情况下成环。
这样的化合物的实例是吡唑,3,5-二甲基吡唑,咪唑,苯并咪唑,N-甲基咪唑,二氢吡唑,吡唑烷,吡嗪,哒嗪,嘧啶,2,3-、2,5-和2,6-二甲基吡嗪,奇莫林,酞嗪,喹唑啉,吩嗪和哌嗪。
特别是衍生自咪唑及其烷基-和苯基衍生物的通式(VIII)的阳离子已证明其适用于离子性液体的组分。
[0045] 此外,优选的阳离子是那些含有两个氮原子且通过通式(VIII)所描述的 [0046]8 9 10 11 12
[0047] 其中R、R、R 、R 、R 相同或不同地表示氢、具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基、具有5-40个碳原子的环脂族的任选地含有双键的烃残基、具有6-40个碳原子的芳族烃残基、具有7-40个碳原子的烷基芳基残基、具有1-30个碳原子的通过一个或多个杂原子(O、NH、NR′,其中R′为任选地含有双键的C1-C30-烷基残基)中断的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基、具有1-30个碳原子的通过一个或多个选自下组的官能团-O-C(O)-、-(O)C-O-、-NH-C(O)-、-(O)C-NH、-(CH3)N-C(O)-、-(O)C-N(CH3)-、-S(O2)-O-、-O-S(O2)-、-S(O2)-NH-、-NH-S(O2)-、 -S(O2)-N(CH3)-、-N(CH3)-S(O2)-中断的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基、具有1-30个碳原子的末端OH、OR′、NH2、N(H)R′、N(R′)2(R′为任选地含有双键的C1-C30-烷基残基)官能化的直链或支化的任5 6
选地含有双键的脂族或环脂族烃残基或嵌段形式地或统计学地构成的由-(R-O)n-R 构成
5 6
的聚醚,其中R 为含有2-4个碳原子的直链或支化的烃残基,n为1-100,且R 为氢、具有
1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基、具有5-40个碳原子的环脂族的任选地含有双键的烃残基、具有6-40个碳原子的芳族烃残基、具有7-40个碳原子的烷
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基芳基残基或为残基-C(O)-R,其中R 是具有1-30个碳原子的直链或支化的任选地含有双键的脂族烃残基,是具有5-40个碳原子的任选地含有双键的环脂族烃残基,是具有6-40个碳原子的芳族烃残基、是具有7-40个碳原子的烷基芳基残基。
[0048] 本发明的在地板厚涂层中含有的离子性液体由至少一种前述阳离子组成,在每种情况下与至少一种阴离子结合。优选的阴离子选自下组:卤化物、双(全氟烷基磺酰基)酰胺或者-亚胺例如双(三氟甲基磺酰基)亚胺、烷基-和芳基甲苯磺酸根、全氟烷基甲苯磺酸根、硝酸根、硫酸根、硫酸氢根、烷基-和芳基硫酸根、聚醚硫酸根和-磺酸根、全氟烷基硫酸根、磺酸根、烷基-和芳基磺酸根、全氟烷基-和芳基磺酸根、烷基-和芳基羧酸根、全氟烷基羧酸根、高氯酸根、四氯酸根、糖精酸根(Saccharinat)。此外,二氰胺、硫氰酸盐、异硫氰酸盐、四苯基硼酸盐、四(五氟苯基)硼酸盐、四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、聚醚磷酸盐和磷酸盐的阴离子同样被看作优选的。
[0049] 决定性的是,在备用的混合物中,其根据本发明作为静电剂包含于地板厚涂层中,组分(离子性液体+导电盐+溶剂)以足够的量存在,以便所述混合物含有尽可能高的导电盐的含量,并且优选在<100℃下,特别优选在室温下是流动的。
[0050] 根据本发明优选的是这样的地板厚涂层,即作为离子性液体或其混合物含有这样的组合,即其中阳离子出自下列:1,3-二烷基咪唑鎓-、1,2,3-三烷基咪唑鎓-、1,3-二烷基咪唑啉鎓-和1,2,3-三烷基-咪唑 啉鎓阳离子,且其中阴离子选自下组卤化物、双(三氟甲基磺酰基)亚胺、全氟烷基甲苯磺酸根、烷基硫酸根和-磺酸根、全氟烷基磺酸根和-硫酸根、全氟烷基羧酸根、高氯酸根、二氰胺、硫氰酸根、异硫氰酸根、四苯基硼酸根、四(五氟苯基)硼酸根、四氟硼酸根、六氟磷酸根。此外,还可以使用简单的,商购可得的,无环的季铵盐例如 IL T16ES、 IL K5MS或还有Rezol Heqams(GoldschmidtGmbH的产品)。
[0051] 通常用混合物,其由离子性液体与碱金属盐在1:10-10:1范围内的混合比例组成,获得表面电阻的明显下降。在这些混合物中应含有具有0.1-75重量%的含量,优选具有0.5-50重量%的含量,特别优选具有5-30重量%的含量的碱金属盐。
[0052] 根据本发明在地板厚涂层中所使用的盐是在本领域中通常使用的简单的或复杂的化合物、例如特别是以下阴离子的碱金属盐:双(全氟烷基磺酰基)酰胺或者-亚胺例如双(三氟甲基磺酰基)亚胺、烷基-和芳基甲苯磺酸根、全氟烷基甲苯磺酸根、硝酸根、硫酸根、硫酸氢根、烷基-和芳基硫酸根、聚醚硫酸根和-磺酸根、全氟烷基硫酸根、磺酸根、烷基-和芳基磺酸根、全氟烷基和芳基磺酸根、烷基-和芳基羧酸根、全氟烷基羧酸根、高氯酸根、四氯铝酸根、糖精酸根,优选化合物硫氰酸盐、异硫氰酸盐、二氢胺、四苯基硼酸盐、四(五氟苯基)硼酸盐、四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、磷酸盐和聚醚磷酸盐的阴离子。 [0053] 优选的混合物为特别是那些,其作为碱金属盐NaSCN或者NaN(CN)2和KPF6和咪唑啉鎓-或者咪唑鎓盐,优选1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙基硫酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐和作为离子性液体的1-乙基-3-甲基咪唑鎓甲基硫酸盐/NaN(CN)2或1-乙基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐/NaN(CN)2。
[0054] 本发明预设变化方案,其中要求保护的地板厚涂层的涂层基质由至少一种聚氨酯、环氧树脂、聚酯树脂、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或乙烯基酯组成。此外,本发明预设所述地板厚涂层的涂层基体含有填 料和/或颜料,其优选具有导电性能的填料和/或颜料。在此特别考虑的是碳纤维例如基于PAN、沥青和人造丝,石墨炭黑,金属氧化物,金属合金氧化物的碳纤维。同样适宜的是,用赋予其导电性能的组分涂覆的填料和颜料。在这些情况下石磨、炭黑和金属氧化物或者金属合金氧化物也是特别适宜的。
[0055] 要求保护的地板厚涂层不限定到特定的配制剂,该配制剂含有在经定义的化合物中的抗静电组分。然而推荐,所述抗静电成分以地板厚涂层的量计混合,在0.01和30重量%之间和优选0.1和20重量%之间。
[0056] 相应于它们作为地板厚涂层的称谓,要求保护的体系应具有特别优选为2-4mm的层厚度。通常新地板厚涂层的层厚度具有0.2cm的下限,其中上限不超过2.0cm,优选不超过1.0cm和特别优选不超过6mm同样视作是适宜的。
[0057] 针对轻微至中等机械要求的硬度范围通常在65-80 Shore D之间。用于可行走表面的最低硬度为Shore A 75。
[0058] 除了地板厚涂层本身,本发明还包括其在建筑化学领域中和特别是用于装配车间和电子-和电气工业的工业建筑的用途。此外要求保护的地板厚涂层适用于建筑物和完全一般性地适用于由于静电负荷而与危险相关和其因此也要求特别的爆炸保护的应用领域。 [0059] 总之所述的厚涂层的特征在于,其不再负载静电荷,其中所述厚涂层特别是通过在其中含有的添加剂与另外的导电性组分的恰到好处的组合而恰好地适合于各自的应用目的。由于特定的内容物,所述的地板厚涂层可廉价地制备且在应用领域中是可使用的,对于这些领域至今只有薄层的漆显得是适宜的。
[0060] 下面的实施例阐明了本发明的优点。

具体实施方式

[0061] 实施例
[0062] 在本发明的配方4和5中使用以下组合的抗静电剂:
[0063] 由离子性液体、导电盐和有机溶剂组成的增效混合物借助磁力搅拌器制备。对于抗静电剂1将组分乙基-双(聚乙氧基乙醇)-油烷基铵乙基硫酸盐 IL T 16ES)作为离子性液体等摩尔地与作为导电盐的硫氰酸混合。作为抗静电剂2使用等摩尔的由作为离子性液体的1,3-二甲基咪唑鎓甲基硫酸盐与作为导电盐的锂-双(三氟甲基磺酰基)亚胺组成的混合物。
[0064] 环氧树脂-组分量基于2,2-双(4-羟苯基)丙烷(双酚-A)的缩水甘油聚醚。乙基三甘醇甲基丙烯酸酯(ETMA)用作活性稀释剂。
[0065] 配方1(对比)
[0066] 环氧树脂 - 37重量份
[0067] 活性稀释剂 - 5重量份
[0068] 苄醇 - 7.3重量份
[0069] 白垩/SiO2(填料) - 49重量份
[0070] Tego Airex 940 - 1.5重量份
[0071] (排气剂/消泡剂)
[0072] 碳纤维 - 0.2重量份
[0073] 抗静电剂 - 无
[0074] 配方2(对比)
[0075] 环氧树脂 - 37重量份
[0076] 活性稀释剂 - 5重量份
[0077] 苄醇 - 5.5重量份
[0078] 白垩/SiO2(填料) - 34重量份
[0079] Tego Airex940 - 1.5重量份
[0080] (排气剂/消泡剂)
[0081] 碳纤维 - 无
[0082] 导电性填料 - 15重量份
[0083] 抗静电剂 - 无
[0084] 配方3(对比)
[0085] 环氧树脂 - 37重量份
[0086] 活性稀释剂 - 5重量份
[0087] 苄醇 - 5.5重量份
[0088] 白垩/SiO2(填料) - 34重量份
[0089] Tego Airex940 - 1.5重量份
[0090] (排气剂/消泡剂)
[0091] 碳纤维 - 0.2重量份
[0092] 导电性填料 - 15重量份
[0093] 抗静电剂 - 无
[0094] 配方4
[0095] 环氧树脂 - 37重量份
[0096] 活性稀释剂 - 5重量份
[0097] 苄醇 - 5.3重量份
[0098] 白垩/SiO2(填料) - 49重量份
[0099] Tego Airex940 - 1.5重量份
[0100] (排气剂/消泡剂)
[0101] 碳纤维 - 0.2重量份
[0102] 抗静电剂1 - 2重量份
[0103] 配方5
[0104] 环氧树脂 - 37重量份
[0105] 活性稀释剂 - 5重量份
[0106] 苄醇 - 5.5重量份
[0107] 白垩/SiO2(排气剂) - 49重量份
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