高デンプン軽量石膏ウォールボード

本発明は、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤を含む石膏スラリーの作製方法、並びにその石膏スラリーから作製される製品に関する。本発明はまた、製品の作製に用いられるスラリー中でナフタレンスルホネート分散剤をα化デンプンと組み合わせて用いて、ウォールボードを始めとする石膏含有製品の乾燥強度を増加させる方法に関する。

石膏(硫酸カルシウム二水和物)は、そのある種の特性により、石膏ウォールボード等の工業製品及び建材の作製において極めて一般的に使用されるようになっている。石膏は、豊富で一般に安価な原材料であり、脱水及び再水和の過程を通じて、鋳造、成型又は他の方法で有用な形状に形成することができる。石膏ウォールボード及び他の石膏製品を製造するためのベース材料は、一般に「スタッコ」と呼ばれる硫酸カルシウム半水和物(CaSO₄・1/2H₂O)であり、これは、硫酸カルシウム二水和物(CaSO₄・2H₂O)を熱変換し、1〜1/2の水分子を除去するによって生産される。

石膏ウォールボード等の従来の石膏含有製品は、低価格、加工容易性等の多くの利点を有するが、製品を切断又は穴あけする際、相当な量の石膏粉が発生する可能性がある。スラリーの成分としてデンプンを用いる石膏含有製品作製において、様々な改善が実現されている。デンプンは、石膏ウォールボードを始めとする石膏含有製品の曲げ強度及び圧縮強度を増加させることができる。既知の石膏ウォールボードは、約10lbs/MSF未満の濃度で食用デンプンを含む。

スラリーの適切な流動性を確保するために、α化デンプンを含む石膏スラリー中には相当な量の水を用いる必要がある。残念ながら、この水のほとんどは最終的に加熱によって追い出す必要があるが、これは、加熱プロセスに用いられる燃料の高い価格のために費用がかかる。加熱工程は時間もかかる。ナフタレンスルホネート分散剤の使用により、スラリーの流動性を増加させることができ、その結果、水所要量の問題が克服されることが判明した。さらに、ナフタレンスルホネート分散剤は、使用濃度が十分に高いと、乾燥後、α化デンプンと架橋結合して、石膏結晶を結合させることができ、その結果、石膏混合物の乾燥強度を増加させることが判明した。従来、トリメタリン酸塩は、石膏スラリーの水の所要量に影響するものとは認識されていなかった。しかし、本発明者らは、特定の分散剤の存在下で、トリメタリン酸塩の濃度を、これまで知られていなかった濃度まで増加させることにより、高濃度のデンプンの存在下でも、水の量が予想外に低減した状態で、スラリーの適切な流動性が実現可能になることを見出した。これはもちろん、次の水の除去工程に関わる燃料使用量及びプロセス所要時間を低減させる点で非常に望ましい。本発明者らはまた、ウォールボードの作製に用いられるスラリー中でナフタレンスルホネート分散剤をα化デンプンと組み合わせて用いることによって、石膏ボードの乾燥強度を増加させることができることを見出した。

本発明は、スタッコ、ナフタレンスルホネート分散剤及びα化デンプンを含むスラリーを包含する。ナフタレンスルホネート分散剤は、乾燥スタッコの重量に対して約0.1重量%〜3.0重量%の量で存在する。α化デンプンは、配合物中の乾燥スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で存在する。スラリーの他の添加剤としては、促進剤、結合剤、紙繊維又はガラス繊維、及び他の既知の成分を挙げることができる。本発明はまた、このようなスラリーで作製される石膏含有製品を包含する。

本発明はまた、スタッコ、トリメタリン酸塩、ナフタレンスルホネート分散剤及びα化デンプンを含むスラリーを包含する。トリメタリン酸ナトリウムは、スタッコの重量に対して少なくとも約0.12重量%の量で存在する。好ましい実施形態では、トリメタリン酸塩は、乾燥スタッコの重量に対して約0.12〜0.4重量%の量で存在する。ナフタレンスルホネート分散剤は、乾燥スタッコの重量に対して約0.1重量%〜3.0重量%の量で存在する。α化デンプンは、配合物中の乾燥スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で存在する。スラリーの他の添加剤としては、促進剤、結合剤、紙繊維又はガラス繊維、及び他の既知の成分を挙げることができる。本発明はまた、このようなスラリーで作製される石膏含有製品を包含する。

好ましい石膏含有製品は、石膏ウォールボードである。この実施形態では、本発明は、2枚の実質的に平行なカバーシートの間に形成された硬化石膏組成物を含む石膏ウォールボードを構成し、この硬化石膏組成物は、水、スタッコ、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤の石膏含有スラリーを用いて作製される。この石膏含有スラリーは、場合により、トリメタリン酸塩(例えば、トリメタリン酸ナトリウム)を含むことができる。本発明に従って作製されるこの石膏ウォールボードは、従来のボードよりもはるかに軽い重量にも関わらず、高強度を有する。さらに、この実施形態に従って作製されるウォールボードは、切断したり、鋸引きしたり、折ったり、穴あけしたりする際に発生する粉がはるかに少ない。

別の実施形態では、本発明は、水、スタッコ、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤を含む石膏含有スラリーを混合することによって、石膏ウォールボードを作製する方法を構成し、α化デンプンは、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10%の量で存在する。得られる石膏含有スラリーを第1の紙のカバーシート上に堆積し、堆積したスラリーの上に第2の紙のカバーシートを配置することによって、石膏ウォールボードが形成される。この石膏ウォールボードは、石膏含有スラリーが切断に十分な程度に硬化した後、切断し、得られる石膏ウォールボードは乾燥する。石膏含有スラリーは、場合により、トリメタリン酸塩(例えば、トリメタリン酸ナトリウム)を含むことができる。必要に応じて、他の従来の成分(促進剤、結合剤、紙繊維、ガラス繊維等)をスラリー中に用いる。通常、最終の石膏ウォールボード製品の密度を低減させるために、セッケン泡を加える。

本発明の一実施形態によれば、スタッコ、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤を含む石膏含有スラリーから作製される、完成した石膏含有製品が提供される。ナフタレンスルホネート分散剤は、乾燥スタッコの重量に対して約0.1重量%〜3.0重量%の量で存在する。α化デンプンは、配合物中の乾燥スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で存在する。スラリー中に用いることのできる他の成分としては、結合剤、紙繊維、ガラス繊維及び促進剤が挙げられる。通常、最終の石膏含有製品(例えば、石膏ウォールボード)の密度を低減させるために、セッケン泡を、新規の配合の石膏含有スラリーに加える。

場合により、約0.5重量%〜約10%のα化デンプン、約0.1重量%〜約3.0重量%のナフタレンスルホネート分散剤及び約0.12重量%〜約0.4重量%のトリメタリン酸塩(すべて、石膏スラリー中に用いられる乾燥スタッコの重量を基準とする。)の組合せは、石膏スラリーの流動性を予想外に顕著に増加させる。これは、石膏ウォールボード等の石膏含有製品の作製に用いられる、十分な流動性を有する石膏スラリーを生成するのに必要な水の量をかなり低減させる。標準的な配合物の濃度の少なくとも約2倍(トリメタリン酸ナトリウムに換算)のトリメタリン酸塩の濃度により、ナフタレンスルホネート分散剤の分散活性が増強されると考えられる。

本発明に用いられるナフタレンスルホネート分散剤としては、ポリナフタレンスルホン酸及びその塩(ポリナフタレンスルホネート)、並びにナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドとの縮合生成物である誘導体が挙げられる。特に、望ましいポリナフタレンスルホネートとしては、ナフタレンスルホン酸ナトリウム及びナフタレンスルホン酸カルシウムが挙げられる。ナフタレンスルホネートの平均分子量は、約3000〜27000で変動し得るが、約8000〜10000の分子量が好ましい。所与の固体%の水溶液において、より高い分子量の分散剤は、より低い分子量の分散剤と比較して、より高い粘性を有し、配合物中の水の所要量をより多くする。有用なナフタレンスルホネートとしては、DILOFLO(GEO Specialty Chemicals(Cleveland、Ohio)から入手可能)、DAXAD(Hampshire Chemical Corp.(Lexington、Massachusetts)から入手可能)、及びLOMAR D(GEO Specialty Chemicals(Lafayette、Indiana)から入手可能)が挙げられる。ナフタレンスルホネートは、例えば、35〜55重量%の固体含有量の範囲で、水溶液として用いることが好ましい。ナフタレンスルホネートは、例えば、40〜45重量%の固体含有量の範囲で、水溶液の形態で用いることが最も好ましい。或いは、必要に応じて、ナフタレンスルホネートは、例えばLOMAR Dのように、乾燥固体又は粉末形態で用いることができる。

本発明に有用なポリナフタレンスルホネートは、下記一般構造(I)を有する。

[式中、n>2であり、Mは、ナトリウム、カリウム、カルシウム等である。]

ナフタレンスルホネート分散剤は、好ましくは、約45重量%の水溶液として、石膏混合配合物中に用いられる乾燥スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約3.0重量%の範囲で用いることができる。ナフタレンスルホネート分散剤のより好ましい範囲は、乾燥スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約2.0重量%であり、最も好ましい範囲は、乾燥スタッコの重量に対して約0.7重量%〜約2.0重量%である。対照的に、既知の石膏ウォールボードは、乾燥スタッコの重量に対して約0.4重量%以下の濃度でこの分散剤を含む。

言い換えると、ナフタレンスルホネート分散剤は、乾燥重量ベースで、石膏混合配合物中に用いられる乾燥スタッコの重量に対して約0.1重量%〜約1.5重量%の範囲で用いることができる。ナフタレンスルホネート分散剤のより好ましい範囲は、乾燥固体ベースで、乾燥スタッコの重量に対して約0.25重量%〜約0.7重量%であり、最も好ましい範囲(乾燥固体ベース)は、乾燥スタッコの重量に対して約0.3重量%〜約0.7重量%である。

石膏含有スラリーは、場合により、トリメタリン酸塩(例えば、トリメタリン酸ナトリウム)を含むことができる。任意の適当な水溶性のメタホスフェート又はポリホスフェートを、本発明に従って用いることができる。複塩(すなわち2種の陽イオンを有するトリメタリン酸塩)を始めとするトリメタリン酸塩を用いることが好ましい。特に有用なトリメタリン酸塩としては、トリメタリン酸ナトリウム、トリメタリン酸カリウム、トリメタリン酸カルシウム、トリメタリン酸ナトリウムカルシウム、トリメタリン酸リチウム、トリメタリン酸アンモニウム等、又はそれらの組合せが挙げられる。好ましいトリメタリン酸塩は、トリメタリン酸ナトリウムである。トリメタリン酸塩は、例えば、約10〜15重量%の固体含有量の範囲で、水溶液として用いることが好ましい。Yuらの米国特許第6409825号(参照されることにより本明細書に組み込まれる。)に記載されているように、他の環式又は非環式ポリホスフェートを用いることもできる。

トリメタリン酸ナトリウムは、石膏含有組成物の既知の添加剤であるが、一般に、石膏スラリー中に用いられる乾燥スタッコの重量に対して約0.05重量%〜約0.08重量%の範囲で用いられる。本発明の実施形態では、トリメタリン酸ナトリウム(又は他の水溶性メタホスフェート若しくはポリホスフェート)は、石膏混合配合物中に用いられる乾燥スタッコの重量に対して約0.12重量%〜約0.4重量%の範囲で存在し得る。トリメタリン酸ナトリウム(又は他の水溶性メタホスフェート若しくはポリホスフェート)の好ましい範囲は、石膏混合配合物中に用いられる乾燥スタッコの重量に対して約0.12重量%〜約0.3重量%である。

α型及びβ型の2種の形態のスタッコが存在する。これらの2種のスタッコは、異なる焼成方法によって生成される。本発明においては、β型又はα型のスタッコのいずれも用いることができる。

本発明で調製される石膏含有スラリーには、デンプン、特にα化デンプンを用いる。好ましいα化デンプンは、α化コーンスターチ、例えば、Bunge Milling(St.Louis、Missouri)から入手可能なα化コーンフラワーであり、次の典型的な分析結果を有する。水分:7.5%;タンパク質:8.0%;油:0.5%;粗繊維:0.5%;灰分:0.3%;生強度:0.48psi;疎充填かさ密度:35.0lb/ft³。α化コーンスターチは、石膏含有スラリー中に用いられる乾燥スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で用いるのが好ましい。

本発明者らはさらに、約0.1重量%〜約3.0重量%のナフタレンスルホネート分散剤の存在下で、約0.5重量%〜約10重量%のα化デンプン(好ましくはα化コーンスターチ)(デンプン及びナフタレンスルホネートの濃度は、配合物中に存在する乾燥スタッコの重量を基準とする。)を用いることによって、(特にウォールボードにおいて)乾燥強度の予想外の増加が可能となることを見出した。この予想外の結果は、水溶性のメタホスフェート又はポリホスフェートが存在しても、存在しなくても得ることができる。

さらに、意外なことに、本発明に従って作製される乾燥した石膏ウォールボードにおいて、少なくとも約10lb/MSFの濃度でα化デンプンを用いることができ、その場合でも高強度及び軽量が実現可能であることが判明した。石膏ウォールボードにおいて、35〜45lb/MSFもの高濃度のα化デンプンが有効であることが示された。例として、後掲の表1及び2に示す配合Bは45lb/MSFを含み、それにも関わらず、優れた強度を有する1042lb/MSFのボード重量をもたらした。この例(配合B)では、ナフタレンスルホネート分散剤の45重量%の水溶液を、1.28重量%の濃度で用いた。

他の有用なデンプンとしては、酸修飾デンプン、例えば、Bunge Milling(St.Louis、Missouri)からHI−BONDとして入手可能な酸修飾コーンフラワーが挙げられる。このデンプンは、次の典型的な分析結果を有する。水分:10.0%;油:1.4%;可溶性物質:17.0%;アルカリ流動性:98.0%;疎充填かさ密度:30lb/ft³;pH4.3を生じる20%のスラリー。他の有用なデンプンは、非α化コムギデンプン、例えば、ADM/Ogilvie(Montreal、Quebec、Canada)から入手可能なECOSOL−45である。

本発明において、ナフタレンスルホネート分散剤及びトリメタリン酸塩の組合せを、α化コーンスターチと、さらに、任意選択で紙繊維又はガラス繊維と組み合わせると、さらに意外な結果が実現される。これらの3種の成分を含む配合物から作製される石膏ウォールボードは、増加した強度及び低減された重量を有し、その製造における水の所要量が低減されるため、経済的により望ましい。

本発明の石膏含有組成物中には、Yuらの米国特許第6409825号(参照されることにより本明細書に組み込まれる。)に記載されている促進剤を用いることができる。1つの望ましい耐熱性促進剤(HRA)は、粉末石膏(硫酸カルシウム二水和物)の乾燥粉砕から作製することができる。このHRAを作製するために、少量(通常約5重量%)の添加剤(糖、デキストロース、ホウ酸、デンプン等)を用いることができる。一般に、糖又はデキストロースが好ましい。別の有用な促進剤は、米国特許第3573947号(参照されることにより本明細書に組み込まれる。)に記載されている、「気候安定化促進剤(climate stabilized accelerator)」又は「気候安定促進剤(climate stable accelerator)」(CSA)である。

以下の実施例は、本発明をさらに説明するものである。これらは決して、本発明の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。

〔実施例1:サンプル石膏スラリーの配合〕 石膏スラリーの配合を下記表1に示す。表1中のすべての値は、乾燥スタッコの重量に対する重量パーセントで示されている。括弧内の値は、ポンド(lb/MSF)での乾燥重量である。

〔実施例2:ウォールボードの作製〕 Yuらの米国特許第6342284号及びYuらの第6632550号(これらは、参照されることにより本明細書に組み込まれる。)に従って、サンプルの石膏ウォールボードを作製した。ここには、上記特許の実施例5に記載されている、気泡の別途生成、及びそれ以外の成分からなるスラリーへの気泡の導入が含まれる。

実施例1の配合A及びBを用いて作製した石膏ウォールボード、並びに対照、に関する試験結果を下記表2に示す。この実施例及び以下の他の実施例では、釘抜き抵抗、コア硬度及び曲げ強度の試験をASTM C−473に従って行った。さらに、典型的な石膏ウォールボードは、厚さ約1/2インチであり、材料1000平方フィート当たり約1600〜1800ポンド(すなわち1600〜1800lb/MSF)の重量を有することが注目される(「MSF」は、1000平方フィートを表す当分野の標準的な略語であり、箱、波形材料及びウォールボードの面積の大きさを示すものである)。

表2に示されるように、配合A及びBのスラリーを用いて作製した石膏ウォールボードは、対照のボードと比較して、重量が著しく低減している。再び表1を参照すると、配合Aのボードと配合Bのボードとの比較は最も顕著である。水/スタッコ(w/s)比は、配合A及び配合Bで同様である。配合Bでは、著しく高濃度のナフタレンスルホネート分散剤も用いられている。さらに、配合Bでは、かなり多いα化デンプン、すなわち配合Aに比べて100%超多い約6重量%のα化デンプンが用いられ、顕著な強度増加が生じた。それでも、必要な流動性を生じさせるための水の所要量は、配合Bのスラリーにおいて低いままであり、その差は配合Aと比較して約10%であった。両配合における低い水の所要量は、かなり高濃度のα化デンプンの存在下でさえ石膏スラリーの流動性を増加させる、石膏スラリー中のナフタレンスルホネート分散剤及びトリメタリン酸ナトリウムの組合せの相乗効果に起因する。

表2に示されるように、配合Bのスラリーを用いて作製したウォールボードは、配合Aのスラリーを用いて作製したウォールボードと比較して、強度がかなり増加している。増量したα化デンプンを、増量したナフタレンスルホネート分散剤及びトリメタリン酸ナトリウムと組み合わせて導入することによって、配合Bのボードにおける釘抜き抵抗は、配合Aのボードに対して45%改善した。配合Aのボードと比較すると、配合Bのボードでは曲げ強度の相当な増加も観察された。

〔実施例3:1/2インチ石膏ウォールボードの重量低減試験〕 スラリーの配合及び試験結果を含めて、さらなる石膏ウォールボードの例(ボードC、D及びE)を下記表3に示す。表3のスラリーの配合はスラリーの主要成分を含む。括弧内の値は、乾燥スタッコの重量に対する重量パーセントで示されている。

表3に示されるように、ボードC、D及びEは、対照ボードと比較して、w/s比を一定に維持しながら、相当に増量したデンプン、DILOFLO分散剤及びトリメタリン酸ナトリウム(パーセンテージベースで、デンプン及び分散剤は約2倍の増加、並びにトリメタホスフェートは約2〜3倍の増加)を有するスラリーから作製した。それにも関わらず、釘抜き抵抗によって測定した強度は劇的な影響を受けず、ボード重量は大きく低減した。したがって、本発明の一実施形態のこの実施例において、新規の配合(例えば、ボードD)は、十分な強度を維持しながら、使用に適した流動的なスラリー中に配合されるデンプンを増加させることを可能にする。

〔実施例4:湿潤石膏立方体強度試験〕 実験室で、Southard CKSボードスタッコ(United States Gypsum Corp.(Chicago、Illinois)から入手可能)、及び水道水を用いて湿潤立方体強度試験(wet cube strength test)を行い、その湿潤圧縮強度を測定した。以下の実験室試験方法を用いた。

湿潤石膏立方成型体の各々について、スタッコ(1000g)、CSA(2g)及び約70°Fの水道水(1200cc)を用いた。α化コーンスターチ(20g、スタッコ重量に対して2.0%)及びCSA(2g、スタッコ重量に対して0.2%)を、プラスチック袋内で、スタッコとともに最初に完全に乾燥混合した後、ナフタレンスルホネート分散剤及びトリメタリン酸ナトリウムの両方を含む水道水溶液と混合した。用いた分散剤は、DILOFLO分散剤(表4に示す1.0〜2.0%の量)であった。表4に示す様々な量のトリメタリン酸ナトリウムも用いた。

乾燥成分及び水溶液を、実験室用Warningブレンダーで最初に混合し、生成した混合物を10秒間浸漬させ、次いでこの混合物を10秒間低速で混合することによってスラリーを作製した。このようにして形成されたスラリーは、3つの2”×2”×2”立方体の型に流し込んだ。次いで、成型された立方体を型から取り出し、計量した。そして、圧縮強度試験を行う前に水分が失われるのを防止するために、プラスチック袋内に密封した。湿った立方体の圧縮強度は、ATS装置を用いて測定し、平方インチ当たりのポンド(psi)での平均として記録した。得られた結果は次の通りである。

表4に示されるように、本発明の約0.12〜0.4%の範囲のトリメタリン酸ナトリウム濃度を有する試料4〜5、10〜11及び17は、概して、この範囲外のトリメタリン酸ナトリウムを有する試料と比較して、優れた湿潤立方体圧縮強度をもたらした。

〔実施例5:1/2インチ軽量石膏ウォールボードの工場生産試験〕 スラリーの配合を含めて、別の試験を実施した(試験ボード1及び2)。試験結果を下記表5に示す。表5のスラリーの配合は、スラリーの主成分を含む。括弧内の値は、乾燥スタッコの重量に対する重量パーセントで示されている。

表5に示されるように、試験ボード1及び2は、対照ボードと比較して、w/s比を一定に維持しながら、相当に増量したデンプン、DILOFLO分散剤及びトリメタリン酸ナトリウムを有するスラリーから作製した。それにも関わらず、釘抜き抵抗及び曲げ試験によって測定した強度は維持されたか、改善され、ボード重量は大きく低減した。したがって、本発明の一実施形態のこの実施例において、新規の配合(例えば、試験ボード1及び2)は、十分な強度を維持しながら、使用に適した流動的なスラリー中に配合されるトリメタホスフェート及びデンプンを増加させることを可能にする。

〔実施例6:1/2インチ超軽量石膏ウォールボードの工場生産試験〕 α化コーンスターチを水で10%の濃度に調製し(湿潤デンプンの調製)、HYONIC PFMセッケン(GEO Specialty Chemicals(Lafayette、Indiana)から入手可能)のブレンドを用いたこと以外は、実施例2と同様にして配合B(実施例1)を用いて、さらなる試験を実施した(試験ボード3及び4)。例えば、試験ボード3は、65〜70重量%/35〜30重量%の範囲のHYONIC PFM 10/HYONIC PFM 33のブレンドを用いて作製した。例えば、試験ボード4は、HYONIC PFM 10/HYONIC PFM 33の70/30 wt/wtのブレンドを用いて作製した。試験結果を下記表6に示す。

表6に示されるように、釘抜き及びコア硬度によって測定した強度特性は、ASTM基準を超えていた。曲げ強度の測定値もASTM基準を超えていた。本発明の一実施形態のこの実施例において、新規の配合(例えば、試験ボード3及び4)は、十分な強度を維持しながら、使用に適した流動的なスラリー中に配合されるトリメタホスフェート及びデンプンを増加させることを可能にする。

本発明を説明する文脈において(特に添付の特許請求の範囲の文脈において)、「a」、「an」及び「the」という語並びに同様の指示語の使用は、本明細書で特に断らない限り、又は文脈と明らかに矛盾しない限り、単数及び複数の両方を包含するものと解釈される。本明細書における数値範囲の記載は、本明細書で特に断らない限り、範囲内に含まれる個々の値を挙げるための簡略な表現方法としての役割を果たすことを意図したものにすぎず、個々の値は、あたかも本明細書で個別に列挙されているかのように本明細書に組み込まれている。本明細書で説明した方法はすべて、本明細書で特に断らない限り、又は文脈と明らかに矛盾しない限り、任意の適当な順序で実施することができる。本明細書で提供される例又は例示的な語(例えば「等」)の使用は、本発明をより明確にすることを意図したものにすぎず、特に断らない限り、本発明の範囲を限定するものではない。本明細書中のいかなる語も、特許請求の範囲に記載されていない任意の要素が本発明の実施に必須であることを示すものと解釈されるべきではない。

本発明の好適な実施形態(本発明者らが知る最良の実施形態を含む。)が、本明細書で説明されている。例示した実施形態は、単に代表的なものと理解されるべきであり、本発明の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。

[付記1] 水、スタッコ、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤を含む石膏含有スラリーであって、 前記α化デンプンが、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で存在し、前記ナフタレンスルホネート分散剤が、スタッコの重量に対して約0.1重量%〜約3.0重量%の量で存在する石膏含有スラリー。 [付記2] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、スタッコの重量に対して約0.25重量%〜約2.0重量%の量で存在する、付記1に記載の石膏含有スラリー。 [付記3] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、スタッコの重量に対して約0.3重量%〜約0.7重量%の量で存在する、付記1に記載の石膏含有スラリー。 [付記4] スタッコの重量に対して少なくとも約0.12重量%の量で存在するトリメタリン酸ナトリウムをさらに含む、付記1に記載の石膏含有スラリー。 [付記5] 水、スタッコ、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤を含む石膏含有スラリーであって、 前記α化デンプンが、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で存在し、前記ナフタレンスルホネート分散剤が、約40重量%〜約45重量%のナフタレンスルホネートを含む水溶液の形態のものであり、当該水溶液が、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約2.5重量%の量で存在する石膏含有スラリー。 [付記6] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、約40重量%〜約45重量%のナフタレンスルホネートを含む水溶液の形態のものであり、当該水溶液が、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約2.0重量%の量で存在する、付記5に記載の石膏含有スラリー。 [付記7] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、約40重量%〜約45重量%のナフタレンスルホネートを含む水溶液の形態のものであり、当該水溶液が、スタッコの重量に対して約0.7重量%〜約1.5重量%の量で存在する、付記5に記載の石膏含有スラリー。 [付記8] スタッコの重量に対して少なくとも約0.12重量%の量で存在するトリメタリン酸ナトリウムをさらに含む、付記5に記載の石膏含有スラリー。 [付記9] 2枚の実質的に平行なカバーシートの間に形成された硬化石膏組成物を含む、高強度かつ低粉化性の軽量石膏ウォールボードであって、 前記硬化石膏組成物が、水、スタッコ、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤を含む石膏含有スラリーを用いて作製されたものであり、 前記スラリーにおいて、前記α化デンプンが、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で存在する軽量石膏ウォールボード。 [付記10] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、スタッコの重量に対して約0.1重量%〜約3.0重量%の量で存在する、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記11] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、スタッコの重量に対して約0.25重量%〜約2.0重量%の量で存在する、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記12] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、スタッコの重量に対して約0.3重量%〜約0.7重量%の量で存在する、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記13] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、約40重量%〜約45重量%のナフタレンスルホネートを含む水溶液の形態のものであり、当該水溶液が、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約2.5重量%の量で存在する、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記14] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、約40重量%〜約45重量%のナフタレンスルホネートを含む水溶液の形態のものであり、当該水溶液が、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約2.0重量%の量で存在する、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記15] 前記ナフタレンスルホネート分散剤が、約40重量%〜約45重量%のナフタレンスルホネートを含む水溶液の形態のものであり、当該水溶液が、スタッコの重量に対して約0.7重量%〜約1.5重量%の量で存在する、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記16] スタッコの重量に対して約0.12重量%〜約0.4重量%の量で存在するトリメタリン酸ナトリウムをさらに含む、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記17] 約1000lb/MSF〜約1400lb/MSFの乾燥重量を有する、付記9に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記18] 約1000lb/MSF〜約1400lb/MSFの乾燥重量を有する、付記16に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記19] 約500lb/MSF〜約1000lb/MSFの乾燥重量を有する、付記16に記載の軽量石膏ウォールボード。 [付記20] 高強度かつ低粉化性の石膏ウォールボードを作製する方法であって、 (a)水、スタッコ、α化デンプン及びナフタレンスルホネート分散剤を含む石膏含有スラリーを混合するステップと、 (b)前記石膏含有スラリーを第1のカバーシート上に堆積させるステップと、 (c)堆積したスラリーの上に第2のカバーシートを配置することによって、石膏ウォールボードを形成するステップと、 (d)前記石膏含有スラリーが切断に十分な程度に硬化した後、前記石膏ウォールボードを切断するステップと、 (e)前記石膏ウォールボードを乾燥させるステップと、 を含み、 前記スラリーにおいて、前記α化デンプンが、スタッコの重量に対して約0.5重量%〜約10重量%の量で存在し、前記ナフタレンスルホネート分散剤が、スタッコの重量に対して約0.1重量%〜約3.0重量%の量で存在する方法。 [付記21] 前記第1のカバーシート及び前記第2のカバーシートが紙製である、付記20に記載の方法。 [付記22] 前記スラリーが、スタッコの重量に対して約0.12重量%〜約0.4重量%の量で存在するトリメタリン酸ナトリウムをさらに含む、付記20に記載の方法。