一种Low-E玻璃的膜方法

申请号 CN201610377196.5 申请日 2016-06-01 公开(公告)号 CN107445491A 公开(公告)日 2017-12-08
申请人 江苏北玻节能玻璃科技有限公司; 发明人 原建军; 乔亚; 赵媛媛; 尤本柱;
摘要 本 发明 公开了一种Low-E玻璃的 镀 膜 方法,本发明属于特种玻璃生产领域;该产品是在玻璃基片表面镀上多层化合物和金属组成的膜系产品,生产该产品使用的原料包括:洁净的玻璃基片、氮化 硅 铝 、 氧 化锌铝、镍铬、 银 、氮气、氧气、氩气,使用的设备为5个溅射室,即溅射室1、溅射室2、溅射室3、溅射室4、溅射室5;该方法具有生产工艺简单、原料来源方便、使用通用设备、反应条件温和、无污 水 废气排放、可批量生产的优点,产品对可见光有较高的透射率,对红外线有很高的反射率,具有良好的 隔热 性能,主要用于制作Low-E中空玻璃和用于 建筑物 的 门 窗。
权利要求

1.一种Low-E玻璃的膜方法,使用的原料包括:洁净的玻璃基片、氮化化锌铝、镍铬、、氮气、氧气、氩气,使用的设备为5个溅射室,即溅射室1、溅射室2、溅射室3、溅射室4和 溅射室5,其特征在于:
(1)把洁净的玻璃基片通过输送机送入溅射室1,溅射室1布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第一层薄膜
(2)把经过溅射室1镀膜后的玻璃基片送入溅射室2,溅射室2布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第二层薄膜;
(3)把经过溅射室2镀膜后的玻璃基片送入溅射室3,溅射室3布置3个阴极位,同时送入氩气,溅射的材料为金属,溅射的过程在氩气的参与下分三次进行,形成第三、第四、第五层薄膜;
(4)把经过溅射室3镀膜后的玻璃基片送入溅射室4,溅射室4布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第六层薄膜;
(5)把经过溅射室4镀膜后的玻璃基片送入溅射室5,溅射室5布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第七层薄膜后镀膜结束。
2.根据权利要求1所述的一种Low-E玻璃的镀膜方法,其特征在于:所述的玻璃基片包括普通玻璃板、浮法玻璃板、化玻璃板。
3.根据权利要求1所述的一种Low-E玻璃的镀膜方法,其特征在于:所述的步骤(1)、步骤(5)溅射的化合物为氮化硅铝。
4.根据权利要求1所述的一种Low-E玻璃的镀膜方法,其特征在于:所述的步骤(2)、步骤(4)溅射的化合物为氧化锌铝。
5.根据权利要求1所述的一种Low-E玻璃的镀膜方法,其特征在于:所述的步骤(3)溅射的金属为镍铬和银,溅射的次序为镍铬一层、银一层、镍铬一层共3层。

说明书全文

一种Low-E玻璃的膜方法

技术领域

[0001] 本发明属于特种玻璃生产领域,尤其涉及一种Low-E玻璃的镀膜方法。

背景技术

[0002] 玻璃是重要的建筑材料,人们在选择建筑物的玻璃窗时,除了考虑美观外,更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题,这就使得玻璃家族中的新型玻璃Low-E镀膜玻璃脱颖而出。Low-E镀膜玻璃是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品,其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性,使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比,具有以下明显优势:1.优异的热性能,外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分,占建筑物能耗的50%以上,有关研究资料表明,玻璃内表面的传热辐射为主占58%,这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失,最有效的方法是抑制其内表面的辐射,当镀上一层以金属薄膜后,其辐射率可大大降低;2.良好的光学性能,Low-E镀膜玻璃对太阳光中可见光有高的透射比,可达80%以上,而反射比则很低,从室外观看,外观更透明、清晰。镀膜玻璃按产品的镀膜材料不同,主要有热反射玻璃和Low-E镀膜玻璃,热反射玻璃一般是在玻璃表面镀一层或多层诸如铬、或不锈等金属或其化合物,主要用于建筑和玻璃幕墙;Low-E镀膜玻璃是在玻璃表面镀由多层等金属或其化合物组成的薄膜系,产品对可见光有较高的透射率,对红外线有很高的反射率,具有良好的隔热性能,主要用于建筑和交通工具的门窗。

发明内容

[0003] 本发明主要解决的问题是提供一种Low-E玻璃的镀膜方法,该方法使用的原料包括:洁净的玻璃基片、氮化化锌铝、镍铬、银、氮气、氧气、氩气,使用的设备为5个溅射室,即溅射室1、溅射室2、溅射室3、溅射室4和 溅射室5。
[0004] 本发明采用的技术方案是(1)把洁净的玻璃基片通过输送机送入溅射室1,溅射室1布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第一层薄膜。
[0005] (2)把经过溅射室1镀膜后的玻璃基片送入溅射室2,溅射室2布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第二层薄膜。
[0006] (3)把经过溅射室2镀膜后的玻璃基片送入溅射室3,溅射室3布置3个阴极位,同时送入氩气,溅射的材料为金属,溅射的过程在氩气的参与下分三次进行,形成第三、第四、第五层薄膜。
[0007] (4)把经过溅射室3镀膜后的玻璃基片送入溅射室4,溅射室4布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第六层薄膜。
[0008] (5)把经过溅射室4镀膜后的玻璃基片送入溅射室5,溅射室5布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第七层薄膜后镀膜结束。
[0009] 本发明的进一步技术方案是:所述的玻璃基片包括普通玻璃板、浮法玻璃板、钢化玻璃板。
[0010] 所述的步骤(1)、步骤(5)溅射的化合物为氮化硅铝。
[0011] 所述的步骤(2)、步骤(4)溅射的化合物为氧化锌铝。
[0012] 所述的步骤(3)溅射的金属为镍铬和银,溅射的次序为镍铬一层、银一层、镍铬一层共3层。
[0013] 本发明的有益效果是:提供了一种Low-E玻璃的镀膜方法,该方法生产工艺简单、原料来源方便、使用通用设备、反应条件温和、无污废气排放、可批量生产的优点;产品对可见光有较高的透射率,对红外线有很高的反射率,具有良好的隔热性能,主要用于制作Low-E中空玻璃和用于建筑物的门窗。

具体实施方式

[0014] 通过以下实施例进一步描述本发明。
[0015] 实施例1把洁净的普通玻璃板通过输送机送入溅射室1,溅射室1布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第一层薄膜;把经过溅射室1镀膜后的普通玻璃板送入溅射室2,溅射室2布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第二层薄膜;把经过溅射室2镀膜后的普通玻璃板送入溅射室3,溅射室3布置3个阴极位,同时送入氩气,溅射的材料为金属,溅射的过程在氩气的参与下分三次进行形成第三、第四、第五层薄膜;把经过溅射室3镀膜后的普通玻璃板送入溅射室4,溅射室4布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第六层薄膜;把经过溅射室4镀膜后的普通玻璃板送入溅射室5,溅射室5布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第七层薄膜后镀膜结束。
[0016] 实施例2把洁净的浮法玻璃板通过输送机送入溅射室1,溅射室1布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第一层薄膜;把经过溅射室1镀膜后的浮法玻璃板送入溅射室2,溅射室2布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第二层薄膜;把经过溅射室2镀膜后的浮法玻璃板送入溅射室3,溅射室3布置3个阴极位,同时送入氩气,溅射的材料为金属,溅射的过程在氩气的参与下分三次进行形成第三、第四、第五层薄膜;把经过溅射室3镀膜后的浮法玻璃板送入溅射室4,溅射室4布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第六层薄膜;把经过溅射室4镀膜后的浮法玻璃板送入溅射室5,溅射室5布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第七层薄膜后镀膜结束。
[0017] 实施例3把洁净的钢化玻璃板通过输送机送入溅射室1,溅射室1布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第一层薄膜;把经过溅射室1镀膜后的钢化玻璃板送入溅射室2,溅射室2布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第二层薄膜;把经过溅射室2镀膜后的钢化玻璃板送入溅射室3,溅射室3布置3个阴极位,同时送入氩气,溅射的材料为金属,溅射的过程在氩气的参与下分三次进行形成第三、第四、第五层薄膜;把经过溅射室3镀膜后的钢化玻璃板送入溅射室4,溅射室4布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第六层薄膜;把经过溅射室4镀膜后的钢化玻璃板送入溅射室5,溅射室5布置3个阴极位,同时送入氮气、氧气,溅射的材料为化合物,溅射的过程在氮气、氧气的参与下在玻璃表面形成第七层薄膜后镀膜结束。
[0018] 当然,本发明还有其它的实施方式,在不离开本发明的精神背景下所做的任何技术、原理和工艺的改进,均落在本发明的保护范围之内。
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