导电板及其制作方法 |
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| 申请号 | CN200910304083.2 | 申请日 | 2009-07-07 | 公开(公告)号 | CN101944407A | 公开(公告)日 | 2011-01-12 |
| 申请人 | 群康科技(深圳)有限公司; 群创光电股份有限公司; | 发明人 | 吴志笙; 郑嘉雄; 赵志涵; | ||||
| 摘要 | 本 发明 涉及一种导电板及其制作方法。该导电板的制作方法包括提供一 基板 和一经过拉伸处理的导电 薄膜 ；以及利用该基板承载该导电薄膜。在本发明中，通过将导电薄膜先行拉伸处理，再将拉伸处理过的导电薄膜承载在基板上，可得到大面积和高透明度的导电板。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种导电板的制作方法，包括： |
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| 说明书全文 | 导电板及其制作方法技术领域背景技术[0002] 随着半导体工艺的不断演进与设备的开发，液晶面板的尺寸也随之逐渐增大。由于透明导电基板是制作液晶面板所必须的组件，且透明导电基板的尺寸必须大于或等于液晶面板的尺寸，因此对于透明导电基板的尺寸也要求随之增大。常见的透明导电基板是在基板上形成透明导电膜。 [0003] 一般的透明导电膜(Transparent Conducting Film，TCF)由于同时具有透明与导电两种特性，因此广泛使用于各式平面显示器(Flat Panel Display，FPD)、触控面板(TouchPanel)、电磁波防护和太阳能电池(Solar cells)等。 [0004] 目前最常使用的透明导电膜的主要材料以铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化锡(Tin Oxide，SnO2)和氧化锌(Zinc Oxide，ZnO)等为主。其中ITO因具有高透光性与良好的导电性，因此液晶面板所使用的透明导电基板大多是在基板上形成ITO透明导电膜。其中因ITO透明导电薄膜具有导电性，因此具有ITO透明导电膜的基板又可称为导电板。 [0005] ITO透明导电膜是利用真空溅镀的工艺方法，在基材上溅镀ITO所形成，这些基材例如是玻璃和聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)等。但随着基板的尺寸增大，所需要的真空溅镀设备也愈发昂贵，同时在基板上所形成的ITO透明导电膜的均匀性也愈发难以控制。因此尺寸越大的导电板，其价格总是居高不下，使得成本控制不易。因此寻求替代ITO的材料成了最主要的课题。 发明内容[0006] 为解决现有技术制作大尺寸导电板的ITO透明导电膜的设备价格昂贵和制作时ITO透明导电膜的均匀性控制不易的问题，本发明提供一种导电板及其制作方法。 [0007] 一种导电板的制作方法，其包括下列步骤：首先提供基板与经过拉伸处理的导电薄膜；以及利用基板承载导电薄膜。其中导电薄膜的制作方法包括：首先形成由多个奈米单元所组成的集合结构；以及转换集合结构成为具一定排列配向的薄膜结构。 [0008] 上述的多个奈米单元可为非等向性奈米单元或奈米碳管。上述的转换集合结构的步骤可利用拉伸处理转换集合结构。其中，导电薄膜的制作方法可在转换集合结构的步骤后，更包括沿着非排列配向的一特定方向延展薄膜结构。上述的特定方向可垂直于排列配向。 [0009] 一种导电板包括基板与承载在基板上的导电薄膜。其中导电薄膜可经过拉伸处理。 [0010] 本发明所揭露的一种导电板及其制作方法，通过将导电薄膜先行拉伸处理，一方面可提升导电薄膜的有效面积，另一方面可提高光学穿透度，进一步可将拉伸处理过的导电薄膜承载在基板上，以得到大面积、高透明度的导电板。附图说明 [0011] 图1A～图1B是本发明导电板的制作方法各步骤的一具体实施例。 [0012] 图2A～图2C是本发明的导电薄膜制作方法各步骤的第一具体实施例。 [0013] 图2A～图2F是本发明的导电薄膜制作方法各步骤的第二具体实施例。 具体实施方式[0014] 本发明导电板的制作方法中各步骤的一具体实施例将参照「图1A」至「图1B」进行说明。 [0015] 请先参照「图1A」，在一具体实施例中，导电板的制作方法中的第一步骤是提供一基板100。在此实施例中，基板100可为一透明材料基板。透明材料基板可包括玻璃基板和高分子透明材料基板。其中高分子透明材料基板可为包括有聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)或聚碳酸酯树脂(Polycarbonate，P C)的基板。但是，在本发明的基板为高分子透明材料基板的情况下，高分子透明材料并不以上述例为限，也可为其它高分子透明材料。 [0016] 再参照「图1B」，导电板的制作方法中的第二步骤是提供经过拉伸处理的导电薄膜200，并将导电薄膜200承载在基板100上。其中导电薄膜200可在提供前，事先经过一次或一次以上的拉伸处理过程。详言之，将经过至少一次拉伸处理的导电薄膜200设置在基板100的一侧上。 [0017] 请同时参照「图2A」到「图2C」，分别说明本发明的导电薄膜制作方法各步骤的第一具体实施例。 [0018] 请先参照「图2A」，在一具体实施例中，导电薄膜的制作方法中的第一步骤是形成由多个奈米单元201所组成的一集合结构210。其中多个奈米单元201所组成的一集合结构210可透过电弧放电法(Arc Discharge)、雷射蒸发法(Laser Vaporization)或有机气相沉积法(Chemical Vapor Deposition)等而形成于基材300上。上述的基材300可以为晶圆、石墨或石英等。上述的奈米单元201可以为非等向性形状的奈米单元，所谓非等向性形状的奈米单元是形状上长度与宽度相异的奈米单元，例如是奈米碳管和奈米粒子等。 [0019] 再参照「图2B」与「图2C」，导电薄膜的制作方法中的第二步骤是转换集合结构210成为具一定排列配向的薄膜结构。其中转换集合结构210成为具一定排列方向来配置的薄膜结构的步骤可以透过拉伸处理的方式来达成。 [0020] 详言之，当上述的多个奈米单元201中的一奈米单元201受到外部拉力而离开基材300时，与该奈米单元201邻近的另一奈米单元201会因为与该奈米单元201之间的凡得瓦力的作用而一并被带离基材300。于此，当基材300上的多个奈米单元201中受到外部拉力而离开基材300时，其中每一受到外部拉力的奈米单元201后会串接起多个奈米单元201以形成一奈米单元束220，因此可将基材300上的多个奈米单元201以第一拉伸处理的方式形成多个奈米单元束220，且这些奈米单元束220之间是以一特定程度的排列配向的方向X来配置，例如「图2C」中局部放大图示中的呈大致平行排列配向。 [0021] 于此，导电薄膜200具有一定排列配向设置的多个组成单元，且该多个组成单元的排列配向设置方向实质平行于导电薄膜200的第一尺寸方向A。换言之，上述的多个奈米单元束220可形成具一定排列配向的导电薄膜200，其中导电薄膜200具有第一尺寸方向A与第二尺寸分向B，且第一尺寸方向A垂直于第二尺寸分向B，如「图2E」所示。导电薄膜200所具有的排列配向的方向X是大致平行于该第一尺寸方向A。将基材上的奈米单元201拉伸成导电薄膜200的过程需经过第一拉伸处理的方式，相对来说导电薄膜200在第一尺寸方向A上也经过第一拉伸处理过程。 [0022] 由具一定排列配向的导电薄膜200中局部放大图示中可看出，具一定排列配向的导电薄膜200包括有多个奈米单元束220，且每一奈米单元束220是由多个奈米单元201所串接而形成。其中每一奈米单元束220上会有多个触须延伸连接其它奈米单元束220。就具一定排列配向的导电薄膜200而言，在沿着特定程度排列配向的方向X来配置的奈米单元束220的方向上的电阻抗较小，在沿着相异于特定程度排列配向的方向X来配置的奈米单元束220的方向上的电阻抗较大，故所形成的具一定排列配向的导电薄膜200具电异向性。在此，所谓的电异向性又称导电异向性或称电阻抗异向性，是不同方向上具有不同的导电性质或电阻抗性质。 [0023] 上述的奈米单元201可以为非等向性形状的奈米单元，所谓非等向性形状的奈米单元是形状上长度与宽度相异的奈米单元，例如是奈米碳管和奈米粒子等。所有的奈米单元201可形成特定程度的排列配向，例如图示的呈大致平行排列配向。 [0024] 由于上述的导电薄膜200包括有多个奈米单元束220，当需要使导电薄膜200的厚度变薄时，可在进行如「图1B」所述的步骤前，先行将上述的导电薄膜200经过热处理或雷射处理，以使上述的导电薄膜200的厚度变薄。 [0025] 请同时参照「图2A」至「图2F」，分别说明本发明的导电薄膜制作方法各步骤的一第二具体实施例。 [0026] 在上述的「图2A」至「图2C」的步骤后，也可接着如「图2D」至「图2F」所示，将上述的导电薄膜200沿着与导电薄膜200所具有的排列配向的方向X相异的一特定方向Y来延展薄膜结构。上述的特定方向Y与方向X角度差可大于0度，小于或等于90度，也即特定方向Y可以是垂直于方向X。 [0027] 在一具体实施例中，可先行设置相互平行的两弹性材料400，并将每一弹性组件400拉伸以保持张力，以保持每一弹性组件400不会垂降。其中弹性材料可受外力而变形并于外力移除后恢复原形，例如：硅胶和橡皮等。接着将上述具有一定排列配向的导电薄膜 200放置在两弹性材料400上，且导电薄膜200部分或全部固定在弹性材料400上。 [0028] 将具有一定排列配向的导电薄膜200固定在弹性材料400上时，上述的两弹性材料400设置的特定方向Y与导电薄膜200所具有的排列配向的方向X相异，且特定方向Y与方向X角度差可大于0度，小于或等于90度。当两弹性材料400设置的特定方向Y与导电薄膜200所具有的排列配向的方向X差异大致为90度时，此时两弹性材料400设置的特定方向Y大致平行于导电薄膜200的第二尺寸方向B。 [0029] 其中将具有一定排列配向的导电薄膜200固定在弹性材料400上的方法可透过在弹性材料400上涂布凡士林或酒精等，以增加弹性材料400与具有一定排列配向的导电薄膜200接触面的贴附性。 [0030] 在上述的导电薄膜200固定在两弹性材料400的后，分别将两弹性材料400两端沿着其所设置的特定方向Y进行第二次拉伸处理。此时固定在两弹性材料400的导电薄膜200会随着弹性材料400的拉伸，而使得导电薄膜200在第二尺寸方向B上也会受到第二次拉伸处理而延展以增大导电薄膜200的面积。 [0031] 第二次拉伸处理的方式，除了上述透过机械等直接施力来拉伸，也可将导电薄膜200设置在可延展性材料上，透过延展该可延展性材料，使位于可延展性材料上的导电薄膜 200也随之被拉伸。导电薄膜200也可透过吹气扩展的方式，通过吹气的方式来吹动导电薄膜200内的奈米单元束220来拉伸导电薄膜200。 [0032] 第一次拉伸处理与第二次拉伸处理的每秒的拉伸速度可大致介于0.1cm至5cm之间，较佳拉伸速度为每秒0.5cm。 [0033] 上述将导电薄膜200经过第一次拉伸处理与第二次拉伸处理的过程，可有效的提升导电薄膜200的面积，同时可提高其光穿透率。 [0034] 本发明所揭露的一种导电板和其制作方法，通过将导电薄膜先行一次或二次拉伸处理，一方面可提升导电薄膜的有效面积，另一方面可提高光学穿透度，进一步可将拉伸处理过的导电薄膜承载在基板上，以得到大面积和高透明度的导电板。 |
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