1.一种触控元件的制备方法，其特征在于，包括：步骤S1：在基底上形成触控层；还包括步骤S2：形成保护层，所述保护层形成在所述触控层的远离所述基底的一面上；
所述步骤S1包括：
步骤S11：在所述基底上形成碳纳米管膜层；
步骤S12：对所述碳纳米管膜层进行掺杂改性处理；
步骤S13：对所述碳纳米管膜层进行图形化；
所述步骤S2包括：在完成所述步骤S12的所述基底上涂布保护层的材料以形成保护层膜，然后对所述保护层膜进行干燥，最后对所述保护层膜进行图形化，形成所述保护层；
其中，所述步骤S13和对所述保护层膜进行图形化通过一次图形化工艺同时完成。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述基底上形成碳纳米管膜层具体包括：
将碳纳米管分散液涂布在所述基底上，然后采用干燥工艺对所述碳纳米管分散液进行干燥，形成所述碳纳米管膜层；
或者，先在所述基底上涂布固化材料，然后将碳纳米管材料采用拉膜工艺制作在所述固化材料上，最后根据所述固化材料的性能采用相应的固化工艺将所述碳纳米管材料进行固化，形成所述碳纳米管膜层。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对所述碳纳米管膜层进行掺杂改性处理具体包括：
将完成所述步骤S11的所述基底置于强氧化性材料的环境中，在设定温度和设定时间内对所述碳纳米管膜层进行掺杂改性处理；所述强氧化性材料包括二氧化氮、溴、硝酸或亚硫酰氯。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，采用激光烧蚀的工艺对所述碳纳米管膜层和所述保护层膜进行图形化。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的制备方法，其特征在于，在完成所述步骤S11、所述步骤S12和所述步骤S13中的任意一个步骤之后，对完成任意一个步骤后的所述基底进行清洗，并在清洗后对所述基底进行干燥。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，形成所述保护层的材料包括聚3，4-乙撑二氧噻吩与聚苯乙烯磺酸盐的聚合物、聚对苯撑乙烯、聚噻吩类、聚硅烷类、三苯甲烷类、三芳胺类或吡唑啉类材料中的一种或几种。
7.一种采用如权利要求1-6任意一项所述的制备方法制备的触控元件，包括基底和设置在所述基底上的触控层，其特征在于，所述触控层采用碳纳米管掺杂材料制成，所述碳纳米管掺杂材料为采用强氧化性材料对碳纳米管材料进行掺杂改性处理后形成的材料；还包括保护层，所述保护层设置在所述触控层的远离所述基底的一面上。
8.根据权利要求7所述的触控元件，其特征在于，所述强氧化性材料包括二氧化氮、溴、硝酸或亚硫酰氯。
9.根据权利要求7所述的触控元件，其特征在于，所述保护层采用聚3，4-乙撑二氧噻吩与聚苯乙烯磺酸盐的聚合物、聚对苯撑乙烯、聚噻吩类、聚硅烷类、三苯甲烷类、三芳胺类或吡唑啉类材料中的一种或几种制成。
10.一种触摸屏，其特征在于，包括权利要求7-9任意一项所述的触控元件。
11.根据权利要求10所述的触摸屏，其特征在于，还包括显示面板，所述触控元件设置在所述显示面板的外表面上，或者，所述触控元件设置在所述显示面板内部。
12.根据权利要求11所述的触摸屏，其特征在于，所述触控元件均匀分布在所述显示面板的除显示面以外的任意外表面上，所述显示面板的除所述显示面以外的任意外表面作为所述触控元件的基底；或者，所述触控元件均匀分布在所述显示面板内部的任意层面上，所述显示面板内部的任意层面作为所述触控元件的基底。