1.一种用于多层不等高微纳结构制作方法，其特征在于，包括如下三大步骤：
步骤一：将待制备的不等高微纳结构按照结构高度分类，得到高度分别为h1，h2……hn的结构，h1步骤二：采用PDMS对硅模版复型的方式制备高度为h1部分的微纳结构；具体过程如下：
步骤三：采用高保型转移方法，依次将高度为h2，……hn部分的微纳结构作为待转移PDMS结构，进行转移制备，直至最大高度hn的微纳结构部分制备完毕。
2.一种如权利要求1所述的用于多层不等高微纳结构制作方法，其特征在于，所述步骤二包括如下子步骤：
子步骤一：制备该部分的硅片掩模板，并在掩膜版上添加对准标记；
子步骤二：以子步骤1制备的掩膜版对单晶硅1进行光刻和干法刻蚀，得到该部分的硅模板2；
子步骤三：通过PDMS溶液浇筑进入硅模板，经高温固化复型出该硅模板的PDMS结构3。
3.一种如权利要求1所述的用于多层不等高微纳结构制作方法，其特征在于，所述步骤三中高保型转移方法的具体过程如下：
步骤1：制备待转移特定高度PDMS结构的硅模板5；具体包括如下子步骤：
子步骤1：制备该部分需转移特定高度PDMS相对应的硅片掩膜版，并在掩膜版上添加对准标记；
子步骤2：以子步骤1制备的掩膜版对单晶硅4进行光刻和干法刻蚀，得到所需待转移特定高度PDMS结构的硅模板5；
步骤2：制作PDMS转移层8；具体包括以下子步骤：
子步骤1：制备等厚PDMS层6；
子步骤2：将子步骤1制备的的等厚PDMS层6及一个培养皿放入透明真空箱内，进行抽真空，而后通过通过进气阀往箱体里注入氮气这一惰性气体直至内外气压平衡；迅速打开箱体并将氟硅烷溶液滴进培养皿内，然后迅速关闭箱体并立即进行抽真空操作，静置一段时间，待PDMS等厚层表面沉积了一层氟硅烷后取出；该过程中的氮气是作为保护气防止即将滴入的氟硅烷氧化失效的；
子步骤3：将子步骤2氟化处理后的PDMS等厚层6放入恒温箱中保温一段时间后取出；该过程是为了完成氟硅烷层7与PDMS等厚层表面的分子组装，使氟硅烷层7在其表面上更稳定存留；
至此，完成PDMS转移层8的制作；
步骤3：沿步骤1的硅模板中央缓缓试滴准量的PDMS溶液，待其从表面中央往四周散开，缓缓流进各个结构空腔内，要求PDMS溶液不溢出硅片模板表面以外区域；
步骤4：使用步骤2制作的PDMS转移层8，置于步骤3中硅模板5有PDMS结构的一面，均匀施加压力，放入恒温箱中固化后取出，然后将硅模板5剥离，这样硅模板5上各结构空腔内的PDMS结构就保型转移至PDMS转移层8上；
步骤5：由于此时PDMS转移层上转移有当前待制备特定高度微纳结构，将该高度微纳结构与基层结构对准键合，所述的基层结构上已制备了所有低于当前高度的微纳结构，之后剥离当前的PDMS转移层，得到已制备了所有等于或低于当前高度微纳结构的新的基层结构。
4.一种如权利要求3所述的用于多层不等高微纳结构制作方法，其特征在于，所述步骤
2中的子步骤1的更优方案具体过程为：通过制作PDMS转移层制备模具腔室I，然后将配比好的PDMS与固化剂进行真空处理后，倒入PDMS转移层模具腔室I 内固化后实现；所述制作PDMS转移层制备模具腔室I的具体过程为：取两块洁净的石英玻璃板9、四块有机玻璃垫块
11、一条实心柔性橡胶圈10、四个长尾夹，将实心柔性橡胶圈10放置在其中一块石英玻璃板
9上围成一开放式圆腔，将有机玻璃垫块11放置在实心柔性橡胶圈10的四个位置，然后将另外一块石英玻璃板9以正对最下面的石英玻璃版9的方向覆盖在上面组成PDMS转移层制备模具腔I，然后用长尾夹沿四个方向均匀加紧固定。
5.一种如权利要求3所述的用于多层不等高微纳结构制作方法，其特征在于，所述步骤
4的的更优方案，采用的是高精度硅模板装载腔体来实现的，其具体过程包括如下子步骤：
子步骤1：取一块洁净的石英玻璃板9，在其中心区域固定一块与所使用的硅片模具同等尺寸的硅模板5；
子步骤2：另取一块洁净的石英玻璃板9、四块有机玻璃垫块11、一条实心柔性橡胶圈
10、四个长尾夹，将硅模板5固定在石英玻璃板表面中心位置，将实心柔性橡胶圈10放置在子步骤一的石英玻璃板9上并围成一开放式圆腔，将有机玻璃垫块11放置在实心柔性橡胶圈10的四个位置，然后将另外一块石英玻璃板9以正对最下面的石英玻璃版9的方向覆盖在上面组成高精度硅模板装载模具制备腔室II，然后用长尾夹沿四个方向均匀加紧固定；
子步骤3：往子步骤2得到的高精度硅模板装载模具制备腔室II内倒入配比好的PDMS溶液13，然后放入恒温箱内固化。固化好后将PDMS高精度硅模板装载模具I整体取出。将硅模板放入该高精度硅模板装载模具12，使得硅模板表面和高精度硅模板装载模具12上表面保持平齐。