单片双面涂布式光学膜的成型机构

申请号 CN201410421680.4 申请日 2014-08-25 公开(公告)号 CN104417013A 公开(公告)日 2015-03-18
申请人 佑顺发机械股份有限公司; 发明人 吕俊麟;
摘要 本 发明 公开了一种单片双面涂布式光学膜的成型机构,包括第一滚轮组,且第一滚轮组组配有第一供胶装置。一压合成型单元,设于第一滚轮组流程后置处,包括上、下间隔配置的压合座及载台,载台供光学膜基材通过与承载,压合座能朝载台方向产生压合动作,且压合座的压合面设有第二光学层,第二光学层的 位置 与第一表面的第一光学层位置相对位; 定位 标记,成型于光学膜基材第一表面上且位于第一光学层设定间隔位置处;定位 传感器 ,设于压合成型单元的压合座至少一处且位于第二光学层设定间隔位置,藉以侦测感应光学膜基材所设定位标记,以取得压合座执行压合动作的精确位置与时点;藉此,可于单一光学膜基材的相对二表面成型能够精准对位的二光学层。
权利要求

1.一种单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于包括一第一滚轮组,该第一滚轮组用于导入一光学膜基材,且该第一滚轮组并组配有一第一供胶装置以供应一胶剂,令第一滚轮组能够于光学膜基材的第一表面滚压成型一第一光学层;其特征在于包括:
一压合成型单元,设置于第一滚轮组的流程后置处,压合成型单元包括互成上、下间隔配置关系的一压合座以及一载台,该载台供光学膜基材通过与承载,该压合座能够朝载台方向产生压合动作,且该压合座的压合面设有一第二光学层,藉以压合于光学膜基材的第二表面,且该第二光学层的位置与第一表面的第一光学层位置相对位;
至少一定位标记,于成型第一光学层且通过第一滚轮组时,同步成型于光学膜基材的第一表面上且位于第一光学层的设定间隔位置处;
至少一定位传感器,设于压合成型单元的压合座至少一处且位于第二光学层的设定间隔位置,该定位传感器系藉以侦测感应光学膜基材所设定位标记,以取得压合座执行压合动作的精确位置与时点;
且其中,令所述定位传感器、第二光学层之间的设定间隔形态,与定位标记、第一光学层之间的设定间隔形态相同。
2.如权利要求1所述的单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于,所述压合成型单元的载台并设置有照射硬化装置,藉以加速第二光学层的硬化定型。
3.如权利要求2所述的单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于,所述定位传感器为影像撷取器,该定位标记则设成同心多圆圈形状。
4.如权利要求3所述的单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于,所述压合成型单元的流程后置处更设置有后置滚轮组或后置压合成型单元,以接续该压合成型单元进行后续更多光学层或金属电路层的结合成型作业。
5.如权利要求4所述的单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于,所述光学膜基材的第一表面于定位标记成型位置的相异位置处,更成型有至少一检视用参考标记,所述检视用参考标记于成型第一光学层且通过第一滚轮组时同步成型;以使压合成型单元的压合座所设第二光学层相对应处默认有与该检视用参考标记相配合的检视用对位标记;当该第二光学层压合于光学膜基材的第二表面之后,操作人员能够透过肉眼目视该检视用对位标记与检视用参考标记之间的对位状态,快速辨识判断光学膜基材的第一、第二光学层是否获致精准对位状态。
6.如权利要求5所述的单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于,所述检视用参考标记、检视用对位标记二者设成一圆圈加外十字图案与一内十字图案相配合的标记形态。
7.如权利要求6所述的单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于,所述成型机构的第一滚轮组与压合成型单元之间还设置有一导送缓冲机构,藉以对光学膜基材的导送动作产生缓冲作用以因应导送速度的变化状态。
8.如权利要求7所述的单片双面涂布式光学膜的成型机构,其特征在于,所述成型机构的第一滚轮组对应位置处还设有一对位检测器、一前后向调整螺杆装置以及一左右向调整螺杆装置,通过该对位检测器侦测光学膜基材的导送位移精度状态,复通过前后向调整螺杆装置来调整光学膜基材的进退,另通过左右向调整螺杆装置来调整光学膜基材的左右位置,藉此以保持光学膜基材导送位移状态的精准度。

说明书全文

单片双面涂布式光学膜的成型机构

技术领域

[0001] 本发明涉及一种光学膜成型机构,特别是指一种能够达到单片双面涂布且精准对位的创新光学膜成型机构。

背景技术

[0002] 光学膜(如液晶显示屏的玻璃基板表层贴膜)具有复合式涂层结构形态,其制造成型方式通常系整体通过滚轮式涂布成型机构制造成型,所述滚轮式涂布成型机构,主要通过多数组能够相对滚动的单元滚轮以及藉以供应胶剂的涂胶装置所构成。
[0003] 前段所述滚轮式涂布成型机构于制造成型一般单层式光学膜时,基本上并无任何问题存在,但由于目前光学膜会随其应用领域的需求不同而有较为复杂的复合层或多层复合式结构形态出现,例如液晶显示屏所贴附的光学膜往往由多层光学基层电路结构层(如奈米)以及封装层所复合构成;针对此种多层复合式的光学膜产品,若是采用前述滚轮式涂布成型机构制造,即存在相当大的问题与缺弊;概因,单纯滚轮式涂布成型机构进行多胶层的涂布作业过程中,其基材往往会因为被滚轮拉引的距离过长而致产生形变现象,如此一来,造成相临胶层之间的对位精准度往往难以达到业界理想要求质量的问题。
[0004] 虽然,针对所述多层复合式形态的光学膜结构,亦有相关业界采用双基材各别涂布胶层后再加以迭合成单一光学膜结构的成型方式;然而,此种方式除了需增加基材用量与成本的缺点外,其双基材再进行迭合过程中同样存在误差度高、对位精准度难以达到业界理想要求质量的问题与缺弊,且制造成型过程更严重欠缺效率,实为值得业界再加以思索改进的重要技术课题。

发明内容

[0005] 本发明的主要目的在于提供一种单片双面涂布式光学膜的成型机构,其所欲解决的技术问题系针对如何研发出一种更具理想实用性的新式光学膜成型机构为目标,加以思索创新突破。
[0006] 为达到上述目的,本发明采用以下技术方案:
[0007] 一种单片双面涂布式光学膜的成型机构,包括一第一滚轮组以导入一光学膜基材,且第一滚轮组并组配有一第一供胶装置以供应胶剂,令第一滚轮组能于光学膜基材的第一表面滚压成型一第一光学层;一压合成型单元,设置于第一滚轮组的流程后置处,压合成型单元包括互成上、下间隔配置关系的一压合座以及一载台,其中该载台供光学膜基材通过与承载,该压合座能够朝载台方向产生压合动作,且该压合座的压合面设有一第二光学层,藉以压合于光学膜基材的第二表面,且该第二光学层的位置与第一表面的第一光学层位置相对位;至少一定位标记,于成型第一光学层且通过第一滚轮组时,同步成型于光学膜基材的第一表面上且位于第一光学层的设定间隔位置处;至少一定位传感器,设于压合成型单元的压合座至少一处且位于第二光学层的设定间隔位置,该定位传感器系藉以侦测感应光学膜基材所设定位标记,以取得压合座执行压合动作的精确位置与时点;且令定位传感器、第二光学层之间的设定间隔形态,系与定位标记、第一光学层之间的设定间隔形态相同。
[0008] 本发明的主要效果与优点,系可于单一光学膜基材的相对二表面成型能够精准对位的二光学层,达到降低制造成本且大幅提升光学膜成型精度、质量与效率的实用进步性及较佳产业经济效益。附图说明
[0009] 图1为本发明成型机构较佳实施例的平面简示图。
[0010] 图2为本发明的光学膜成型态样变化示意图。
[0011] 图3为本发明的第一滚轮组于光学膜基材第一表面同步成型第一光学层与定位标记的实施状态立体示意图。
[0012] 图4为本发明的压合成型单元实施形态的立体示意图。
[0013] 图5为本发明的局部结构立体图。

具体实施方式

[0014] 如图1、2、3、4所示,本发明单片双面涂布式光学膜的成型机构的较佳实施例,惟此等实施例仅供说明之用,在专利申请上并不受此结构的限制;所述成型机构A包括一第一滚轮组10,该第一滚轮组10藉以导入一光学膜基材20(通常为一透明胶膜),且该第一滚轮组10并组配有一第一供胶装置30以供应一胶剂40,令第一滚轮组10能够于光学膜基材20的第一表面201(仅标示于图2、3)滚压成型一第一光学层21;而本发明的特征包括:一压合成型单元50,设置于第一滚轮组10的流程后置处,该压合成型单元50包括互成上、下间隔配置关系的一压合座51以及一载台52,其中该载台52供光学膜基材20通过与承载,该压合座51能够朝载台52方向产生压合动作,且该压合座51的压合面53设有一第二光学层22,藉以压合于光学膜基材20的第二表面202(仅标示于图2、4),且该第二光学层22的位置与第一表面201的第一光学层21位置相对位;至少一定位标记60,如图3所示,系于成型第一光学层21且通过第一滚轮组10时,同步成型于光学膜基材20的第一表面201上,且位于第一光学层21的设定间隔位置处;至少一定位传感器70,设于压合成型单元50的压合座51至少一处,且位于第二光学层22的设定间隔位置,该定位传感器70系藉以侦测感应光学膜基材20所设定位标记60,以取得压合座51执行压合动作(如图1、4的箭号L1所示)的精确位置与时点(注:该压合座51可依据定位传感器70的感应讯号回馈,进行横向位移动作以进行定位);且其中,令所述定位传感器70、第二光学层22之间的设定间隔形态(包括间隔距离与方位),与定位标记60、第一光学层21之间的设定间隔形态(包括间隔距离与方位)相同。
[0015] 通过上述结构组成设计,可令光学膜基材20的第一、第二表面201、202所成型的第一、第二光学层21、22得以获致精准对位成型状态;概因,本发明通过该压合成型单元50于光学膜基材20第二表面202压合成型该第二光学层22的技术特征,能够通过单一成型机构A的前后作业流程,于单一光学膜基材20的第一、第二表面201、202成型第一、第二光学层21、22,且所述第一、第二光学层21、22能够通过定位传感器70对定位标记60的感应功能,达到彼此精准对位的功效;又所述定位传感器70、第二光学层22之间设定间隔形态与定位标记60、第一光学层21之间设定间隔形态相同的技术特征,当定位传感器70与定位标记60精准对位时,即可确保第一、第二光学层21、22可精准对位,藉此使得业界能够透过最简单的方式达到其精准对位的功效诉求。
[0016] 如图1所示,其中该压合成型单元50的载台52并可设置有照射硬化装置80(可为一紫外线照射灯),藉以加速该第二光学层22的硬化定型。
[0017] 其中该定位传感器70可为影像撷取器,该定位标记60则设成同心多圆圈形状者(如图3所绘示)。藉此同心多圆圈形状的定位标记60形态特征,主要系可更利于透过向内圈搜寻的影像辨识手段找到中心点,以达到快速且精准定位的功效。本段所揭的定位传感器70与定位标记60形态系为一较佳实施形态的列举,并不局限于此;例如其他采用红外线感应、雷射感应等感应定位技术,均为可具体实施的形态。
[0018] 如图1所示,其中该压合成型单元50的流程后置处更可设置有后置滚轮组90(或后置压合成型单元),以接续该压合成型单元50进行后续更多光学层或金属电路层的结合成型作业。亦即,本发明所揭成型机构A的主要核心技术在于能够令光学膜基材20的第一、第二表面201、202可成型精准对位的第一、第二光学层21、22的特征部份,至于其光学膜最终成品形态的复合层数量为何并无局限,例如图2所示光学膜的最终成品形态,其第一光学层21以及第二光学层22上系为各别再结合有一奈米银电路层23以及一封装层24的多层复合形态,此种光学膜可应用作为液晶显示面板的表面光学构造。
[0019] 如图3、4所示,其中该光学膜基材20的第一表面201于定位标记60成型位置的相异位置处,更可成型有至少一检视用参考标记65,所述检视用参考标记65于成型第一光学层21且通过第一滚轮组10时同步成型;以使压合成型单元50的压合座51所设第二光学层22相对应处预设有与该检视用参考标记65相配合的检视用对位标记66;藉此,当该第二光学层22压合于光学膜基材20的第二表面202后,操作人员能够透过肉眼目视该检视用对位标记66与检视用参考标记65之间的对位状态,快速辨识判断光学膜基材20的第一、第二光学层21、22是否获致精准对位状态。
[0020] 如图3、4所示,其中该检视用参考标记65、检视用对位标记66二者可设成一圆圈加外十字图案与一内十字图案相配合的标记形态。
[0021] 如图1所示,其中该成型机构A的第一滚轮组10与压合成型单元50之间更可设置有一导送缓冲机构15,藉以对光学膜基材20的导送动作产生缓冲作用以因应导送速度的变化状态;此部份详而言之,因为压合成型单元50的压合座51每次产生压合动作时,原本前进位移的光学膜基材20必定会产生一定时间的停顿状态,但此过程中该第一滚轮组10仍旧会持续导送光学膜基材20前进,为免介于其间的光学膜基材20因速度差形成皱折,所述导送缓冲机构15即可解决此问题点;而所述导送缓冲机构15具体实现上如图1所示,可为但不限于通过间隔错置的复数滚轴所构成者。
[0022] 如图5所示,其中该成型机构A的第一滚轮组10对应位置处更可设有对位检测器16、一前后向调整螺杆装置17以及一左右向调整螺杆装置18,系可通过该对位检测器16侦测光学膜基材20的导送位移精度状态(包括前后向以及左右向的误差状态),复通过前后向调整螺杆装置17来调整光学膜基材20的进退,另通过左右向调整螺杆装置18来调整光学膜基材20的左右位置,藉此以保持光学膜基材20导送位移状态的精准度。
[0023] 本发明的优点说明:
[0024] 本发明单片双面涂布式光学膜的成型机构主要通过该第一滚轮组流程后置处更包括有所述压合成型单元、定位标记、定位传感器等结构的创新独特结构形态与技术特征,使本发明对照[背景技术]所提现有结构而言,可于单一光学膜基材的相对二表面成型能够快速精准对位的二光学层,达到降低制造成本且大幅提升光学膜成型精度、质量与效率的实用进步性及较佳产业经济效益。
[0025] 此外,通过该检视用对位标记与检视用参考标记的另一技术特征,当第二光学层压合于光学膜基材的第二表面之后,操作人员能够轻易透过肉眼目视该检视用对位标记与检视用参考标记之间的对位状态,快速辨识判断光学膜基材的第一、第二光学层是否获致精准对位状态,以避免机器存在误差而操作人员仍不得而知的情况发生,达到提升光学膜成型作业精度监控效率与质量的优点。
[0026] 以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
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