1.一种阻挡膜，其依序包括基底层、无机层和树脂层，并包括存在于所述基底层与所述无机层之间的第一介电层和存在于所述无机层与所述树脂层之间的第二介电层中的至少一个，以及满足以下表达式1或表达式2：
[表达式1]
np≤ns≤n1[表达式2]
np≤ns≤n2在表达式1和表达式2中，np为所述树脂层的折射率，ns为所述基底层的折射率，n1为所述第一介电层的折射率，n2为所述第二介电层的折射率，以及ni为所述无机层的折射率。
2.权利要求1所述的阻挡膜，其依序包括所述基底层、所述第一介电层、所述无机层、所述第二介电层和所述树脂层，且满足以下表达式1或表达式2：
[表达式1]
np≤ns≤n1[表达式2]
np≤ns≤n2在表达式1和表达式2中，np为所述树脂层的折射率，ns为所述基底层的折射率，n1为所述第一介电层的折射率，n2为所述第二介电层的折射率，以及ni为所述无机层的折射率。
3.权利要求2所述的阻挡膜，其满足表达式1和表达式2。
4.权利要求2所述的阻挡膜，其中，当n1等于或大于n2(n1≥n2)时，d1等于或小于d2(d1≤d2)，以及当n2等于或大于n1(n2≥n1)时，d2等于或小于d1(d2≤d1)，其中d1为所述第一介电层的厚度，以及d2为所述第二介电层的厚度。
5.权利要求2所述的阻挡膜，其中，当n1大于n2(n1>n2)时，所述第一介电层具有小于
450nm的厚度，以及当n2大于n1(n2>n1)时，所述第二介电层具有小于450nm的厚度。
6.权利要求2所述的阻挡膜，其满足表达式1和表达式2，其中，当n1等于或大于n2(n1≥n2)时，所述第一介电层具有等于或大于100nm且小于450nm的厚度，以及当n2等于或大于n1(n2≥n1)时，所述第二介电层具有等于或大于100nm且小于450nm的厚度。
7.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述第一介电层的折射率n1或所述第二介电层的折射率n2在1.35至1.9的范围内。
8.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述树脂层的折射率np在1.4至1.7的范围内。
9.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述基底层的折射率ns在1.45至1.78的范围内。
10.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述无机层的折射率ni为1.65以上。
11.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述第一介电层的折射率n1和所述无机层的折射率ni满足以下表达式3：
[表达式3]
0.3≤(n1-1)/(ni-1)≤0.95。
12.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述第二介电层的折射率n2和所述无机层的折射率ni满足以下表达式6：
[表达式6]
0.3≤(n2-1)/(ni-1)≤0.95。
13.权利要求1所述的阻挡膜，其中，根据ASTM E313的黄度指数在-2.5至2.5的范围内。
14.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述无机层包括选自Al、Zr、Ti、Hf、Ta、In、Sn、Zn、Ce和Si的金属的一种或多种氧化物或氮化物。
15.权利要求14所述的阻挡膜，其中，所述无机层包含氧化锌锡。
16.权利要求1所述的阻挡膜，其中，所述第一介电层或所述第二介电层为有机层或有机-无机复合层。
17.权利要求16所述的阻挡膜，其中，所述第一介电层或所述第二介电层包含选自基于丙烯酰基的树脂、基于聚氨酯的树脂、蜜胺树脂、醇酸树脂、基于环氧的树脂、基于硅氧烷的聚合物以及式1表示的有机硅烷化合物的至少一种：
[式1]
式1中，X为氢、卤素、烷氧基、酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基或-N(R2)2，其中R2为氢或烷基，R1为烷基、烯基、炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基烯基、烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基、卤素、氨基、酰胺基、醛基、烷基羰基、羧基、巯基、氰基、羟基、烷氧基、烷氧基羰基、磺酰基、磷酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基或环氧基，以及Q为单键、氧原子或-N(R2)-，其中R2为氢原子或烷基，以及m为1至3范围内的数值。
18.权利要求16所述的阻挡膜，其中，所述第一介电层或第二介电层包含选自以下式2表示的金属醇盐化合物的至少一种化合物：
[式2]
式2中，M为选自铝、锆和钛的金属，以及R3为卤素、烷基、烷氧基、酰氧基或羟基，以及z为
3或4。
19.一种制备阻挡膜的方法，包括在基底层上形成无机层和树脂层，并包括在所述基底层与所述无机层之间形成第一介电层，或在所述无机层与所述树脂层之间形成第二介电层，以及满足以下表达式1或表达式2：
[表达式1]
np≤ns≤n1[表达式2]
np≤ns≤n2在表达式1和表达式2中，np为所述树脂层的折射率，ns为所述基底层的折射率，n1为所述第一介电层的折射率，n2为所述第二介电层的折射率，以及ni为所述无机层的折射率。
20.一种制备阻挡膜的方法，包括在所述基底层上层合第一介电层、无机层、第二介电层和树脂层，并满足以下表达式1或表达式2：
[表达式1]
np≤ns≤n1[表达式2]
np≤ns≤n2在表达式1和表达式2中，np为所述树脂层的折射率，ns为所述基底层的折射率，n1为所述第一介电层的折射率，n2为所述第二介电层的折射率，以及ni为所述无机层的折射率。