1.一种可变反射率柔性薄膜器件，其特征在于，由柔性薄膜基底和在柔性薄膜基底上依次沉积的高反射率导电层、电致变色层、离子导电层、离子储存层和透明导电层组成；其中，所述高反射率导电层的厚度为200nm～500nm，其反射率大于90％；所述电致变色层的厚度为300nm～600nm，由氧化钨制成；所述离子导电层的厚度为200nm～400nm，由钽酸锂或铌酸锂制成；所述离子储存层的厚度为150nm～300nm，由氧化镍制成；所述透明导电层的厚度为50nm～90nm，由掺锡氧化铟或掺铝氧化锌制成。
2.如权利要求1所述的可变反射率柔性薄膜器件，其特征在于，所述反射率导电层由铝或银制成。
3.如权利要求1所述的可变反射率柔性薄膜器件，其特征在于，所述柔性薄膜基片的材料为聚酰亚胺或聚酯，厚度小于100μm。
4.一种制备如权利要求1所述可变反射率柔性薄膜器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1，将柔性薄膜基底依次在丙酮、无水乙醇中超声清洗，然后烘干，放入镀膜机真空室之后抽真空，然后用离子源轰击进行离子清洗和表面活化；
步骤2，采用直流磁控溅射技术在柔性薄膜基底上镀制高反射率导电层；
步骤3，采用直流磁控溅射技术在高反射率导电层上制备电致变色层；
步骤4，采用射频磁控溅射技术在电致变色层上制备离子导电层；
步骤5，采用直流磁控溅射技术在离子导电层上制备离子储存层；
步骤6，采用射频磁控溅射技术在离子储存层上制备透明导电层。