1.一种器件(5,5′,10)，它包括与生物溶液或流体接触使用的至少一层构图聚合物层(4,4′)，其中所述构图聚合物层(4,4′)的长径比大于5，且由聚合丙烯酸类和/或环氧可聚合材料制造。
2.权利要求1的器件(5,5′,10)，其中所述构图聚合物层的表面的可润湿性小于或等于50°，优选小于40°。
3.权利要求1的器件(5,5′,10)，其中所述构图聚合物层(4,4′)的长径比大于10，优选大于20。
4.权利要求1的器件(5,5′,10)，其中所述丙烯酸类可聚合材料包括至少一种多羟基化合物三(甲基)丙烯酸酯单体和至少一种聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯单体的混合物。
5.权利要求4的器件(5,5′,10)，其中所述多羟基化合物三(甲基)丙烯酸酯单体选自多羟基化合物三(甲基)丙烯酸酯乙氧化物或丙氧化物单体。
6.权利要求5的器件(5,5′,10)，其中所述多羟基化合物三(甲基)丙烯酸酯单体选自三羟甲基丙烷三丙烯酸酯乙氧化物(TMPEOTA)，三羟甲基丙烷三丙烯酸酯丙氧化物(TMPPOTA)，季戊四醇三丙烯酸酯乙氧化物(PETEOIA)，甘油基三丙烯酸酯丙氧化物(GPTA)，双酚A三甲基丙烯酸酯乙氧化物，和三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯乙氧化物(TMPETMA)。
7.权利要求4的器件(5,5′,10)，其中所述聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯单体选自聚丙二醇单甲基丙烯酸酯，聚乙二醇单甲基丙烯酸酯，聚乙二醇-聚丙二醇单甲基丙烯酸酯，聚丙二醇单丙烯酸酯，聚乙二醇单丙烯酸酯，聚丙二醇聚三亚甲基单丙烯酸酯，聚乙二醇聚四亚甲基二醇单甲基丙烯酸酯，甲氧基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯，全氟烷基乙基聚氧亚烷基单甲基丙烯酸酯，及其结合物。
8.权利要求1的器件(5,5′,10)，其中所述环氧可聚合材料包括(i)脂环族环氧树脂；(ii)多元酚缩水甘油基醚的环氧树脂，缩水甘油基酯的环氧树脂，或其混合物。
9.权利要求8的器件(5,5′,10)，其中所述脂环族环氧树脂选自2,4-环氧基环己TM
基甲基-(3,4-环氧基)环己烷羧酸酯(ERL4221 ，Union Carbide Plastics Company,TM
或Araldite CY179，Ciba Products Company)，3,4-环氧基环己基甲基-(3,4-环氧基)TM
环己烷羧酸酯(Cyracure UVR-6105,Dow Chemical)，双(3,4-环氧基-6-甲基环己基TM TM
甲基)己二酸酯(ERL4289 ，Union Carbide Plastics Company，Araldite CY178，Ciba Products Company)，双(3,4-环氧基环己基甲基)己二酸酯(EHPE3150，Daicel Chemical TM
Industries)，乙烯基环己烯二氧化物(ERL4206 ,Union Carbide Plastics Company)，双TM
(2,3-环氧基环戊基)醚树脂(ERL4205 ,Union Carbide Plastics Company)，2-(3,4-环氧基)环己基-5,5-螺(3,4-环氧基)-环己烷-间-二 烷(AralditeTMCY175,Ciba Products Company)和它们的混合物。
10.权利要求1的器件(5,5′,10)，其中所述丙烯酸类和/或环氧可聚合材料包括相对于总重量，约1%-约25wt%的至少一种热引发剂或至少一种对UV和/或蓝光辐射敏感的引发剂(光引发剂)。
11.权利要求10的器件(5,5′,10)，其中所述丙烯酸类可聚合材料包括选自Esacure KIP 100，KIP 150，Esacure KTO-46和Esacure ONE中的至少一种多官能的光引发剂。
12.权利要求10的器件(5,5′,10)，其中所述环氧可聚合材料包括选自芳族碘鎓盐和芳族锍盐中的至少一种阳离子光引发剂。
13.权利要求1的器件(5,5′,10)，其中所述构图聚合物层粘附到基底上，所述基底由选自硅，聚合物，光聚合物和金属中的至少一种材料制成。
14.生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，所述方法包括下述阶段：
(a)用聚合抑制剂表面处理事先形成的模具(1,1′)，
(b)将丙烯酸类和/或环氧液体可聚合制剂(2,2′)倾倒在所述模具(1,1′)内，(c)在所述液体可聚合制剂(2,2′)上定位所述基底(3,3′)，
(d)聚合所述液体可聚合制剂(2,2′)，和
(e)将所述模具(1,1′)与所述构图聚合物层(4,4′)相分离。
15.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，所述方法包括：
(f)表面处理所述基底(3,3′)。
16.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中所述液体可聚合制剂(2,2′)是丙烯酸类，和特征在于所述模具(1,1′)的所述表面处理包括形成物理吸收到模具表面上的分子氧层。
17.权利要求16的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中所述模具(1,1′)的所述表面处理包括低能氧等离子体处理。
18.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中所述液体可聚合制剂(2,2′)是环氧，和特征在于所述模具(1,1′)的所述表面处理包括用路易斯酸的等离子体，用氨基硅烷或用氨气处理。
19.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中所述液体可聚合制剂(2,2′)是丙烯酸类，和特征在于所述基底(3,3′)的表面处理包括用氮气，形成气体，或稀有气体等离子体处理。
20.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中所述液体可聚合制剂(2,2′)是环氧，和特征在于所述基底(3,3′)的表面处理包括用稀有气体，氧气，形成气体，或氮气的等离子体处理。
21.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中所述基底(3,3′)由聚合物材料制造。
22.权利要求21的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中所述液体可聚合制剂(2,2′)包括选自酮，醇，烃，和亚砜的至少一种有机溶剂。
23.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中在30℃-120℃的温度下进行所述倾倒(b)。
24.权利要求23的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中在50℃-100℃的温度下进行所述倾倒(b)。
25.权利要求24的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中在60℃-90℃的温度下进行所述倾倒(b)。
26.权利要求22的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中在室温下进行所述倾倒(b)。
27.权利要求26的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中在所述定位(c)的过程中，加热包括所述模具，所述制剂和所述基底的系统到40℃-130℃，优选80℃-90℃的温度。
28.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中通过暴露于UV-蓝光辐射，通过热法，或者通过其结合方法，进行所述聚合(d)。
29.权利要求28的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中在光引发剂存在下，通过暴露于波长为200-500nm的UV-蓝光辐射线下，进行聚合(d)。
30.权利要求28的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中通过热处理，在低于135℃的温度下，在热引发剂存在下进行聚合(d)。
31.权利要求14的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中在至少一个热循环之后，机械进行所述分离(d)。
32.权利要求31的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中首先通过加热到高于50℃的温度，然后冷却到低于30℃的温度，进行所述热循环。
33.权利要求32的生产粘附到基底(3,3′)上的构图聚合物层(4,4′)的方法，其中通过首先加热到60℃-100℃的温度，然后冷却到室温，进行所述热循环。
34.一种器件(5,5′,10)，它包括粘附到基底(3,3′)上的至少一层构图聚合物层(4,4′)，其中所述构图聚合物层(4,4′)的长径比大于5，且通过聚合丙烯酸类和/或环氧可聚合材料制造，和其中所述基底由选自硅，聚合物，光聚合物，和金属中的至少一种材料制造。