1.一种研磨液供应装置，包括：
喷嘴，构造成喷射研磨液；
研磨液供应单元，构造成接收来自所述喷嘴的研磨液并经由至少一个研磨液孔排出研磨液；
接收单元，构造成允许所述研磨液供应单元安装在其中，以使得能够排出来自所述研磨液供应单元的研磨液，所述接收单元构造成环绕所述研磨液供应单元接收流动材料；以及
研磨液保护单元，构造成与所述流动材料一起封围用于研磨液从所述喷嘴的出口到所述研磨液供应单元的入口穿过的空间，
所述研磨液保护单元包括：喷嘴接收凹部，布置成面向所述研磨液供应单元的入口，所述喷嘴接收凹部构造成允许所述喷嘴安装在其中；以及主盖，构造成与所述流动材料一起气密密封用于研磨液穿过的所述空间，
其中，所述主盖包括：上端部；和从所述上端部延伸的第一侧壁部，
所述上端部沿第一方向延伸，所述第一侧壁部沿第二方向延伸，并且所述第二方向是研磨液的排出方向并且垂直于所述第一方向，
其中，所述主盖具有与所述流动材料间隔开的端部，
其中，所述主盖还包括辅助盖，所述辅助盖沿所述第一方向从所述第一侧壁部突伸以覆盖所述流动材料的顶部。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述上端部具有第一曲率半径，而所述第一侧壁部具有第二曲率半径。
3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，
所述第一曲率半径和所述第二曲率半径是相同的。
4.如权利要求2所述的装置，其特征在于，
所述第一曲率半径和所述第二曲率半径是不同的。
5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述上端部和所述第一侧壁部中每一个都是锥形的并且彼此一体形成。
6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述主盖具有浸没在所述流动材料中的端部。
7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述喷嘴和所述研磨液保护单元是固定的，并且所述研磨液供应单元和所述接收单元是可旋转的。
8.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述研磨液供应单元、所述研磨液保护单元和所述接收单元中每一个都具有相同的平面形状。
9.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述研磨液供应单元、所述研磨液保护单元和所述接收单元中每一个都具有环形平面形状。
10.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述流动材料包括高纯水。
11.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述接收单元包括：
底部；和
第二侧壁部，从所述底部延伸以限定构造成将所述流动材料接收在其中的空间。
12.如权利要求11所述的装置，其特征在于，
所述底部包括：
供应单元接收凹部，构造成允许所述研磨液供应单元安装在其中；和
通孔，用于从所述研磨液孔中排出的研磨液流出。
13.如权利要求12所述的研装置，其特征在于，
所述供应单元接收凹部具有一深度，所述深度小于所述研磨液供应单元的高度和所述流动材料的高度之间的差。
14.如权利要求12所述的装置，其特征在于，
所述研磨液供应单元螺接到所述供应单元接收凹部。
15.如权利要求11所述的装置，其特征在于，
所述第二侧壁部与所述第一侧壁部隔开。
16.如权利要求11所述的装置，其特征在于，
所述接收单元还包括溢出防护部，所述溢出防护部从所述接收单元的所述第二侧壁部向内突伸并延伸，以覆盖所述流动材料的表面的至少一部分。
17.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
还包括：
第一储池，构造成储存补充流动材料；和
第一管，构造成限定用于所述补充流动材料从所述第一储池到所述接收单元的通道的路径。
18.如权利要求17所述的装置，其特征在于，
还包括：
测量单元，构造成测量接收在所述接收单元中的流动材料的数量；
阀控制件，构造成基于流动材料的接收数量而产生控制信号；以及
第一阀，构造成响应于所述控制信号调节将要从所述第一储池供应到所述接收单元的补充流动材料的数量。
19.如权利要求1所述的装置，其特征在于，
还包括：
第二储池，构造成储存清洗溶液；和
第二管，构造成限定用于所述清洗溶液从所述第二储池到所述接收单元的通道的路径。
20.如权利要求19所述的装置，其特征在于，
还包括第二阀，所述第二阀构造成调节将要从所述第二储池供应到所述接收单元的清洗溶液的数量。
21.一种抛光设备，包括：
上板和下板，构造成对将要抛光的物体的上表面和下表面进行抛光；
驱动单元，构造成使所述上板旋转；以及
如权利要求1至20中任一项所述的研磨液供应装置。
22.如权利要求21所述的抛光设备，其特征在于，
所述第一储池或所述第二储池的至少一个安装到所述上板，以与所述上板一起旋转。