基体的保护方法

申请号 CN200780004601.8 申请日 2007-02-01 公开(公告)号 CN101378854A 公开(公告)日 2009-03-04
申请人 萨斯堤那普尔科技股份有限公司; 发明人 绪方四郎;
摘要 本 发明 的目的在于提供防止或降低基体经时褪色或变色、保护基体的新方法,其特征在于,在基体表面上或基体表 面层 中配置正电荷物质。
权利要求

1、防止或降低基体表面污染的方法,其特征在于,在基体表面上 或基体表面层中配置正电荷物质。
2、基体表面的保护方法,其特征在于,在基体表面上或基体表面 层中配置正电荷物质。
3、如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述正电荷物质是 选自下述物质中的一种或二种以上的具有正电荷的物质,(1)阳离子;
(2)具有正电荷的导电体或电介质;及
(3)导电体与电介质或半导体复合体
4、如权利要求1~3中任一项所述的方法,其特征在于,所述基体 为亲性或疏水性或拒水性或拒油性。
5、如权利要求1~4中任一项所述的方法,其特征在于,所述正电荷 物质形成层。
6、如权利要求5所述的方法,其特征在于,在所述基体表面和所述 正电荷物质层之间形成中间层
7、如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述中间层含有氟类拒 水剂。
8、一种物品,具有通过权利要求1~7中任一项所述的方法使表面 污染被防止或降低、或使表面被保护的基体。

说明书全文

技术领域

发明涉及通过在基体表面赋予正电荷来防止或降低该表面的污 染以及保护该表面的方法。

背景技术

迄今为止,已知被着色的各种基体(例如,印刷品、建材、纤维、 有机高分子树脂制品等)会经时发生褪色或变色。作为上述褪色或变 色的原因,可以举出光引起的劣化、基体表面附着污染物质等,作为 其对策,考虑了各种方法。
例如,为了防止光引起的劣化,采用在基体中混入紫外线吸收剂 等的方法。
另一方面,为了防止及除去基体表面的污染物质的附着,也开发 了在基体表面形成具有防污功能或自清洁功能的被膜的方法。作为该 方法,例如有特开平9-262481号公报中记载的使用锐矿型化钛 形成光触媒层的方法等。

发明内容

但是,在基体中混入紫外线吸收剂时,有时因基体中成分的作用 导致紫外线吸收剂分解,无法充分发挥紫外线吸收效果。
另外,赋予基体表面光触媒功能时,因基体种类的不同,可能导 致在光触媒作用下基体自身分解劣化。还由于具有光触媒功能的基体 带有负电荷而存在静电吸附具有正电荷的污染物的问题。
本发明的目的在于提供防止或降低基体的经时性褪色或变色、同 时防止或降低污染物附着的新方法。
本发明的目的通过在基体表面上或基体表面层中配置正电荷物质 而实现。正电荷物质优选为选自(1)阳离子;(2)具有正电荷的导电 体或电介质;及(3)导电体与电介质或半导体复合体中的1种或2种 以上具有正电荷的物质。
上述基体优选为亲性或疏水性或拒水性或拒油性。
上述正电荷物质优选形成层,此时,可以在上述基体表面和上述正 电荷物质层之间形成中间层。中间层优选含有氟类拒水剂。
浮游于大气中的污染物质及/或附着于基体上的污染物质在太阳 光等的作用下被光氧化,带有正电荷,但由于实施了本发明方法的基 体表面也存在正电荷,所以上述污染物质受到静电排斥而自然从基体 表面脱离。因此,可以自清洁基体表面。
另外,上述基体为亲水性或疏水性或拒水性或拒油性时,可以在维 持上述性质的状态下使基体增加上述自清洁作用,所以能长期防止或降 低污染物质对基体表面的附着。
另外,根据本发明的方法处理后的基体对太阳光等的作用本身 也具有高抵抗性,可以良好地保护基体免受太阳光等导致的光劣化。 另外,具有中间层时,通过选择中间层的材料,能够赋予基体任意的 表面特性。
通过上述作用,本发明可长期地防止或降低基体的褪色或变色。
附图说明
[图1]表示利用本发明所使用的复合体赋予正电荷的机制的概 念图。
[图2]表示金属掺杂氧化钛的第1制备方法之一例的简图。
[图3]表示赋予基体正电荷的第1方案的概念图
[图4]表示赋予基体正电荷的第2方案的概念图。
[图5]表示赋予基体正电荷的第3方案的概念图。
[图6]表示从带有正电荷的基体表面除去污染物质的机制的概 念图。

具体实施方式

作为基体表面褪色或变色的原因之一的污染物质是通过浮游于 大气中的炭(carbon)等无机物质及/或油等有机物质慢慢地堆积在基 体表面从而附着在基体表面。
本发明的特征在于通过静电排斥作用,从基体上除去上述污染物 质,或者避免或降低上述污染物质附着于基体。
主要浮游于室外的大气中的污染物质特别是油分在以太阳光为 代表的各种电磁波的作用下发生所谓的光氧化反应,处于被“氧化”的 状态。
光氧化反应是指在以太阳光为代表的电磁波的作用下,由有机物 或无机物表面的水分(H2O)、氧(O2)产生羟基自由基(·OH)或 单态氧(1O2)时,从该有机物或无机物中夺走电子(e-)而使该有 机物或无机物被氧化的现象。通过该氧化,有机物分子结构发生变化 而呈现出被称为劣化的变色或脆化现象,无机物特别是金属会生锈。 上述被“氧化”的有机物或无机物的表面由于电子(e-)被夺走而带正 电。
本发明中,通过赋予基体表面正电荷,利用静电排斥使上述有 机物或无机物从基体表面自然地脱离。作为赋予基体表面正电荷的方 法,例如可以举出在基体表面配置选自阳离子、具有正电荷的导电体 或电介质、导电体与电介质或半导体的复合体、或上述物质的混合物 中的正电荷物质的方法。
作为上述阳离子,没有特别限定,优选、铯、铟、铈、硒、 铬、镍、锑、、锰、钨、锆、锌等金属元素的离子,特别优选铜 离子。还可以使用甲基紫、俾斯麦棕、亚甲蓝、孔雀绿等阳离子染料、 被含有季氮原子的基团改性的氧烷等具有阳离子基团的有机分子。离 子的价数也没有特别限定,例如可以使用1~4价的阳离子。
作为上述金属离子的供给源,也可以使用金属盐。具体而言,可以 举出氯化铝、氯化亚锡及氯化锡、氯化铬、氯化镍、氯化亚锑及氯化锑、 氯化亚铁及氯化铁、氯化铯、三氯化铟、氯化亚铈、四氯化硒、氯化铜、 氯化锰、四氯化钨、二氯氧化钨、钨酸、氯氧化锆、氯化锌、酸钡 等各种金属盐。还可以使用氢氧化铝、氢氧化铁、氢氧化铬等金属氢氧 化物。
作为具有正电荷的导电体或电介质,可以举出除上述阳离子以外的 产生正电荷的导电体或电介质,例如可以举出由下述各种导电体形成的 电池的正电极、以及通过摩擦而带正电的羊毛、尼龙等电介质。
接下来,将通过上述复合体赋予正电荷的原理示于图1。图1表示 在省略图示的基体的表面上或表面层中排列导电体-电介质或半导 体-导电体的组合的概念图。导电体因可自由移动的自由电子以高浓 度存在于内部,可以使表面具有正电荷状态。另外,作为导电体也可 使用含有阳离子的导电性物质。
另一方面,与导电体邻接的电介质或半导体因导电体表面电荷状 态的影响而发生电介质极化。结果导致电介质或半导体中与导电体邻 接的一侧产生负电荷,非邻接一侧产生正电荷。通过该作用,使导电 体-电介质或半导体-导电体的组合的表面带有正电荷,并赋予基体 表面正电荷。可以使上述复合体的尺寸(是指通过复合体的最长轴的长 度)为1nm~100μm,优选为1nm~10μm,较优选为1nm~1μm,更优选 为1nm~100nm的范围。
从耐用性的观点考虑,构成用于本发明的复合体的导电体优选金 属,可以举出铝、锡、铯、铟、铈、硒、铬、镍、锑、铁、、铜、 锰、铂、钨、锆、锌等金属。还可以使用上述金属的复合体或合金。 导电体的形状没有特别限定,可以为粒子状、薄片状、纤维状等任意 形状。
作为导电体,也可以使用部分金属的金属盐。具体地可以列举氯 化铝、氯化亚锡及氯化锡、氯化铬、氯化镍、氯化亚锑及氯化锑、氯 化亚铁及氯化铁、硝酸银、氯化铯、三氯化铟、氯化亚铈、四氯化硒、 氯化铜、氯化锰、氯化铂、四氯化钨、二氯氧化钨、钨酸钾、氯化金、 氯氧化锆、氯化锌、磷酸铁锂等各种金属盐。另外,也可使用氢氧化 铝、氢氧化铁、氢氧化铬等上述导电体金属的氢氧化物,及氧化锌等 上述导电体金属的氧化物。
作为导电体,也可以使用聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、聚噻吩维尼 纶、聚异硫茚、聚乙炔、聚烷基吡咯、聚烷基噻吩、对聚苯、聚苯撑 维尼纶、聚甲氧基苯撑、聚苯硫醚、聚苯醚、聚蒽、聚、聚芘、聚 薁等导电性高分子。
作为半导体,例如有C、Si、Ge、Sn、GaAs、InP、GeN、ZnSe、 PbSnTe等,也可以使用半导体氧化金属或光半导体金属、光半导体 氧化金属。优选氧化钛(TiO2),除此之外还优选使用ZnO、SrTiOP3、 CdS、CdO、CaP、InP、In2O3、CaAs、BaTiO3、K2NbO3、Fe2O3、Ta2O3、 WO3、NiO、Cu2O、SiC、SiO2、MoS3、InSb、RuO2、CeO2等,优选 用Na等使光触媒功能失活的物质。
作为电介质,可以使用强电介质钛酸钡(PZT)、所谓的SBT、 BLT或以下所列举的PZT、PLZT-(Pb、La)(Zr、Ti)O3、SBT、 SBTN-SrBi2(Ta、Nb)2O9、BST-(Ba、Sr)TiO3、LSCO-(La、 Sr)CoO3、BLT、BIT-(Bi、La)4Ti3O12、BSO-Bi2SiO5等复合金 属。另外,也可使用作为有机硅化合物的硅烷化合物、硅氧烷化合物、 所谓的有机改性二氧化硅化合物、及有机聚合物绝缘膜丙炔醚类聚合 物(allylene ether polymer)、苯并环丁烯、氟类聚合物聚对二甲苯N 或F、氟化非晶型碳等各种低电介质材料。
作为导电体与电介质或半导体的复合体,只要能赋予基体表面正 电荷,可以使用任意的导电体与电介质或半导体的组合,但是从基体 表面的自清洁化方面考虑,优选使用金属掺杂氧化钛。作为上述金属, 优选选自铜、锰、镍、钴、铁及锌中的至少一种金属元素,作为氧化 钛,可以使用TiO2、TiO3、TiO、TiO3/nH2O等各种氧化物、过氧化 物。特别优选具有过氧基的过氧化钛。氧化钛可以为非晶型、锐钛矿 型、板钛矿型、金红石型中的任一种,上述类型可以混合存在,但是 优选非晶型氧化钛。
非晶型氧化钛不具有光触媒功能。另一方面,锐钛矿型、板钛矿 型及金红石型氧化钛虽然具有光触媒功能,但是如果使其与一定浓度 以上的铜、锰、镍、钴、铁或锌复合,则丧失光触媒功能。因此上述 金属掺杂钛氧化物不具有光触媒功能。另外,非晶型氧化钛因被太阳 光加热等而经时性地转化为锐钛矿型氧化钛,但是与铜、锰、镍、钴、 铁或锌复合时,由于锐钛矿型氧化钛会丧失光触媒功能,因此上述金 属掺杂钛氧化物不会经时性地呈现光触媒功能。
作为上述金属掺杂钛氧化物的制备方法,可以采用以作为通常的 二氧化钛粉末的制备方法的盐酸法或硫酸法为基础的制备方法,也可 以采用各种液体分散二氧化钛溶液的制备方法。上述金属不论在任何 制备阶段都可以与钛氧化物复合。
例如,作为上述金属掺杂钛氧化物的具体制备方法,可以举出以 下的第1~第3制备方法及迄今为止已知的溶胶-凝胶法。
第1制备方法
首先,使四氯化钛等四价钛化合物与反应形成氢氧化钛。 然后用氧化剂使该氢氧化钛过氧化,形成非晶型过氧化钛的超微细粒 子。该反应优选在水性介质中进行。也可以进一步通过任意加热处理 使其转化为锐钛矿型过氧化钛。在上述各工序的任一工序中,混合铜、 锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合物中的至少任意1种。
过氧化用氧化剂没有特别限定,只要能形成钛的过氧化物即过氧 化钛即可,可以使用各种氧化剂,但是优选过氧化氢。使用过氧化氢 水溶液作为氧化剂时,过氧化氢的浓度没有特别限定,但优选为30~ 40%。优选在进行过氧化前冷却氢氧化钛。此时的冷却温度优选为1~ 5℃。
图2表示上述第1制备方法之一例。在图示的制备方法中,在铜、 锰、镍、钴、铁、锌的化合物中的至少1种的存在下混合四氯化钛水 溶液与氨水,使其生成该金属的氢氧化物及钛的氢氧化物的混合物。 对此时的反应混合液的浓度及温度没有特别限定,优选为稀薄溶液且 常温。该反应为中和反应,反应混合液的pH优选最终调节至7左右。
将如上所得的金属及钛的氢氧化物用纯水清洗后,冷却至5℃左 右,然后,用过氧化氢水溶液进行过氧化。由此,可以制备含有掺杂 了金属的非晶型的具有过氧基的钛氧化物微细粒子的水性分散液,即 含有金属掺杂钛氧化物的水性分散液。
第2制备方法
用氧化剂使四氯化钛等四价钛化合物过氧化,使其与氨等碱反应 形成非晶型过氧化钛的超微细粒子。该反应优选在水性介质中进行。 也可进一步通过任意加热处理而转化成锐钛矿型过氧化钛。在上述各 工序的任一工序中,混合铜、锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合 物中的至少任意1种。
第3制备方法
使四氯化钛等四价钛化合物与氧化剂及碱同时反应,进而同时进 行氢氧化钛的形成与氢氧化钛的过氧化,形成非晶型过氧化钛的超微 细粒子。该反应优选在水性介质中进行。也可以进一步通过任意加热 处理转化为锐钛矿型过氧化钛。在上述各工序的任一工序中,混合铜、 锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合物中的至少任意1种。
需要说明的是,在第1~第3制备方法中,当然可以使用非晶型 过氧化钛与将其加热所得的锐钛矿型过氧化钛的混合物作为金属掺 杂钛氧化物。
利用溶胶-凝胶法的制备方法
在烷氧基钛中混合搅拌水、醇等溶剂、酸或碱催化剂,使烷氧基 钛水解,生成钛氧化物超微粒子的溶胶溶液。在该水解前后的任一方, 混合铜、锰、镍、钴、铁、锌或上述金属的化合物中的至少任意1种。 需要说明的是,如上所得的钛氧化物为具有过氧基的非晶型钛氧化 物。
作为上述烷氧基钛,优选为用通式:Ti(OR′)4(其中R′为烷基) 表示的化合物,或用羧基或β-二羰基取代上述通式中的1或2个烷 氧基(OR′)得到的化合物或上述化合物的混合物。
作为上述烷氧基钛的具体例,可以举出Ti(O-isoC3H7)4、Ti (O-nC4H9)4、Ti(O-CH2CH(C2H5)C4H9)4、Ti(O-C17H35) 4、Ti(O-isoC3H7)2[CO(CH3)CHCOCH3]2、Ti(O-nC4H9)2[OC2H4N (C2H4OH)2]2、Ti(OH)2[OCH(CH3)COOH]2、Ti(OCH2CH(C2H5) CH(OH)C3H7)4、Ti(O-nC4H9)2(OCOC17H35)等。
四价钛化合物
作为用于制备金属掺杂钛氧化物的四价钛化合物,只要是与碱反 应时可形成也被称为原钛酸(H4TiO4)的氢氧化钛的化合物即可,可 以使用各种钛化合物,例如有四氯化钛、硫酸钛、硝酸钛、磷酸钛等 钛的水溶性无机酸盐。此外,也可使用草酸钛等钛的水溶性有机酸盐。 需要说明的是,上述各种钛化合物中,从水溶性特别优良且在金属掺 杂钛氧化物的分散液中不残留钛以外的成分方面考虑,优选四氯化 钛。
另外,使用四价钛化合物的溶液时,该溶液的浓度只要为可以形 成氢氧化钛的凝胶的范围即可,没有特别限定,但是优选比较稀薄的 溶液。具体而言,四价钛化合物的溶液浓度优选为5~0.01wt%,更 优选为0.9~0.3wt%。

与上述四价钛化合物反应的碱只要能与四价钛化合物反应形成 氢氧化钛即可,可以使用各种碱,其中,可以举出氨、氢氧化钠、碳 酸钠、氢氧化钾等,优选氨。
另外,使用上述碱的溶液时,该溶液的浓度只要为可形成氢氧化 钛凝胶的范围即可,没有特别限定,但是优选比较稀薄的溶液。具体 而言,碱溶液浓度优选为10~0.01wt%,更优选为1.0~0.1wt%。特 别是使用氨水作为碱溶液时的氨浓度优选为10~0.01wt%,更优选为 1.0~0.1wt%。
金属化合物
作为铜、锰、镍、钴、铁或锌的化合物,可以分别列举以下化合 物。
Ni化合物:Ni(OH)2、NiCl2
Co化合物:Co(OH)NO3、Co(OH)2、CoSO4、CoCl2
Cu化合物:Cu(OH)2、Cu(NO3)2、CuSO4、CuCl2、Cu(CH3COO)2
Mn化合物:MnNO3、MnSO4、MnCl2
Fe化合物:Fe(OH)2、Fe(OH)3、FeCl3
Zn化合物:Zn(NO3)2、ZnSO4、ZnCl2
按照第1至第3制备方法所得的水性分散液中过氧化钛的浓度(含 有共存的铜、锰、镍、钴、铁或锌的总量)优选为0.05~15wt%,更 优选为0.1~5wt%。另外,关于铜、锰、镍、钴、铁、锌的配合量, 以钛与金属成分的摩尔比计算,本发明优选为1:1,从水性分散液的 稳定性方面考虑,优选为1:0.01~1:0.5,更优选为1:0.03~1:0.1。
作为本发明对象的基体没有特别限定,可以使用各种亲水性或疏 水性无机类基体及有机类基体、或上述基体的组合。
作为无机类基体,例如,可以举出由钠玻璃等透明或不透明玻 璃、氧化锆等金属氧化物、陶瓷、混凝土、灰浆、石材、金属等物质 构成的基体。另外,作为有机类基体,例如,可以举出由有机树脂、 木材、纸等物质构成的基体。如果进一步具体列举有机树脂,则例如 可以举出聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯酸类树脂、PET等聚酯、 聚酰胺、聚氨酯、ABS树脂、聚氯乙烯、聚硅氧烷、三聚氰胺树脂、 尿素树脂、有机硅树脂、氟树脂、纤维素、环氧改性树脂等。
基体的形状也没有特别限定,可以采用立方体、长方体、球形、 薄片形、纤维状等任意形状。另外,基体也可以为多孔质。基体表面 可以通过电晕放电处理或紫外线照射处理等进行亲水化。作为基体, 建筑·土木用基板或密封材料、仪器、装置搬运用机身、显示画面是适 合的。
可以对基体的表面进行涂装,作为涂装材料,可优选使用含有醇 酸树脂、丙烯酸树类脂、氨基树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、有机硅 树脂、氟树脂、丙烯酸有机硅树脂、不饱和聚酯树脂、紫外线固化树 脂、树脂、氯乙烯树脂、合成树脂乳胶等合成树脂和着色剂的所 谓油漆涂料。
上述涂装膜的厚度优选为0.01~100μm,较优选为0.1~50μm, 特别优选为0.5μm~10μm。另外,作为涂装方法,例如可以适用喷雾 涂敷法、浸涂法、流涂法、旋涂法、辊涂法、刷涂法、海绵涂敷法等。 需要说明的是,为了提高涂装膜的硬度、与基体的密接性等物理性能, 优选在基体与涂装膜的允许范围内加热。
图3~图5是表示赋予基体表面正电荷的几种方案的概念图。
图3表示在基体表面配置阳离子,进而赋予基体表面正电荷的方案。
图3(1)所示的阳离子的配置例如可以通过溅射法、喷法、离子 镀法(阴极电弧放电型)、CVD涂布、电沉积涂敷、或将基体浸渍在上 述金属离子的盐或氢氧化物的溶液、悬浊液或乳液中进行浸渍涂布的方 法、或至少进行一次在基体上涂布上述金属离子的盐或氢氧化物的溶 液、悬浊液或乳液后进行干燥的工序而形成。也可以通过例如在注塑成 型中,在构成基体的物质的未固化液中混合规定量的比重比该未固化液 高或低的上述具有正电荷的金属离子的盐或氢氧化物,放置规定时间 后,使该液体固化,由此在基体的表层中配置正电荷物质。需要说明的 是,涂装基体时,涂料中可以含有上述正电荷物质。
为了方便起见,图3中配置单层由阳离子组成的正电荷物质层,也 可以为多层。层的厚度优选为0.01μm~2.0μm,较优选为0.03μm~1.0μm。 另外,基体上的正电荷物质层不必是图3所示的连续层,可以为不连续 层。正电荷物质还可以作为簇(cluster)(正电荷物质的集合体)不连 续地分散配置在基体上。需要说明的是,基体表面具有负电荷时,必须 调整正电荷物质的量,以便在中和该负电荷后还能使基体表面维持正电 荷。
图4表示在基体表面配置具有正电荷的导电体或电介质,赋予基体 表面正电荷的方案。
图4所示的导电体或电介质的配置例如可以通过在基体上形成上述 由金属元素组成的金属薄膜,用作省略图示的电池的正电极而得到。图 4的方案中,用导电性或电介质性物质的膜被覆基体表面。膜厚优选为 0.01~100μm,较优选为0.05~50μm,特别优选为0.1~10μm。另外,基 体上的导电体或电介质不必是图4所示的连续层,也可以是不连续层。 导电体或电介质还可以作为簇(集合体)不连续地分散配置在基体上。 需要说明的是,基体表面具有负电荷时,必须调整导电体或电介质的量, 以便在中和该负电荷后还能使基体表面维持正电荷。
图5表示在基体表面配置导电体-电介质或半导体的复合体,赋予 基体表面正电荷的方案。
导电体和电介质或半导体的复合体的粒子尺寸可以为数nm~数十 μm的范围。另外,复合体中的导电体微细粒子和电介质或半导体的微细 粒子的组合比率优选为1:1。上述复合体层的厚度可以为10nm~100μm 的范围。上述复合体层例如可以通过至少进行一次将上述金属掺杂钛氧 化物的水性分散液涂布在基体表面上后进行干燥的工序而制备。作为上 述涂布方法,可以使用刷涂、辊涂、喷涂等常用的成膜方法。需要说明 的是,基体表面具有负电荷时,必须调整复合体的量,以便在中和该负 电荷后还能维持基体表面为正电荷。
接下来,将从带有正电荷的基体表面除去污染物质的机制示于图6。
首先,如图3~5所示赋予基体表面正电荷(图6(1))。
污染物质堆积在基体表面,在太阳光等电磁波的作用下发生光氧 化。由此,也赋予污染物质正电荷(图6(2))。
在基体表面和污染物质之间产生正电荷之间的静电排斥力,对污染 物质产生排斥脱离力。由此,降低污染物质在基体表面的粘附力(图6 (3))。
雨等物理作用下,污染物质容易从基体除去(图6(4))。由 此使基体进行自清洁。
为了进一步提高上述自清洁功能(防污功能)并促进基体表面的正 电荷物质分散,优选使各种表面活性剂或分散剂与正电荷物质共存。
作为表面活性剂或分散剂,可以使用各种有机硅化合物。作为有 机硅化合物,可以使用各种硅烷化合物及各种硅油、硅橡胶及有机硅 树脂,但优选分子中具有硅酸烷基酯结构或聚醚结构的化合物、或具 有硅酸烷基酯结构与聚醚结构二者的化合物。
此处,所谓硅酸烷基酯结构,是指烷基键合在硅氧烷骨架的硅原 子上的结构。另一方面,聚醚结构具体可以举出聚环氧乙烷、聚环氧 丙烷、聚四氢呋喃、聚环氧乙烷-聚环氧丙烷嵌段共聚物、聚乙烯- 聚丁二醇共聚物、聚丁二醇-聚环氧丙烷共聚物等分子结构,但并不 限定于此。其中,从可以通过其嵌段度及分子量控制润湿性的观点考 虑,更优选聚环氧乙烷-聚环氧丙烷嵌段共聚物。
特别优选分子中同时具有硅酸烷基酯结构与聚醚结构的有机物 质。具体优选聚醚改性聚二甲基硅氧烷等聚醚改性硅氧烷。可以采用 公知的方法进行制备,例如,可以根据特开平4-242499号公报的合 成例1、2、3、4或特开平9-165318号公报的参考例记载的方法等 进行制备。特别优选使两末端甲代烯丙基聚环氧乙烷-聚环氧丙烷嵌 段共聚物与二氢聚二甲基硅氧烷反应所得的聚环氧乙烷-聚环氧丙 烷嵌段共聚物改性聚二甲基硅氧烷。
具体可以使用TSF4445、TSF4446(GE东芝有机硅株式会社制)、 SH200(东丽道康宁有机硅株式会社制)、KP系列(信越化学工业株 式会社制)及DC3PA、ST869A(东丽道康宁有机硅株式会社制)等。 上述物质为涂料用添加剂,但除了涂料用添加剂外,只要能赋予上述 性能的添加剂均可适当使用。
另外,在上述金属掺杂钛氧化物中优选添加具有硅酸烷基酯结构 或聚醚结构、或同时具有上述两种结构的硅氧烷或改性硅氧烷,使得 在基体上形成正电荷物质层时,在正电荷物质层的表面不表现光触媒 功能,进而没有观察到由有机化合物分解所导致的防污、抗菌、气体 分解、水净化。因此,通过使用该金属掺杂钛氧化物作为复合体,可 防止基体的光氧化劣化。
在本发明中,正电荷物质形成层时,可以在基体表面与正电荷物 质层之间存在中间层。中间层例如可以由能赋予基体亲水性或疏水性 或拒水性或拒油性的各种有机或无机物质组成。
作为亲水性有机物质,可以举出聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇- 聚丙二醇嵌段共聚物等聚醚;聚乙烯醇;聚丙烯酸(包括碱金属盐、铵 盐等盐)、聚甲基丙烯酸(包括碱金属盐、铵盐等盐)、聚丙烯酸-聚 甲基丙烯酸(包括碱金属盐、铵盐等盐)共聚物;聚丙烯酰胺;聚乙烯 基吡咯烷羧甲基纤维素(CMC)、甲基纤维素(MC)等亲水性纤 维素类;多糖类等天然亲水性高分子化合物等。也可以使用在上述高分 子材料中配合玻璃纤维、碳纤维、二氧化硅等无机类电介质复合化得到 的物质。另外,作为上述高分子材料,也可以使用涂料。
作为亲水性无机材料,例如可以举出SiO2或其他硅化合物、上述金 属掺杂钛氧化物、具有光触媒功能的氧化钛等物质。
光触媒物质含有特定的金属化合物,具有利用光激发而氧化分解该 层表面的有机及/或无机化合物的功能。光触媒的原理通常可以理解 为:特定的金属化合物通过光激发,由空气中的水或氧产生OH-或O2 - 自由基种,该自由基种氧化还原分解有机及/或无机化合物。
作为上述金属化合物,已知有代表性的氧化钛(TiO2),除此之 外还已知有ZnO、SrTiOP3、CdS、CdO、CaP、InP、In2O3、CaAs、 BaTiO3、K2NbO3、Fe2O3、Ta2O5、WO3、NiO、Cu2O、SiC、SiO2、 MoS3、InSb、RuO2、CeO2等。
由光触媒物质形成的膜可通过在正电荷物质上涂敷、干燥含有根 据需要添加的各种添加剂和上述金属化合物的微粒(2nm~20nm左 右)的水性分散液而形成。膜的厚度优选为0.01μm~2.0μm,更优选 为0.1μm~1.0μm。作为光触媒物质膜形成用液体,优选使用水性分 散液,但也可以以醇为溶剂。
光触媒物质膜形成用水性分散液例如可以利用以下的方法制备。 需要说明的是,水性分散液中的过氧化钛在干燥造膜状态下可变成氧 化钛。
第1制备方法
使上述四价钛化合物与氨等碱反应形成氢氧化钛。然后,用过氧 化氢等氧化剂将该氢氧化钛过氧化,形成非晶型过氧化钛的超微细粒 子。再利用加热处理使其转化为锐钛矿型过氧化钛。
第2制备方法
用过氧化氢等氧化剂将上述四价钛化合物过氧化,然后,使其与 氨等碱反应形成非晶型过氧化钛的超微细粒子。再利用加热处理使其 转化成锐钛矿型过氧化钛。
第3制备方法
使上述四价钛化合物与过氧化氢等氧化剂及氨等碱反应,同时进 行氢氧化钛的形成与过氧化,形成非晶型过氧化钛的超微细粒子。再 通过加热处理使其转化为锐钛矿型过氧化钛。
可以在光触媒物质膜中添加提高光触媒性能的金属(Ag、Pt)。 另外,也可以在不使光触媒功能失活的程度的范围内添加金属盐等各 种物质。作为上述金属盐,例如有铝、锡、铬、镍、锑、铁、银、铯、 铟、铈、硒、铜、锰、钙、铂、钨、锆、锌等金属的盐,此外,对于 部分金属或非金属等,也可以使用氢氧化物或氧化物。具体地可以举 出氯化铝、氯化亚锡及氯化锡、氯化铬、氯化镍、氯化亚锑及氯化锑、 氯化亚铁及氯化铁、硝酸银、氯化铯、三氯化铟、氯化亚铈、四氯化 硒、氯化铜、氯化锰、氯化钙、氯化铂、四氯化钨、二氯氧化钨、钨 酸钾、氯化金、氯氧化锆、氯化锌等各种金属盐。另外,作为金属盐 以外的化合物,也可列举氢氧化铟、硅钨酸、硅溶胶、氢氧化钙等。 为了提高光触媒物质膜的粘附性,也可以配合非晶型氧化钛。
作为拒水性有机物质,可以举出聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯等聚烯 ;聚丙烯酸酯、丙烯腈·苯乙烯共聚物(AS)、丙烯腈·丁二烯·苯乙烯 共聚物(ABS)等丙烯酸类树脂;聚丙烯腈;聚氯乙烯、聚偏氯乙烯等 聚卤代乙烯;聚四氟乙烯、氟乙烯·丙烯共聚物、聚氯三氟乙烯(PCTFE)、 聚偏氟乙烯(PVDF)、偏氟乙烯·三氟乙烯共聚物等氟树脂;聚对苯二 甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯等聚酯;酚醛树脂;脲树脂;三聚氰胺树脂; 聚酰亚胺树脂;尼龙等聚酰胺树脂;环氧树脂;聚氨酯等。
作为拒水性有机物质,优选氟树脂,特别优选具有强电介质性和拒 水性的偏氟乙烯·三氟乙烯共聚物、聚偏氟乙烯的β型结晶及含有该结晶 的物质。作为氟树脂,可以使用市场上销售的氟树脂,作为市场上销售 的产品,例如可以举出NTT-AT株式会社制的HIREC1550等。
还可以使用由氟树脂乳液以及固化剂(参见特开平5-124880号公 报、特开平5-117578号公报、特开平5-179191号公报)及/或上述 有机硅树脂类拒水剂组成的组合物(参见特开2000-121543号公报、 特开2003-26461号公报),所述氟树脂乳液由至少一种氟树脂和表面 活性剂形成,所述氟树脂选自由2种以上含有氟原子的烯烃形成的共聚 物、含有氟原子的烯烃和烃单体的共聚物以及由2种以上含有氟原子的 烯烃形成的共聚物和热塑性丙烯酸树脂的混合物。作为该氟树脂乳液, 可以使用市场上销售的氟树脂乳液,可以从大金工业(株)购入Zeffuru 系列、从旭硝子(株)购入Lumiflon系列。作为上述固化剂,优选使用 三聚氰胺类固化剂、胺类固化剂、多元异氰酸酯类固化剂及嵌段多元异 氰酸酯类固化剂。
作为拒水性无机材料,例如可以举出硅烷类、硅酸酯(siliconate) 类、硅氧烷类及硅烷复合类或氟类拒水剂或防吸水剂等。特别优选氟类 拒水剂,作为例子可以举出含有全氟烷基的化合物等含氟化合物或含有 含氟化合物的组合物。需要说明的是,选择对基材表面的吸附性高的含 氟化合物时,适用于基材表面后,不一定需要拒水剂或防吸水剂的化学 成分和基材反应,生成化学键,或化学成分之间交联。
能用作上述氟类拒水剂的含氟化合物优选分子中含有全氟烷基的 分子量为1,000~20,000的含氟化合物,具体而言,可以举出全氟磺酸盐、 全氟磺酸铵盐、全氟羧酸盐、全氟烷基甜菜碱、全氟烷基环氧乙烷加成 物、全氟烷基氧化胺、全氟烷基磷酸酯及全氟烷基三甲基铵盐等。其中, 从对基材表面的吸附性优异的观点来看,优选全氟烷基磷酸酯及全氟烷 基三甲基铵盐。作为市场上销售的氟类拒水剂,可以使用Surflon S-112 及Surflon S-121(均为商品名,清美化工(Seimi chemical)株式会社 制)、FluoroSurfFG-5010(株式会社Fluoro Technology制)等。
特别是使用氟类拒水剂时,通过控制对基体表面的紫外线照射或太 阳光等含有紫外线的电磁波照射,能使基体表面的特性从拒水性变为亲 水性。由此,可以根据基体所要求的特性,自由改变其保护方案,所以 使其显示水和油的接触特性以及表面电荷特性的两种特性时,特别优 选使用氟类拒水剂。
另外,在基体表面形成含有有机硅化合物的正电荷物质层时,优选 预先在基体上形成含有硅烷化合物的中间层。该中间层由于含有大量Si -O键,所以能提高正电荷物质层的强度及与基体的密接性。上述中间 层还具有防止水分浸入基体的功能。
作为硅烷化合物,可以列举水解性硅烷、其水解产物及上述化合 物的混合物。作为水解性硅烷,可以使用各种烷氧基硅烷,具体可以 列举四烷氧基硅烷、烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、三烷 基烷氧基硅烷。其中,可以单独使用1种水解性硅烷,也可以根据需 要混合使用2种以上水解性硅烷。另外,也可以在上述硅烷化合物中 配合各种聚有机硅氧烷。作为含有上述硅烷化合物的中间层形成剂, 有Dryseal S(东丽道康宁有机硅株式会社制)。
另外,作为中间层形成剂,也可以使用甲基有机硅树脂及甲基苯 基有机硅树脂等室温固化型有机硅树脂。作为上述室温固化型有机硅 树脂,有AY42-170、SR2510、SR2406、SR2410、SR2405、SR2411 (东丽道康宁有机硅株式会社制)。
中间层可以为无色透明,也可以为着色的透明、半透明或不透明。 此处的着色不仅包括红、蓝、绿等颜色,也包括利用白色形成的颜色。 为获得着色的中间层,优选在中间层中配合无机或有机颜料或染料等 各种着色剂。
作为无机颜料,可以列举炭黑石墨、铬黄、氧化铁黄、红丹、 氧化铁红、群青、氧化铬绿、氧化铁等。作为有机颜料,可以使用偶 氮类有机颜料、酞菁类有机颜料、士林类有机颜料、喹吖啶酮类有机 颜料、二噁嗪类有机颜料、异吲哚满酮类有机颜料、二酮吡咯并吡咯 及各种金属配位化合物,但优选耐光性优良的有机颜料。作为有耐光 性的有机颜料,例如,可以举出作为不溶性偶氮类有机颜料的汉撒黄、 甲苯胺红,作为酞菁类有机颜料的酞菁蓝B、酞菁绿,作为喹吖啶酮 类有机颜料的喹吖啶酮红等。
作为染料,可以举出碱性染料、直接染料、酸性染料、植物性染 料等,但优选耐光性优良的染料,例如,红色特别优选直接大红、石 蕊紫、偶氮玉红,橙色特别优选直接橙R Conc.、酸性橙,黄色特别 优选直接菊黄NS、间胺黄,茶色特别优选直接褐KGG、酸性褐R, 蓝色特别优选直接蓝B,黑色特别优选直接黑GX、苯胺黑BHL等。
中间层由硅烷化合物或有机硅树脂构成时,该硅烷化合物或有机 硅树脂与颜料的混合比(重量比)优选为1:2~1:0.05的范围,更 优选为1:1~1:0.1的范围。
另外,可以在中间层中进一步配合分散剂、稳定剂、匀涂剂等添 加剂。上述添加剂具有容易形成中间层的作用。另外,配合颜料·染料 等着色剂时,也可以添加该着色剂的固色辅助用粘合剂。作为该情况 下的粘合剂,可以使用以耐气候性优良的丙烯酸酯或丙烯酸酯共聚树 脂为主要成分的各种涂料用粘合剂,例如可以举出Polysol AP-3720 (昭和高分子株式会社制)、Polysol AP-609(昭和高分子株式会社 制)等。
作为在基体上形成中间层的方法,可以使用公知的任意方法,例 如喷雾涂敷法、浸涂法、流涂法、旋涂法、辊涂法、刷涂法、海绵涂 敷法等。另外,为了提高中间层的硬度、与基体的密接性等物理性能, 优选在基体上形成中间层后,在允许范围内的温度下将其加热。
按照上述操作所形成的中间层的厚度没有特别限定,但是优选为 0.01~1.0μm,更优选为0.05~0.3μm。另外,添加着色剂、添加剂及 粘合剂时,优选为1.0μm~100μm,更优选为10μm~50μm。
目前,也通过用具有优异的拒水性·拒油性或亲水性·疏水性的有 机或无机物质被覆基体表面来保护基体表面,但由于该有机或无机物质 通常具有负电荷,所以存在经时附着污染物质,使其保护特性显著丧失 的问题。但是,本发明中如上所述地赋予基体表面正电荷,所以不存在 上述问题。另外,由于不破坏基体表面的化学特性,所以能够在维持该 有机或无机物质的特性的状态下,赋予自清洁特性。
即,本发明中能得到下述产品,该产品利用被赋予到基体表面的正 电荷,发挥基体本身的功能性,同时持续发挥“防污·防雾功能”。该 技术可以用于所有基体,但由于通过将正电荷赋予具有优异的拒水性或 亲水性的有机物质的表面,能够长期维持该功能,所以优选用于塑料制 基体。由此,“无污染塑料”成为可能。
另外,基体表面的正电荷可降低电磁波引起的基体的氧化劣化。 即,基体的氧化劣化的原因在于在基体表面或基体中,因紫外线等电 磁波而产生1O2、·OH等自由基,发生氧化分解反应,但基体的正电荷 表面可以使上述自由基成为稳定的分子。因此,认为可防止或降低基 体的氧化劣化。另外,在金属制基体的情况下,可采用相同处理降低 锈的生成。
本发明可以用于要求各种装饰性及高防水·防污性能的任意领域, 优选用于玻璃、金属、陶瓷、混凝土、木材、石材、高分子树脂罩、 高分子树脂薄片、纤维(衣服、窗帘等)、密封剂等或由其组合所构 成的建材、空调室外机、厨房器具、卫生器具、照明器具、汽车、自 行车、机车、航空器、火车、船舶等用于室内外的物品,并优选用于 各种器械、电子仪器、电视机等的面板。尤其适用于建材,使用该建 材所建造的房屋、大楼、公路、隧道等建筑物可以经时性地发挥高防 水·防污效果。
实施例
(参考例)
向20g 7%过氧化氢水溶液:5%氨水=1:1(体积比)的混合液中 投入1g铜,放置16小时,得到含有浓度约为1800ppm的铜离子的水溶液, 在该水溶液中添加0.5%(体积比)非离子型表面活性剂(花王株式会社 制Clean-thru 710M),制成正电荷赋予液。
(实施例1)
在市场上销售的SUS304细纹(hairline)加工板(纵100mm、横100mm、 厚0.8mm)的表面上刷涂参考例的正电荷赋予液,常温下干燥后,在100 ℃下加热15分钟,制作评价基板。
(实施例2)
在市场上销售的白色瓷砖(tile)(DANTO株式会社制:纵98mm、 横98mm、厚4mm)的表面上刷涂参考例的正电荷赋予液,常温下干燥 后,在100℃下加热15分钟,制作评价基板。
(实施例3)
在市场上销售的包装用聚乙烯薄膜(纵98mm、横98mm、厚0.01mm) 的表面上刷涂参考例的正电荷赋予液,常温下干燥后,在80℃下加热15 分钟,制作评价基板。
(实施例4)
在市场上销售的帐篷(tent)用聚氯乙烯薄膜(纵100mm、横100mm、 厚0.2mm)的表面上刷涂参考例的正电荷赋予液,常温下干燥后,在80 ℃下加热15分钟,制作评价基板。
(实施例5)
在市场上销售的透明浮法玻璃板(纵100mm、横100mm、厚4mm) 的表面上,以50g/m2(湿状态)的比例喷雾涂布市场上销售的光触媒 功能赋予液(B56:Sustainable Technology株式会社制),表面干燥后, 在200℃下加热15分钟。常温下冷却后,刷涂参考例的正电荷赋予液, 常温下干燥后,在100℃下加热15分钟,制作评价基板。
(实施例6)
在市场上销售的透明浮法玻璃板(纵100mm、横100mm、厚4mm) 的表面上,以12g/m2的比例喷雾涂布含有金属掺杂钛氧化物的液体 (STi TITANIA·HighCoatZ Z18-1000:Sustainable Technology株式会 社制),表面干燥后,在200℃下加热15分钟。常温下冷却后,刷涂参 考例的正电荷赋予液,常温下干燥后,在100℃下加热15分钟,制作评 价基板。
(实施例7)
在市场上销售的透明浮法玻璃板(纵100mm、横100mm、厚4mm) 的表面上刷涂氟涂布剂(FluoroSurfFG-5010S135-0.1:株式会社Fluoro Technology制),在100℃下加热15分钟。常温下冷却后,以30g/m2的 比例刷涂参考例的正电荷赋予液,常温下干燥后,在100℃下加热15分 钟,制作评价基板。
(比较例1~7)
在实施例1~7中,除不涂布参考例的正电荷赋予液之外,经相同的 工序制作评价基板,分别作为比较例1~7。
评价1
(带电状态)
为了判定评价基板表面的电荷状态而进行了以下的操作。首先,在 气温18℃、湿度40%的气氛下,准备纸浆(pulp)(100%)制薄细片(株 式会社CRECIA制KimTowel Wiper White:宽20mm、长150mm、重量 0.081g),使细片之间摩擦,使细片表面带上正静电。然后,使用聚苯 乙烯制书挡垂直配置评价基板,使其与细片的间隔为5mm左右,观察评 价基板吸附细片还是排斥细片。吸附时,判定基板表面带负电荷,排斥 时,判定基板表面带正电荷(预先在摩擦的细片和直径8mm的特氟隆(注 册商标)棒(已知带负电)之间进行相同的操作,确认为吸附)。结果 示于表中。需要说明的是,对于具有光触媒功能的比较例5以及在光触 媒功能层上配置正电荷物质层的实施例5的评价基板,从相距10cm的位 置照射15W的黑光(black light)(波长360nm:照射强度1200μW/cm2), 在激发状态下观察。
(表面特性)
为了判定评价基板表面的亲水性·拒水性而进行以下的操作。在水平 载置的评价基板上从10mm以内的高度用滴管滴下一滴(0.028~0.029g) 纯水。然后,用分度器计目视观察滴下的水滴在评价基板的表面形成的 接触角,接触角为40°以下时判定为亲水,为40~80°时判定为疏水, 80°以上时判定为拒水。结果示于表中。
需要说明的是,仅对实施例7以及比较例7的评价基板判定表面特 性,水平载置评价基板,用黑色油性万能笔(magic ink)(线宽5.0mm: 寺西工业株式会社制)在表面画线。评价基板表面的黑线宽为2mm以下 时,为拒油性。结果如下所示。
[表1]
  评价基板 带电状态 表面特性 实施例1 正 疏水性 实施例2 正 亲水性 实施例3 正 拒水性 实施例4 正 拒水性 实施例5 正 亲水性 实施例6 正 亲水性 实施例7 正 拒水性·拒油性 比较例1 正 疏水性 比较例2 正 亲水性 比较例3 负 拒水性 比较例4 负 拒水性 比较例5 负 亲水性 比较例6 正 亲水性 比较例7 负 拒水性·拒油性
如上所述,未涂布正电荷赋予液的比较例1~7的评价基板的表面带 正电或负电,而涂布了正电荷赋予液的实施例1~7全部带正电。但是, 评价基板的表面特性在实施例和比较例之间无变化。
因此,通过在不改变各种基板的表面特性的前提下发挥其特性,同 时使基板表面的带电状态变为带正电,能够实现防止及除去正电荷污染 物质的附着。需要说明的是,尝试着在实施例5的评价基板表面涂布红 色有机染料,尽管实施例5的评价基板在第1层具有光触媒层,但在该表 面未见有机染料的分解。
评价2
(表面特性的控制)
将实施例7制作的评价基板及比较例7的评价基板在佐贺县进行曝 晒试验,评价各基板表面的污染状态和与水的接触角。具体而言,将各 评价基板在室外于太阳光下曝晒18日,然后,在暗处放置2日。
结果示于表2。需要说明的是,表2中的“强拒水性”是指与水的接 触角为100°以上120°以下,“拒水性”是指与水的接触角为80°以上 且小于100°,“亲水性”是指与水的接触角为20°以下5°以上。利用 手动角度计目视计测接触角。另外,基板表面上附着有多个白斑点的状 态为“有污染”,未附着的状态为“无污染”。曝晒试验期间,降雨3 次。
[表2]

如表2所示,比较例7的评价基板始终为强拒水性,实施例7的评价 基板通过在太阳光下曝晒而成为亲水性,而未在太阳光下曝晒时成为拒 水性。因此,由表2所示的结果可知,在基板和正电荷物质层之间形成 含有氟类拒水剂的中间层时,能将基板的表面特性控制为拒水性或亲水 性。另外,评价2进行了2次,2次均为相同的结果。
专利文献1:特开平9-262481号公报
QQ群二维码
意见反馈