【発明の詳細な説明】 【０００１】 本発明は、有機ポリマー、又は特にシリカ若しくはガラス質セラミックのガラスでできた透明基体であって、この透明基体に所定の機能性を与える少なくとも１つのポリマーに基づく層を具備する透明基体に関する。 また本発明は、透明又は不透明の無機基体、例えばシリコンウェハーに関する。 例えばこのタイプの層を使用して、比較的不安定な下側コーティングを機械的又は化学的に保護すること、光学的若しくは干渉的な役割を行わせること、又はそれを堆積させる基体の表面の性質を変更することができる。 【０００２】 その厚さは特に、数ｎｍ〜数μｍまで変化させることができ、薄い干渉層として作用させる場合には、一般にサブミクロンである。 【０００３】 このタイプの層の堆積は、様々な研究の課題であった。 第１の経路は、大気圧下でそれを堆積させることからなる。 ここではこの層の先駆物質（モノマー、プレポリマー）は液体状態である。 この選択は、溶媒の使用に関する多数の欠点を有する。 すなわち、層中に微量の残留溶媒が存在することがあり、溶媒を再処理／リサイクルしなければならず、また層の厚さの制御が容易ではない。 最後に、
コーティングする基体を正確に濡らすことができる溶媒を見つけることが常に容易であるとは限らない。 【０００４】 第２の経路は、減圧下で層を堆積させることからなる。 ここでは先駆物質を気化させ、そして減圧下で基体に噴霧する。 その後で先駆物質が、自発的に、又は特定の処理、特に赤外線照射を使用する熱処理若しくは例えば紫外線照射による処理若しくは電子衝突の効果によって重合する。 この技術は上述の技術と比較して多くの利点を有する。 すなわち、溶媒を再処理する必要がなく、層が比較的不純物を含有しない。 一般に厚さの制御が比較的正確であり、特に１０ｎｍ〜１μ
ｍの範囲で厚さを制御することができる。 更にこの技術は、水若しくは酸素に対して感受性の開始物質の使用を可能にし、又は非常に反応性が大きい反応体の組み合わせ、及び／又は非混和性若しくはわずかにのみ混和性の均一に混合することが困難な反応体の組み合わせの使用を可能にする。 更に、製造操作を中断せずに、同じ減圧堆積ラインにおいて多層積層体を製造する操作で、堆積を行うことができる。 この技術の様々な態様が、特に米国特許第５，２６０，０９５号、ヨーロッパ特許第３４０，９３５号、同第３３９，８４４号、及び同第７３３，９
１９号で開示されている。 しかしながらこの技術にも欠点がないわけではない。
すなわち、このようにして堆積させたポリマー層は機械的強度が不適当である傾向があり、剥離しやすく、またそれらの厚さがサブミクロンの範囲である場合及び／又はそれらがフルオロポリマー若しくはシリコーンポリマーに基づく場合、
この傾向はより明らかになる。 【０００５】 本発明の目的は、特に減圧下で堆積させるポリマー層の質を改良することによって、特に機械的質に関して、これらの欠点を克服することである。 【０００６】 本発明の対象は第１に、表面の少なくとも一部が減圧下で堆積させたポリマー層でコーティングされている透明基体である。 ここでこのポリマー層は、有機又は有機無機質の接着性予備層を有する。 【０００７】 本発明の手段によれば、接着性予備層及びポリマー層は互いに直接に接触している。 対称的に、基体と接着性予備層との間には、１又は複数の層からなる中間コーティングが存在していてもよい。 【０００８】 この接着性予備層は、ポリマー層と同様に減圧下で堆積させることが有利であり、特に類似の技術によって堆積させることが有利である。 【０００９】 この接着性予備層の存在は、随意に既にコーティングを有する基体とポリマー層との間の界面を、これら２つの材料の両方と２つの化学的親和性を示すことによってかなり強化することを可能にする。 この予備層の使用は、特にポリマー層の厚さが１μｍ未満、例えば５００ｎｍである場合、すなわちポリマー層が剥離する傾向が大きい場合に、ポリマー層の剥離に対する抵抗を増加させるのに非常に効果的であることが分かった。 ポリマー層が光学的役割をしなければならないときに使用される数ナノメートル〜数百ナノメートルの厚さで、これは非常に重要である。 このタイプの厚さは、基体の表面性質を変更するために（例えば基体に疎水性、親水性、霜防止性若しくは曇り防止性を与えるため、摩擦係数を低下させて滑性を与えるために）層を使用する場合に、又はナノスケールのリソグラフエッチングのための層、圧電若しくは焦電層、又はガスプローブのための層として一般に選択される。 【００１０】 従って本発明は、非常に異なる役割の２つの層の組み合わせに関する。 ここでは一方で、特定の性質（例えば反射防止層の積層体に導入される場合には特に低屈折率の層、親水性又は疎水性の層等）のためのポリマー層が存在することが考慮される。 他方で、このポリマー層よりもかなり薄い予備付着層が存在する。 この予備付着層の役割は、両側の２つの材料（ポリマー、及び既にコーティングされていてもコーティングされていなくてもよい基体）の間で、これらの材料の両方との２つの化学的親和性を示すことによって化学的レベルの連続性を提供することである。 従って特にコーティングされる基体に従って、ポリマーの組成に影響を与えることなく、付着性予備層の化学組成を変更又は適応させることが可能である。 従ってポリマーが予備層の材料と反応する限り、以下で詳細に説明する様式で、任意のタイプのポリマーを使用することができる。 これは、ポリマー層が基体に比較的適合するようにポリマー層を化学的に改質しようとすることと比較して明らかに好ましい。 ここでポリマー層の化学的改質は、かなり複雑であり、ポリマー層の所望の性質を変えてしまう危険性がある。 【００１１】 減圧下で予備層を堆積させることはかなり有利である。 すなわち、同じ堆積ラインで２つの層を前後して堆積させ、ポリマー層の接着性予備層への結合を促進することが可能である。 【００１２】 基体は好ましくはガラスであるが、上述のように他のガラス質セラミック、ケイ素又はシリカタイプの無機基体、又は下記のタイプの有機ポリマーを除外しない：ポリ（メチルメタクリレート）ＰＭＭＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥ
Ｔ、ポリエチレンナフタレートＰＥＮ、ポリ（塩化ビニル）ＰＶＣ、ポリカーボネートＰＣ、又は透明ポリ（フッ素化ビニリデン）誘導体（Ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄ
ｅ Ｎｅｍｏｕｒｓが販売する「テフロン ＡＦ」、旭硝子が販売する「Ｃｙｔ
ｏｐ」）。 上述の「中間」コーティングは、下記のタイプの１又は複数の無機層を含むことができる：金属酸化物（ＳｎＯ ２ 、ＴｉＯ ２ 、ＷＯ ３ 、Ｎｂ ２ Ｏ ５ 、
ＺｎＯ等）、金属窒化物（ＴｉＮ、ＺｒＮ等）、金属（Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、鋼鉄）、又はケイ素誘導体（酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸炭化ケイ素又は窒化ケイ素）。 また金属炭化物又は炭化ケイ素も挙げることができる。 【００１３】 ポリマー層の厚さは、付着性予備層の厚さの好ましくは少なくとも５倍、特に１０倍の厚さである。 【００１４】 付着性予備層がポリマー層よりもかなり微細になるように付着性予備層を選択するという事実は、様々な様式で正当化することができ、この予備層は実際にかなり微細なものでよく、不連続であってさえもよい。 更にこれは単層であってよく、すなわちこの予備層が接触する２つの材料に、特に共有結合によって結合する単層の分子でよい。 これは非常に薄いので、光学的には「中性」を維持しており、ポリマー層を基体の光学系において干渉的に作用させることを意図している場合には、ポリマー層の役割を光学的に妨害せず、また一般に基体の外観に影響を与えない。 ここでポリマー層に関しては、比較的厚い厚さでのみ達成することができる所定の性質が期待される。 【００１５】 おおまかな概念として、５ｎｍ〜５μｍ、特に８０ｎｍ〜５００ｎｍ程度の厚さが一般に、光学的用途のためのポリマー層のために選択され、基体の表面の性質を変更することを意図している場合には、１０〜２００ｎｍの厚さが選択される。 好ましくは０．２〜１０ｎｍ、特に０．５〜２ｎｍ程度の厚さを、付着性予備層のために選択する。 【００１６】 ポリマー層の化学的性質及びポリマー層を作ることができる先駆物質のタイプ（「先駆物質」とはこの層のための初期材料として使用するモノマー及び／又はプレポリマーを意味する）を、初めに詳細に説明する。 但しこれは限定を示唆するものではない。 【００１７】 ポリマー層は好ましくは、下記の群の少なくとも１つに属する先駆物質から得られる材料から選択する：不飽和ポリエステル樹脂、チオール−ポリエン樹脂、
ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート（アクリレートはメタクリレートで置き換えることもできる）、ポリシロキサン、２
官能性エポキシドポリマー、テレキーリック（ｔｅｌｅｃｈｅｌｉｃ）エポキシドポリマー、又はビニルエステル。 【００１８】 選択されるポリマーは官能化されていてもよい（このレベルを調節することは、特に制御された様式で層の屈折率を低下させること、及び／又はその疎水性の程度を調節することを可能にする）。 【００１９】 この層は好ましくは、特にラジカル機構で架橋させることができるアクリル官能基を有する先駆物質（随意にフッ素化されている）から得る。 架橋は、自発的に行わせること、又は紫外線タイプの照射、電子の衝突若しくは熱処理によって行わせることができる（減圧下で又は減圧下ではなく）。 【００２０】 先駆物質は、１官能性のもの、例えばラウリルアクリレート又はイソデシルアクリレートであってよい。 またこれは２官能性のもの、例えばポリエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ビスフェノールＡエポキシアクリレート、又はビニル端を有するポリシロキサン（例えばＧ
ｅｌｅｓｔが商品名ＭＣＲ−Ｖ４１及びＤＭＳ−１００で販売する製品、又はＲ
ａｄｃｏｒが商品名Ｅｂｅｒｃｒｙｌ３５０で販売する製品）でよい。 これはまた、シリコーントリフルオロプロピルメチルシロキサンコポリマー（例えばＧｅ
ｌｅｓｔが商品名ＦＭＶ−４０３１で販売する製品）に関するものでよい。 先駆物質は、トリアクリレートのように３又はそれよりも多くの反応性官能基を有することができ、例えばジペンタエリトリトールペンタアクリレート、プロポキシル化グリセリルトリアクリレート、又はビニルメトキシシロキサン（例えばＧｅ
ｌｅｓｔが商品名ＶＭＭ−０１０で販売する製品）でよい。 【００２１】 この層は、縮合官能基、特にアルコール、アミド、アミン、酸無水物、エステル、エーテル、酸ハロゲン化物、ニトリル、カルビルアミン、イソシアネート、
チオシアネート、過酸、酸、チオール、アミノ酸、ケトン酸、スルホン酸又はエポキシド基を有する先駆物質から得ることもできる。 【００２２】 縮合による重合／架橋には一般に、アニール処理段階を必要とする。 これらの反応は、ポリイミド、ポリウレア、ポリアミド、ポリウレタン、又はポリエステル（またこれらはフッ素化されていてもよい）を作る。 先駆物質の例は、ピロメリト酸二無水物、デカメチレンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、１，６
−ジイソ−シアナトヘキサン、トランス−１，４−シクロヘキシンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジアミン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、又はシラノール基を有するポリジメチルシロキサン（例えばＧｅｌｅｓｔが商品名ＤＭＳ
−Ｓ１２ｄ販売する製品）であり、これらは更にフッ素化されていてもよい（例えばＧｅｌｅｓｔが商品名ＦＭＳ−９９２１で販売する製品のように）。 これは、アミノプロピル基を有するポリメチルシロキサン（例えばＧｅｌｅｓｔが商品名ＤＭＳ−Ａ１１で販売する製品）、又はエポキシド官能基を有するポリメチルシロキサン（例えばＧｅｌｅｓｔが商品名ＤＭＳ−Ｅ０１で販売する製品）にも関するものであってもよい。 【００２３】 他のタイプの先駆物質は、初期化合物の熱分裂によってその場で、ポリアリーレン若しくはポリ（アリーレン−ビニレン）（特にそれぞれ塩素化されていない、一塩素化された及び二塩素化されたパリレンについて名称ＰＰＸ−Ｎ、ＰＰＸ
−Ｃ及びＰＰＸ−Ｄで示すことが便利なもの）、又はこれら２つのタイプのポリマーのコポリマーの群のポリマーを作ることができるものに対応している。 この開始化合物は、下記の化合物から選択することができる：ジ−パラ−キシレン及び誘導ハロゲン化化合物、４−トリフルオロアセチル−［２．２］−パラシクロファン、４−アミノ［２．２］パラシクロファン、α，α−ジクロロ−パラキシレンを含むα−ジ−アロキシレン−パラ−キシレン。 【００２４】 上述のように、これらのポリマーの組成、特にフッ素化官能基のそれらの許容できるレベルは、層の特定の性質、特にその屈折率を調節することを可能にする。 この屈折率は例えば１．７５〜１．２９、特に１．４２〜１．３０にすることができる。 またその疎水性を調節して、水との接触角を９０°超、特に１０５°
超にすることができる。 【００２５】 付着性予備層の化学的性質及び付着性予備層を作ることが好ましい化合物のタイプは、以下で詳細に説明する。 但しこれらは限定を示唆するものではない。 【００２６】 付着性予備層は例えば、本質的に１つのタイプ（又は複数のタイプ）の分子／
化合物から作る。 ここでこの分子／化合物の少なくとも１つは、ポリマー層の先駆物質と反応性の少なくとも１つの「Ｂ」基を有し、且つ付着性予備層を堆積させる材料、特にガラス、ＳｎＯ ２タイプの金属酸化物でできたコーティング、又は金属窒化物、金属炭化物、窒化ケイ素、炭化ケイ素若しくはケイ素誘導体でできたコーティングと反応性の少なくとも１つの「Ａ」基を有する。 またこれら２
つの材料間で実際に架橋を作ることができる２官能性分子を使用して、これら２
つの材料とのしっかりとした結合を作ることもできる。 あるいは、ポリマー層とその予備層との間で共有結合を作り、且つ予備層と予備層を堆積させる材料との間で共有結合又はバインダーを作ることができる。 【００２７】 反応性基Ａは好ましくは、Ｍｅ（ＯＲ） ３−ｍ Ｃｌ ｍ （ｍ≧１、好ましくはｍ
＝３）の形である。 これは−ＭｅＣｌ ４の形であってもよい。 金属Ｍｅは例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＧｅでよく、予備層の下の材料によって選択する。 この材料がガラス、酸炭化ケイ素又は酸窒化ケイ素である場合、Ｍｅは例えばＳｉであるように選択する。 この場合、この反応性基は、ガラス又は酸化ケイ素のＳｉ
−ＯＨ基と反応することができる。 同様に、予備層を酸化スズタイプのスズ誘導体に基づく層に堆積させる場合、ＭｅがＳｎ又はＳｉで有るように選択する。 これらはＳｉ−Ｏ−Ｓｉ又はＳｉ−Ｏ−Ｓｎ又はＳｎ−Ｏ−Ｓｎ共有結合を作り、
これは予備層の良好な結合を与える。 【００２８】 反応性基Ｂとしては、以下の官能基を挙げることができる：アルケン（アクリレート、メタクリレート等の群）、アルキン（アセチレン系の群）、アルコール、アルデヒド、アミド、アミン、酸無水物、ケトン、エステル、エーテル、酸ハロゲン化物、ニトリル、カルビルアミン、イソシアネート、チオシアネート、過酸、酸、チオール、アミノ酸、ケトン酸及びスルホン酸官能基、エポキシド又はアゾ基。 【００２９】 これらの２官能性化合物（特に２官能性シラン）としては、限定するわけではないが、アリルトリクロロシラン、アリルヘキシルジクロロシラン、メタクリロイルオキシプロピルトリクロロシラン、３−イソシアナトプロピルジメチルクロロシラン、ヘキサジクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、２−シアノエチルトリクロロシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリクロロシラン、アセトキシプロピルメチルジクロロシラン、アリルトリクロロゲルマン、３−（トリクロロゲルミル）プロピオニルクロリド、又はビス（カルボメトキシエチル）二塩化スズ。 【００３０】 当然に、Ｂタイプの反応性基の性質は、ポリマー層の先駆物質の性質によって選択しなければならない。 【００３１】 上述の有機化合物／分子のタイプでは、本発明の付着性予備層は、この層の下の材料及びポリマー層の材料の両方と共有結合を作ることができる。 【００３２】 本発明の特定の態様では、ポリマー層は薄い層の積層体のうちの一部を形成し、金属酸化物又はケイ素誘導体タイプの少なくとも１つの無機層（又はポリマー層タイプの他のタイプの層）がその上にある。 この場合、ポリマー層と可能なその上側の（無機）層との間に、微細な有機又は有機無機質の付着性上側層を提供することを考慮できる。 この上側層は、その機能、化学的性質及び厚さに関して、上述の予備層と完全に同様であってよい。 【００３３】 予備層／ポリマー層／上側層／可能な追加の層の組み合わせには、ポリマー層及び酸化物タイプの無機層を組み合わせる積層体と並んで、多くの用途がある。 【００３４】 付着性予備層と組み合わせたポリマー層には多くの用途がある。 すなわちこれは、機械的又は化学的保護層、キャリア基体若しくは下側コーティングに関して気体若しくは液体に対するバリアー層、又は更に紫外線放射に対する保護層として機能することができる。 従ってこれは、下記の層又は積層体のための封入層として作用することができる：光学的、熱的、電気的（焦電若しくは圧電的）、又は電気化学的機能、例えばエレクトロクロミック、エレクトロルミネッセンス若しくは液晶系の機能を有する層又は積層体、又はナノスケールリソグラフィーエッチングのための層若しくはガスプローブのための層。 【００３５】 ポリマー層は、太陽光保護、低放射性、反射防止、装飾、電気又は電気化学的機能を有するコーティング／積層体の一部を構成することができる。 従ってこれは、少なくとも銀、ＴｉＮ若しくはＺｒＮタイプの金属窒化物、又はＦ：ＳｎＯ ２タイプのドープした金属酸化物でできた機能層を使用する太陽光保護又は低放射性コーティングの場合には、特にこの機能層によってもたらされる光反射を弱める光学的な役割を有する誘電体材料として機能することができる。 高屈折率の層が低屈折率の層と交互にされている反射防止積層体では、これは、特にフッ素化されている場合に、低屈折率の層として作用する。 【００３６】 電気的又は電気化学的系では、これは絶縁層として機能することができる。 他方でこれを、導電性であるように選択することができ、これは、これらの系で可能な電気的連続性を作ることができる。 【００３７】 ポリマー層自身が機能的な役割を有することができる。 すなわち、特にポリマーがフッ素化されている場合に、ポリマー層は予備層と共に、防雨性又は曇り防止効果を有する疎水性コーティングを構成することができる。 曇り防止性を提供するために、ポリマー層は親水性を有するように選択することもできる。 またこれは、霜防止性、親油性又は滑性を有するように選択することもできる。 またこれは、疎油性であるように選択することもできる。 【００３８】 これは単独で、又は他の層と組み合わせて、特にその厚さ及びその屈折率を適当に選択して有色の光彩層を作ることによって、装飾機能を有することができる。 【００３９】 これは、染料、着色剤、非線形の光学的な振る舞いを示す分子、液晶分子又はフッ素化分子のためのホスト層として機能することもできる。 【００４０】 有利には、ポリマー層及びその予備層（及び随意にその上側層）は透明であり、光の吸収率が非常に低く、実際に光吸収率がほとんどゼロである。 上述のように、予備層は好ましくは薄く、それによってその光学的な役割は無視できる。 【００４１】 本発明の他の課題は、上述のコーティングされた基体を作る方法である。 この方法は特に、減圧下の同じ製造ラインにおいて、付着性予備層とポリマー層とを連続的に堆積させることからなる。 【００４２】 これらの層を他の無機層と組み合わせる場合、全ての層を、同じ堆積ラインにおいて連続的に堆積させられることがかなり有利である。 当然に本発明の層は、
本発明の層と同様に減圧下で堆積させることができる他のポリマー層と組み合わせることもできる。 【００４３】 本発明の予備層とポリマー層の下に配置する無機層は、減圧下で又は減圧下ではなく、特に大気圧の堆積操作では熱分裂、ＣＶＤ又はゾル−ゲルによって、及び減圧下の操作ではプラズマＣＶＤ、イオンスパッタリング、蒸発、気相堆積又はカソードスパッタリング、随意に磁場促進カソードスパッタリングによって、
堆積させることができる。 同じタイプの技術は、ポリマー層上の可能な無機層のために使用することができる。 しかしながら、本発明の付着性上側層を使用する場合には、カソードスパッタリング及びプラズマＣＶＤは、本発明の付着性上側層に損傷を与える危険性があるので、使用を避けることが好ましい。 【００４４】 予備層とポリマー層を作る方法は下記の工程を含むことが有利である： （ａ）基体上に予備層を作るために使用する１又は複数の化合物／分子を蒸気の状態で導入し、特にこの化合物を噴霧される材料とこの化合物とが少なくとも部分的に反応するようにする工程（蒸気の状態での噴霧の前に、標準の圧力条件で固体／液体である化合物を気化させる段階を行わなければならないことがある）、 （ｂ）前記基体及び従って上述の予備層化合物上に、蒸気の状態のポリマー層の先駆物質を注入する工程（ここで再び、噴霧の前に、先駆物質を気化させる段階を行わなければならないことがある）、 （ｃ）先駆物質の重合／架橋、及びポリマー層の先駆物質と予備層の化合物の、それらの界面における少なくとも部分的な反応を行わせる工程。 【００４５】 これら２重の反応は、自発的であってよく、減圧下で又は大気圧下で行うことができる。 これは、紫外線タイプの照射、電子衝突又は赤外線照射タイプの単純な熱処理によって行うこと又は促進することができる。 【００４６】 この方法に関して、２つの噴霧操作の間で特定の中間処理を必要とせずに、初期材料の堆積を連続的に行うことが有利である（そのような処理が随意に行える場合であっても）。 【００４７】 本発明の他の目的は、建物又は乗物のためのグレージングアセンブリ、特にモノリシックグレージングアセンブリ（単一の硬質基体）、積層グレージングアセンブリ又は複数グレージングアセンブリの製造への、上述の基体の適用である。
この乗物は、自動車（乗用車、列車）、船又は航空機でよい。 これらは、任意のタイプのディスプレイスクリーン、ディスプレイパネル又はストリートファーニチャーの製造のために使用することもできる。 基体は不透明であってもよく、また軽量化されたファサード面パネル又は鏡として使用することができる。 【００４８】 本発明は、限定をしない例を使用して、以下でより詳細に説明する。 【００４９】 例の全ての付着性予備層及びポリマー層は、堆積させる化合物を気化させ、減圧された（例えば最大で５０ｔｏｒｒ）容器内の基体上に連続的に注入し、そしてポリマー層の重合及びポリマー層への予備層の「結合」を促進することを意図した随意の処理を行うことによって、減圧下で堆積させる。 基体は、Ｐｌａｎｉ
ｌｕｘ（Ｓａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ Ｖｉｔｒａｇｅが販売するガラス）タイプの透明シリカ−ソーダ−ライムガラスでできた基体である。 【００５０】 ［例１］ この例の目的は、比較的不安定な無機層、特に酸化及び耐水性に関して不安定な無機層のための永続的な保護層の調製である。 【００５１】 堆積装置は、Ｗ． Ｆ． Ｇｏｒｈａｍによる文献Ｊ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ． 、４
、３０２７、（１９６６年）、及びカナダ国特許６３７，５０７号明細書で開示されているものによる。 【００５２】 アルミニウムターゲットを使用する磁場促進カソードスパッタリングによって堆積させたアルミニウム層を有するガラス基体でできた鏡を提供する。 このアルミニウム層の厚さは５０ｎｍである。 【００５３】 付着性予備層は、下記の様式で本発明によってアルミニウム層に堆積させる：
５μｌの気化したアセトキシプロピルメチルジクロロシランを、０．１ｔｏｒｒ
の圧力及び２００℃の温度の容器中で、既にＡｌ層を有する基体上に噴霧する。 【００５４】 ポリマー層は、下記の様式で連続的に堆積させる：０．５ｇのジクロロ−ジ−
ｐ−キシレンを、１２０℃の温度及び１ｔｏｒｒの圧力で昇華させる。 その後得られる蒸気を、０．５ｔｏｒｒの圧力において６５０℃で熱分裂させる。 分裂生成物は、０．１ｔｏｒｒの圧力及び２５℃の温度において、基体上で自発的に重合させる。 続いて後処理を行うことは重要ではない。 すなわち、予備層の先駆物質と基体との反応、及び予備層とポリマー層との反応、及び後者の重合／架橋は、外部エネルギーの貢献なしで、２５℃において自発的に行わせる。 【００５５】 得られるポリマー層は、ポリ（パラキシレン）（ＰＰＸ−Ｃ）でできている。
この厚さは５００ｎｍである。 予備層の厚さは約３ｎｍである（厚さは、ポリマー層によって覆われていない試料のｘ線回折解析によって測定）。 【００５６】 この積層体にＮＳＳ（中性塩噴霧）試験を行う。 その様式は下記のようなものである：ｐＨが７で温度が３５℃の５０ｇ／ｌのＮａＣｌを含有する水溶液を、
層に噴霧する。 試験は、肉眼でアルミニウム層に腐食点が観察されたときに終了する。 【００５７】 この試験では、欠陥は１０日後に観察された。 これに対して、ポリマー層及びその予備層がない場合には、５日後には欠陥が観察された。 【００５８】 他の試験を行い、本発明に従ってコーティングされている基体を、予備層のない比較例によって調製した基体と比較した。 ここでは、予備層がないと、ＴＨＦ
若しくはキシレン溶媒浴、又は還流している水、又は塩素化芳香族溶媒に浸漬したときに、ＰＰＸ−Ｃ層は完全に剥離した。 これは１５分未満で起こった。 これに対して、予備層が存在する場合には、ＰＰＸ−Ｃ層は、これらいずれの溶媒中においても２４時間後にガラスにしっかりと付着したままである。 【００５９】 従って、ＰＰＸは非極性で非イオン性であるが、付着性予備層によって、ＰＰ
Ｘポリマー層がガラス基体に非常に良好に付着することがわかった。 これに対して予備層がないと、ポリマー層の局所的な剥離現象が起こる。 本発明の、その予備層と組み合わされた層は従って、下側層に関して、耐久的な保護の役割を効果的に行うことができる。 【００６０】 従って本発明は、ガラス物品保護のためにＰＰＸタイプのポリマーの使用を、
例えばその化学的変更を行う必要なしに可能にする。 【００６１】 ＰＰＸ層は透明である。 その透過率は、適当な染料を加えることによって低下させること、例えば起こりうる「２方向鏡」効果を減少させることができる。 【００６２】 ［例２］ この例の目的は、本発明の層を調製することである。 この層の機能は例えば、
ガラスの切断工程の間の破片又はくずからの機械的な保護、又はその輸送の間の摩擦に対する機械的な保護を行うことでよい。 【００６３】 堆積操作は、直接にガラスに行う。 堆積装置は例えば、上述の米国特許第５，
２６０，０５５号明細書で開示されているものである。 【００６４】 付着性予備層は、０．０５ｔｏｒｒの圧力でコーティングする基材を保持する容器中において、０．４ｔｏｒｒで６０℃に予め加熱された１０μｌの３−アクリロイルオキシプロピルトリクロロシランから堆積させる。 【００６５】 ポリマー層は、Ｃｉｂａからの０．５ｗｔ％のＩｒｇａｃｕｒｅ１８５０樹脂を添加されたＣｒａｙ Ｖａｌｌｅｙからの０．１ｍｌのＣＮ１３２（ＣＮ１３
１）（脂肪族ジアクリレートの群のオリゴマー）から、同じ容器中において連続的に堆積させる。 ここでこの混合物中に存在する酸素は混合物から除去し、また混合物は３５０℃に予め加熱している。 Ｉｒｇａｃｕｒｅは、Ｃｉｂａからのラジカル重合のための光開始剤を包含する商標名である。 これらの中では、ビス（
２，６−ジメトキシベンゾイル）（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィンオキシド又は１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを挙げることができる。 Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８５０は、これら２つの化合物の５０／５０混合物である。 （Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９であるビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ベンゾフェノン、Ｉｒｇａｃｕｒｅ５００の名称で販売される上述の化合物とベンゾフェノンとの組み合わせも挙げることができる） 【００６６】 後処理は自発的に行わせる。 この後処理は、減圧下の容器中に基体を維持すること、及び基体に水銀蒸気紫外線ランプからの照射を行うことからなる。 【００６７】 このようにしてコーティングした基体に次に、ＯＰＥＬ試験として知られる機械的摩擦試験を行う。 この試験は、木材パッドに１６．７Ｎの負荷を適用し、このパッドを基体の表面において往復運動させることからなる。 層の引っ掻きに対する抵抗性は、試験後の層の毛羽立ち（ｆｕｚｚｉｎｅｓｓ）の関数として評価する。 引っ掻きの回数が増加すると毛羽立ちが増加し、極端な場合には層が剥離する。 往復運動の数は、「ＯＰＥＬサイクル数」に対応している。 【００６８】 約１ｎｍの予備層厚さと、それぞれ５００ｎｍ及び７６０ｎｍポリマー層厚さに関して、ＯＰＥＬ試験の結果を下記の表１に組み合わせて示している（毛羽立ちは無次元の％で示している）： 【００６９】 【表１】 【００７０】 比較のために、予備層を伴わない同じポリマー層で比較例２を行った。 ＯＰＥ
Ｌ試験の結果は下記の表２に示している： 【００７１】 【表２】 【００７２】 これら２つの表から、予備層の存在が、ポリマー層の剥離抵抗性に非常に有益な影響を与えることが分かる。 すなわち、この予備層がない場合、厚さ５００ｎ
ｍ（及びそれ未満）のポリマー層はあまり抵抗性ではない。 予備層は、剥離が起こらなくなる最小ポリマー層厚さを小さくすることができる。 【００７３】 ［例３］ この例の目的は、厚さ１００ｎｍのフッ素でドープした酸化スズ（Ｆ：ＳｎＯ
２ ）の層の形の太陽光保護コーティングを具備する窓アセンブリ上に、疎水性で且つ機械的に耐久性の層を調製することである。 ここでこの層は、下記の既知の様式の気相熱分解（ＣＶＤ）によって堆積させる： ○堆積操作は、例２と同じ堆積装置及び同じ様式で行う、但しここではＦ：Ｓ
ｎＯ
２層上に行う、 ○付着性予備層は、０．４ｔｏｒｒで６０℃まで予備加熱した１０μｌの３−
（トリクロロゲルミル）プロピオニルクロリドを噴霧することによって堆積させる、 ○ポリマー層は、ＣｉｂａからのＩｒｇａｃｕｒｅ１８５０樹脂０．５ｗｔ％
０．０５ｍｌから連続的に堆積させる、ここでこの樹脂には光開始剤を加えて紫外線照射によって重合を開始できるようにしている、 ○例２と同じ後処理を行う、 ○厚さ０．７ｎｍの予備層（ポリマー層がない試料でのＸ線回折解析によって測定）及び厚さ３６０ｎｍのポリマー層を得る。 【００７４】 上述のＯＰＥＬ試験での結果は下記のようなものである： ○水との接触角は９５°で、コーティングされた基体に８００サイクルのＯＰ
ＥＬ試験を行った後で７０°超のままである、 ○予備層なしで実験を反復する場合、水との初期接触角は同じ９５°である。
対称的に、８００サイクルのＯＰＥＬ試験の後で、水との接触角は、３５°未満まで低下している。 これは、ポリマー層が破壊されたこと／剥離したことを間接的に示している。 【００７５】 結果として本発明は、減圧下のプロセスを使用するガラスへの薄層ポリマーの不適切な付着に関する問題のための、効果的で単純な解決手段を提供している。
本発明は、マイクロメートル未満の薄層のポリマーの耐摩耗性を有意に増加させることを可能にする。 これは、ガラスタイプの基体上のこのタイプの材料、特に光学的な役割を有する干渉層及び／又は保護層のより幅広い使用の可能性、並びに上述の全ての用途での使用の可能性を提供する。
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