1.一种制备涂覆金属制品的方法，其包括：
(a)通过物理气相沉积在金属或金属化基底表面的至少一部分上形成硬质涂层；
(b)通过等离子体沉积在所述硬质涂层表面的至少一部分上形成包含硅、氧和氢的粘结层；
(c)将包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物施加至所述粘结层表面的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述硬质涂层通过阴极电弧、溅射、热蒸发或电子束蒸发来形成。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述硬质涂层包含金属氮化物或混合金属氮化物。
4.根据权利要求3所述的方法，其中所述硬质涂层包含氮化钛。
5.根据权利要求3所述的方法，其中所述硬质涂层包含氮化锆。
6.根据权利要求3所述的方法，其中所述硬质涂层包含氮化铝。
7.根据权利要求3所述的方法，其中所述硬质涂层包含氮化钛铝。
8.根据权利要求1所述的方法，其中形成所述粘结层包括使包含有机硅或硅烷化合物中的至少一种的气体电离。
9.根据权利要求1所述的方法，其中所述粘结层还包含碳。
10.根据权利要求9所述的方法，其中所述粘结层包含钻石样玻璃。
11.根据权利要求9所述的方法，其中所述粘结层包含碳氧化硅。
12.根据权利要求9所述的方法，其中所述粘结层包含碳化硅。
13.根据权利要求9所述的方法，其中所述粘结层包含氧化硅或二氧化硅。
14.根据权利要求9所述的方法，其中所述粘结层包含氮化硅。
15.根据权利要求9所述的方法，其中所述粘结层包含氮氧化硅。
16.根据权利要求1所述的方法，其中所述包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物为由式V表示的季铵化硅烷：
其中b和c各自独立地为1至3的整数；Rf是全氟醚基团；A是式为-CdH2dZCgH2g-的连接基团，其中d和g独立地为0至10的整数，且Z选自共价键、羰基、磺酰基、酰胺基、亚磺酰氨基、亚氨基羰基、亚氨基磺酰基、氧羰基、脲基、氨基甲酸酯基、碳酸酯基和羰氧基；Y是具有1至10个碳原子的2至6价桥连基团，该桥连基团包含亚烷基或亚芳基中的至少一种；
Q是具有1至10个碳原子的2至6价连接基团，该桥连基团包含亚烷基或亚芳基中的至少
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一种；R 和R 独立地选自氢原子、烷基、芳基和芳烷基；每个R 独立地选自羟基、烷氧基、酰-
基、酰氧基、卤素基团和聚醚基团；且X 是抗衡离子，其选自无机阴离子、有机阴离子以及它们的组合。
17.根据权利要求1所述的方法，其中所述包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物为由式VI表示的季铵化硅烷：
其中Rf具有结构
-CF(CF3)(OCF2CF(CF3))mOCF2CF2CF2CF2O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)-，其中m是1至12的整数，且n是2至10的整数；c是约1至约3的整数；A是式为-CdH2dZCgH2g-的连接基团，其中d和g独立地为约0至约10的整数，且Z选自共价键、羰基、磺酰基、酰胺基、亚磺酰氨基、亚氨基羰基、亚氨基磺酰基、氧羰基、脲基、氨基甲酸酯基、碳酸酯基和羰氧基；Y是包含具有约1至约6个碳原子的亚烷基的桥连基团；Q是包含具有约1至约6个碳原子的亚烷基的连接基团；R1和R2独立地为具有约1至约4个碳原子的烷基；每个R3独立地选自羟基、甲氧基、乙氧基、乙酰氧基、氯基团和聚醚基团；且X-是抗衡离子，其选自卤离子、硫酸根离子、磷酸根离子、烷基磺酸根离子、芳基磺酸根离子、烷基膦酸根离子、芳基膦酸根离子、氟化烷基磺酸根离子、氟化芳基磺酸根离子、氟化烷基磺酰亚胺根离子、氟化烷基甲基化物离子以及它们的组合。
18.根据权利要求1所述的方法，其中所述包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物包含六氟环氧丙烷。
19.根据权利要求1所述的方法，其中所述包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物包括包含以下物质的组合物：
(a)由式VIIa表示的第一多氟聚醚硅烷：
CF3CF2CF2O(CF(CF3)CF2O)pCF(CF3)-C(O)NH(CH2)3Si(Y)3 VIIa
其中每个Y独立地为可水解的基团并且其中p为3至50；和
(b)由式IIXa表示的第二多氟聚醚硅烷：
(Y′)3Si(CH2)3NHC(O)-CF2O(CF2O)m(C2F4O)qCF2-C(O)NH(CH2)3Si(Y′)3 IIXa其中每个Y′独立地为可水解的基团并且其中m为1至50而q为3至40。
20.根据权利要求1所述的方法，其中所述包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物包括包含以下物质的组合物：
(a)由式VIIb表示的第一多氟聚醚硅烷实体：
CF3CF2CF2O(CF(CF3)CF2O)pCF(CF3)-C(O)NH(CH2)3Si(O-)3 VIIb
其中p为3至50；和
(b)由式IIXb表示的第二多氟聚醚硅烷实体：
(-O)3Si(CH2)3NHC(O)-CF2O(CF2O)m(C2F4O)qCF2-C(O)NH(CH2)3Si(O-)3 IIXb其中m为1至50，而q为3至40。
21.根据权利要求1所述的方法，其中所述硬质涂层采用阴极电弧沉积来形成，所述粘结层采用离子辅助等离子体沉积来形成，并且所述至少部分氟化的组合物通过热蒸发和冷凝所述组合物来施加。
22.根据权利要求21所述的方法，其中在单个沉积室内形成所述硬质涂层，形成所述粘结层，并且施加所述至少部分氟化的组合物。
23.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属或金属化基底包括不锈钢。
24.一种涂覆金属制品，其包括：
(a)金属或金属化基底；
(b)设置在所述金属或金属化基底的至少一部分上的物理气相沉积的硬质涂层；
(c)设置在所述硬质涂层表面的至少一部分上的包含硅、氧和氢的等离子体沉积的粘结层；和
(d)设置在所述粘结层表面的至少一部分上的包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物。
25.根据权利要求24所述的涂覆金属制品，其中所述制品为切削工具或元件。
26.根据权利要求24所述的涂覆金属制品，其中所述制品为厨房或浴室设备或器具。
27.根据权利要求24所述的涂覆金属制品，其中所述硬质涂层包含金属氮化物或混合金属氮化物。
28.根据权利要求24所述的涂覆金属制品，其中所述粘结层还包含碳。
29.根据权利要求24所述的涂覆金属制品，其中所述包含至少一个硅烷基的至少部分氟化的组合物包含六氟环氧丙烷。