一种显示基板、显示面板和显示装置 |
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| 申请号 | CN201510061125.X | 申请日 | 2015-02-05 | 公开(公告)号 | CN104570450A | 公开(公告)日 | 2015-04-29 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方显示技术有限公司; | 发明人 | 王耸; | ||||
| 摘要 | 本 发明 提供一种显示 基板 、 显示面板 和显示装置。该显示基板包括对位标记，对位标记用于在曝光形成显示基板上的第一膜层的图形时进行曝光设备的对位，对位标记的中间区域的厚度小于其边缘区域的厚度，以使对位标记涂布 光刻 胶 后的厚度均匀。该显示基板避免了对位标记在涂布光刻胶之后表面呈现“回”字状态，使对位标记在涂布光刻胶之后的表面平坦，从而使对位标记在涂布光刻胶之后的表面灰度均匀，界限清晰，进而解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光，提高了生产效率。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种显示基板，包括对位标记，所述对位标记用于在曝光形成所述显示基板上的第一膜层的图形时进行曝光设备的对位，其特征在于，所述对位标记的中间区域的厚度小于其边缘区域的厚度，以使所述对位标记涂布光刻胶后的厚度均匀。 |
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| 说明书全文 | 一种显示基板、显示面板和显示装置技术领域[0001] 本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种显示基板、显示面板和显示装置。 背景技术[0002] 液晶显示器(LCD：Liquid Crystal Display)因其体积小、功耗低、无辐射等特点已成为目前平板显示器中的主流产品。液晶显示面板是液晶显示器中的关键组件。液晶显示面板通常包括阵列基板和彩膜基板。 [0003] 在彩膜基板中彩膜层(包括红色彩膜层、绿色彩膜层和蓝色彩膜层)的制备工艺中，通常是将形成彩膜层的不同颜色的光刻胶材料涂布到基板上，在曝光工艺中，通过曝光机中的图像传感器CCD捕捉设置在基板上的对位标记，从而实现曝光机对彩膜层的曝光前对位以及曝光。其中，光刻胶材料在涂布完毕后，通常会覆盖对位标记。 [0004] 由于光刻胶材料本身的流动性，导致在对位标记上涂覆光刻胶材料后，对位标记表面的光刻胶材料的厚度出现不一致，如图1和图2所示，对位标记1表面中间区域11的光刻胶2材料的厚度大于其边缘区域12的光刻胶2材料的厚度，且经过试验发现，当对位标记1的表面为平面时，对应形成在对位标记1中间区域11表面的光刻胶2的厚度从中间区域11的中心P’向中间区域11的边缘L’呈抛物线形减小，即对位标记1涂布光刻胶2后表面呈现“回”字状态，这使得对位标记1的涂覆有光刻胶2材料的表面的灰度发生变化，从而导致曝光机对位无法聚焦，即曝光机无法通过捕捉对位标记1的位置进行准确对位，进而使曝光机无法自动进行曝光，同时还会发出报警。 [0005] 目前针对上述问题的普遍应对方法为对光刻胶的成分进行改善，降低光刻胶的流动性，但这种应对方法的时间周期长、成本高且可能导致其他工艺问题的出现，严重影响生产。 发明内容[0006] 本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种显示基板、显示面板和显示装置。该显示基板避免了对位标记在涂布光刻胶之后表面呈现“回”字状态，使对位标记在涂布光刻胶之后的表面平坦，从而使对位标记在涂布光刻胶之后的表面灰度均匀，界限清晰，进而解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光，提高了生产效率。 [0007] 本发明提供一种显示基板，包括对位标记，所述对位标记用于在曝光形成所述显示基板上的第一膜层的图形时进行曝光设备的对位，所述对位标记的中间区域的厚度小于其边缘区域的厚度，以使所述对位标记涂布光刻胶后的厚度均匀。 [0008] 优选地，所述对位标记的中间区域的厚度从所述中间区域的中心向所述中间区域的边缘呈抛物线形增大，所述对位标记的边缘区域的厚度均匀。 [0009] 优选地，所述对位标记的中间区域的厚度均匀，所述对位标记的边缘区域的厚度均匀。 [0010] 优选地，所述对位标记在所述显示基板上的正投影的形状为长方形、正方形、圆形或三角形。 [0011] 优选地，所述显示基板为彩膜基板，所述彩膜基板上形成有黑矩阵，所述对位标记采用与所述黑矩阵相同的材料、且与所述黑矩阵同层设置。 [0012] 优选地，所述第一膜层包括红色彩膜层、绿色彩膜层或蓝色彩膜层，所述红色彩膜层、所述绿色彩膜层和所述蓝色彩膜层的材质均为所述光刻胶的材质。 [0013] 优选地，所述显示基板为阵列基板，所述对位标记采用金属材料或绝缘材料制成。 [0015] 本发明还提供一种显示面板，包括上述显示基板。 [0016] 本发明还提供一种显示装置，包括上述显示面板。 [0017] 本发明的有益效果：本发明所提供的显示基板，对位标记中间区域的厚度小于其边缘区域的厚度，使对位标记整体呈凹坑状，对应涂布到对位标记的中间区域的光刻胶有一部分会填充到凹坑中，这避免了对位标记在涂布光刻胶之后表面呈现“回”字状态，使对位标记在涂布光刻胶之后的表面平坦，从而使对位标记在涂布光刻胶之后的表面灰度均匀，界限清晰，进而解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光，提高了生产效率。 [0018] 本发明所提供的显示面板，通过采用上述显示基板，不仅制备品质更加优良，同时还提高了该显示面板的生产效率。 [0020] 图1为现有技术中对位标记的结构剖视图； [0021] 图2为图1中的对位标记上涂布光刻胶之后的结构剖视图； [0022] 图3为本发明实施例1中对位标记的结构剖视图； [0023] 图4为图3中的对位标记上涂布光刻胶之后的结构剖视图； [0024] 图5为本发明实施例2中对位标记的结构剖视图。 [0025] 其中的附图标记说明： [0026] 1.对位标记；11.中间区域；12.边缘区域；2.光刻胶。 具体实施方式[0027] 为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种显示基板、显示面板和显示装置作进一步详细描述。 [0028] 实施例1： [0029] 本实施例提供一种显示基板，如图3和图4所示，包括对位标记1，对位标记1用于在曝光形成显示基板上的第一膜层的图形时进行曝光设备的对位，对位标记1的中间区域11的厚度小于其边缘区域12的厚度，以使对位标记1涂布光刻胶2后的厚度均匀。 [0030] 需要说明的是，边缘区域12围设在中间区域11的外围。对位标记1的中间区域11和边缘区域12的界限划分是根据现有技术中表面为平面的对位标记1上涂布的光刻胶的厚度分布情况进行划分的，即对应光刻胶2分布较厚的区域划定为中间区域11，中间区域11外围对应光刻胶2分布较薄的区域为边缘区域12，本实施例中对位标记1的厚度设置只要最终能够确保对位标记1涂布光刻胶2后的厚度均匀即可。 [0031] 对位标记1的上述设置使其整体呈凹坑状，对应涂布到对位标记1的中间区域11的光刻胶2有一部分会填充到凹坑中，这样最终使对位标记1涂布光刻胶2之后的表面平坦。如此设置，避免了对位标记1在涂布光刻胶2之后其表面呈现“回”字状态，使对位标记1在涂布光刻胶2之后的表面灰度均匀，界限清晰，从而解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光，提高了生产效率。 [0032] 本实施例中，对位标记1的中间区域11的厚度从中间区域11的中心P向中间区域11的边缘L呈抛物线形增大，对位标记1的边缘区域12的厚度均匀。如图2所示，由于经过试验发现，当对位标记1的表面为平面时，对应形成在对位标记1中间区域11表面的光刻胶2的厚度从中间区域11的中心P’向中间区域11的边缘L’呈抛物线形减小，所以如此设置，能使光刻胶2厚度较大的部分恰好填充到对位标记1的凹陷的中间区域11内，并能使对位标记1在涂布光刻胶2后的整体厚度均匀，从而使对位标记1涂布光刻胶2后的表面平坦，进而使对位标记1在涂布光刻胶2之后的表面灰度均匀，界限清晰，解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光。 [0033] 本实施例中，对位标记1在显示基板上的正投影的形状为正方形。当然，对位标记1的形状也不仅仅局限于这几种形状。对位标记1在显示基板上的正投影的形状还可以为长方形、圆形或三角形。 [0034] 本实施例中，显示基板为彩膜基板，彩膜基板上形成有黑矩阵，对位标记1采用与黑矩阵相同的材料、且与黑矩阵同层设置。即对位标记1与黑矩阵通过一次构图工艺同时形成。其中，对位标记1通过半色调掩膜工艺与黑矩阵同时形成，制作简便且不会额外增加显示基板的制备工艺。 [0035] 本实施例中，第一膜层包括红色彩膜层、绿色彩膜层或蓝色彩膜层，红色彩膜层、绿色彩膜层和蓝色彩膜层的材质均为光刻胶的材质。由于在涂布红色彩膜层、绿色彩膜层或蓝色彩膜层时，光刻胶材质的红色彩膜层、绿色彩膜层或蓝色彩膜层会同时覆盖整个对位标记1，所以本实施例中对位标记1的上述设置能够使光刻胶2厚度较大的部分恰好填充到对位标记1的凹陷的中间区域11内，并能使对位标记1在涂布光刻胶2后的整体厚度均匀，从而使对位标记1涂布光刻胶2后的表面平坦，进而使对位标记1在涂布光刻胶2之后的表面灰度均匀，界限清晰，解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光。 [0036] 需要说明的是，在彩膜基板上，第一膜层也不仅仅局限于上述三种彩膜层，其他的膜层只要是在曝光之前都需要先在该膜层上涂布光刻胶，然后再通过对位标记1使曝光设备进行准确对位后才能最终曝光形成该膜层的图形的，在曝光时均可采用本实施例中的对位标记1进行曝光设备的准确对位。 [0037] 实施例2： [0038] 本实施例提供一种显示基板，与实施例1不同的是，如图5所示，对位标记1的中间区域11的厚度均匀，对位标记1的边缘区域12的厚度均匀。 [0039] 由于显示基板上的对位标记1通常都设计的非常小(这主要是为了使对位标记1不会过多的占用显示基板上的面积)，所以对位标记1的中间区域11和边缘区域12的面积也相应非常小，对位标记1的上述设置完全能够实现使对位标记1涂布光刻胶后的厚度均匀。因此本实施例中对位标记1的上述设置也完全能够使对位标记1涂布光刻胶后的表面平坦，从而使对位标记1在涂布光刻胶之后的表面灰度均匀，界限清晰，进而解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光。 [0040] 本实施例中显示基板的其他结构与实施例1中相同，此处不再赘述。 [0041] 实施例3： [0042] 本实施例提供一种显示基板，与实施例1-2不同的是，显示基板为阵列基板，对位标记采用金属材料或绝缘材料制成。第一膜层包括像素电极层、栅极金属层、源漏金属层、有源层或公共电极层。 [0043] 本实施例中，对位标记采用的金属材料可以是像素电极层、栅极金属层、源漏金属层或公共电极层中任意一个膜层所采用的金属材料，当然，对位标记也可以采用形成有源层的材料制成。另外，对位标记还可以采用与阵列基板中任意一个绝缘层(如栅绝缘层或钝化层)的材料相同的材料制成。如此设置，能使对位标记与阵列基板上的某一膜层通过一次构图工艺同时制备形成，从而不会增加阵列基板的额外的工艺步骤。 [0044] 本实施例中，在阵列基板上制备形成像素电极层、栅极金属层、源漏金属层、有源层或公共电极层时，都是先在基板上形成一层该膜层，然后在该膜层上涂布光刻胶，接着通过对位标记使曝光设备准确对位，对位准确后曝光设备进行曝光，经过后续显影刻蚀后最终形成该膜层的图形。由于光刻胶在涂布到某个膜层上时，通常会同时覆盖整个对位标记，所以本实施例中的对位标记的设置同样能够使光刻胶厚度较大的部分恰好填充到对位标记的凹陷的中间区域内，并能使对位标记在涂布光刻胶后的整体厚度均匀，从而使对位标记涂布光刻胶后的表面平坦，进而使对位标记在涂布光刻胶之后的表面灰度均匀，界限清晰，解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光。 [0045] 需要说明的是，在阵列基板上，第一膜层也不仅仅局限于上述膜层，其他的膜层只要是在曝光之前都需要先在该膜层上涂布光刻胶，然后再通过对位标记使曝光设备进行准确对位后才能最终曝光形成该膜层的图形的，在曝光时均可采用本实施例中的对位标记进行曝光设备的准确对位。 [0046] 本实施例中显示基板的其他结构与实施例1-2中的任意一个相同，此处不再赘述。 [0047] 实施例1-3的有益效果：实施例1-3所提供的显示基板，对位标记中间区域的厚度小于其边缘区域的厚度，使对位标记整体呈凹坑状，对应涂布到对位标记的中间区域的光刻胶有一部分会填充到凹坑中，这避免了对位标记在涂布光刻胶之后表面呈现“回”字状态，使对位标记在涂布光刻胶之后的表面平坦，从而使对位标记在涂布光刻胶之后的表面灰度均匀，界限清晰，进而解决了曝光设备对位无法聚焦的问题，实现了曝光设备的自动对位和曝光，提高了生产效率。 [0048] 实施例4： [0049] 本实施例提供一种显示面板，包括实施例1-3任意一个中的显示基板。 [0050] 通过采用实施例1-3任意一个中的显示基板，能使该显示面板的制备品质更加优良，同时还提高了该显示面板的生产效率。 [0051] 实施例5： [0052] 本实施例提供一种显示装置，包括实施例4中的显示面板。 [0053] 通过采用实施例4中的显示面板，能使该显示装置的品质更加优良，同时还提高了该显示装置的生产效率。 [0054] 可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。 |
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