1.一种触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，包括：
在基板表面制作整体保护膜；
对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜；
对所述基板进行粗化处理，在所述按键保护膜以外的位置形成表面微结构；
对所述基板进行光化处理，减薄所述基板，在所述按键保护膜的下部形成3D按键；
去除所述按键保护膜。
2.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述在基板表面制作整体保护膜为：
在基板表面丝印抗酸刻保护膜或涂布光刻胶。
3.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述对所述基板进行粗化处理为：
将所述基板浸泡在蚀刻液中进行粗化处理。
4.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述对所述基板进行粗化处理为：
向所述基板喷淋蚀刻液。
5.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，
所述对所述基板进行光化处理为：
利用氢氟酸对所述基板进行光化处理。
6.根据权利要求1-5任一项所述的触摸屏盖板的制作方法，其特征在于，所述对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜包括：
利用掩膜版对所述整体保护膜进行曝光显影，形成与待设置按键的位置和形状相匹配的按键保护膜。