1.一种金属掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一衬底；
于所述衬底上形成一层有机膜；
于所述有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，且所述开口暴露所述有机膜的部分表面；
于所述光阻层上形成一层金属膜，所述金属膜覆盖所述光阻层的上表面并填充所述开口；
移除位于所述光阻层之上的所述金属膜；
将所述金属膜与所述有机膜、所述光阻层分离，以形成所述金属掩膜板。
2.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述有机膜的材质为聚酰亚胺。
3.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述于所述有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，且所述开口暴露所述有机膜的部分表面的步骤包括：
于所述有机膜之上形成一光阻层；
图案化所述光阻层，形成具有若干开口的光阻层，所述开口暴露所述有机膜的部分表面；
对所述光阻层进行硬化。
4.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述金属膜为Ni-Fe合金。
5.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用物理气相沉积的方法形成所述金属膜。
6.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用研磨的方法移除位于所述光阻层之上的所述金属膜。
7.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述将所述金属膜与所述有机膜、所述光阻层分离，以形成所述金属掩膜板的步骤包括：
将所述有机膜、所述金属膜和所述光阻层从所述衬底上剥离；
将所述有机膜和所述光阻层剥离去除，所述金属膜形成所述金属掩膜板。
8.如权利要求7所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用激光束将所述有机膜、所述金属膜和所述光阻层从所述衬底上剥离。
9.如权利要求7所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，采用剥离液将所述有机膜和所述光阻层剥离去除，所述金属膜形成所述金属掩膜板。
10.如权利要求9所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述剥离液为碱性液体。
11.如权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述金属掩膜板为精密金属掩膜板。